鐵金屬基材之氮化處理方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文鐵金屬基材之氮化處理方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I385278, 專利期間起是102/02/11, 專利期間訖是116/12/16, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是102, 計畫名稱是金屬中心產業技術環境建構計畫, 專利發明人是林昭憲.

序號	12924
產出年度	102
領域別	機械運輸
專利名稱-中文	鐵金屬基材之氮化處理方法
執行單位	金屬中心
產出單位	金屬中心
計畫名稱	金屬中心產業技術環境建構計畫
專利發明人	林昭憲
核准國家	中華民國
獲證日期	102/02/11
證書號碼	I385278
專利期間起	102/02/11
專利期間訖	116/12/16
專利性質	發明
技術摘要-中文	本專利主要是利用降低氮化處理時氨氣或含氨氣之混合氣體等滲氮氣體的壓力，以降低滲氮原子濃度，同時滲氮氣體的進氣採取脈衝方式，提供活性氮原子足夠與鐵原子結合的時間，以避免活性氮原子之間因濃度高時的頻繁碰撞而結合成氮分子，氮分子遷移聚集而形成氣泡，造成化合物層產生多孔質，降低化合物層的強度。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	林昭憲
電話	07-3513121
傳真	07-3522170
電子信箱	chlin@mail.mirdc.org.tw
參考網址	http://www.mirdc.org.tw
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

12924

產出年度

102

領域別

機械運輸

專利名稱-中文

鐵金屬基材之氮化處理方法

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

金屬中心產業技術環境建構計畫

專利發明人

林昭憲

核准國家

中華民國

獲證日期

102/02/11

證書號碼

I385278

專利期間起

102/02/11

專利期間訖

116/12/16

專利性質

發明

技術摘要-中文

本專利主要是利用降低氮化處理時氨氣或含氨氣之混合氣體等滲氮氣體的壓力，以降低滲氮原子濃度，同時滲氮氣體的進氣採取脈衝方式，提供活性氮原子足夠與鐵原子結合的時間，以避免活性氮原子之間因濃度高時的頻繁碰撞而結合成氮分子，氮分子遷移聚集而形成氣泡，造成化合物層產生多孔質，降低化合物層的強度。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

林昭憲

電話

07-3513121

傳真

07-3522170

電子信箱

chlin@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw

備註

(空)

特殊情形

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可調整變放電空間之常壓微小電漿流噴頭	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I339143 \| 專利期間起: 100/03/21 \| 專利期間訖: 116/11/21 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 林昭憲 @ 技術司專利資料集
抗沾黏模具及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I360470 \| 專利期間起: 101/03/21 \| 專利期間訖: 118/12/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 林昭憲 @ 技術司專利資料集
顆粒篩選裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I424083 \| 專利期間起: 120/08/25 \| 專利期間訖: 本專利發明為一種用於真空鍍膜領域之顆粒篩選裝置 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 103 \| 計畫名稱: 高值化金屬材料暨製造技術研發計畫 \| 專利發明人: 吳政諺 \| 楊濟華 \| 林昭憲 \| 黃家宏 @ 技術司專利資料集
微流道結構的製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I484548 \| 專利期間起: 104/05/11 \| 專利期間訖: 121/12/27 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 林昭憲 @ 技術司專利資料集
具有抗沾黏膜層之樂器及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I496135 \| 專利期間起: 104/08/11 \| 專利期間訖: 121/12/23 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 黃建龍 \| 林昭憲 \| 高于迦 \| 莊道良 \| 吳政諺 @ 技術司專利資料集
具螺牙結構的零件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I527647 \| 專利期間起: 105/04/01 \| 專利期間訖: 122/11/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 105 \| 計畫名稱: 高值化金屬材料暨製造技術研發計畫 \| 專利發明人: 林昭憲 @ 技術司專利資料集
鎳鈦合金製品及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I532850 \| 專利期間起: 105/05/11 \| 專利期間訖: 122/11/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 105 \| 計畫名稱: 高值化金屬材料暨製造技術研發計畫 \| 專利發明人: 林昭憲 @ 技術司專利資料集
韌我行: 科技致能永續台灣	作者: 林昭憲 \| 岳俊豪 \| 熊治民 \| 廖聖愷 \| 林均 \| 趙淯琳 \| 黃裕斌 \| 洪國哲 \| 歐宜佩 \| 高吟瑜 \| 王允中 \| 周暐程 \| 張耀仁 \| 游佩芬 \| 姚雨欣... \| 出版機構: 工研院產科國際所 \| 版次: 初版 \| 預訂出版日: 2024-10-00 \| 適讀對象: 成人(一般) \| 頁數: 70 \| 得獎紀錄: \| ISBN: 9789862644195 @ 臺灣出版新書預告書訊

韌我行: 科技致能永續台灣

作者: 林昭憲 | 岳俊豪 | 熊治民 | 廖聖愷 | 林均 | 趙淯琳 | 黃裕斌 | 洪國哲 | 歐宜佩 | 高吟瑜 | 王允中 | 周暐程 | 張耀仁 | 游佩芬 | 姚雨欣... | 出版機構: 工研院產科國際所 | 版次: 初版 | 預訂出版日: 2024-10-00 | 適讀對象: 成人(一般) | 頁數: 70 | 得獎紀錄: | ISBN: 9789862644195

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財團法人金屬工業研究發展中心（MIRDC）	機構電話: (07)3513121 \| 有效期間: 至113.7.31\|至113.6.15編號：001 \| 機構住址: 高雄市楠梓區高楠公路1001號 \| 認可範圍: 1.動力衝剪機械。\|2.木材加工用圓盤鋸。\|3.研磨機。\|4.研磨輪。\|5.動力堆高機。\|6.交流電焊機之自動電擊防止裝置。 @ 勞動部認可型式檢定機構清單
氣體擴散室	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 101146066 \| 專利期間起: 104/07/17 \| 專利期間訖: 121/07/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 吳春森 @ 技術司專利資料集
具阻尼限速功能之助行器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I344362 \| 專利期間起: 100/07/01 \| 專利期間訖: 116/12/27 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 崔海平 \| 林大裕 \| 紀青迪 \| 邱冠智 @ 技術司專利資料集
放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810185135.4 \| 專利期間起: 100/07/20 \| 專利期間訖: 117/12/09 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂育廷 \| 楊忠義 \| 莊殷 \| 許富銓 @ 技術司專利資料集
超精密壓電定位平台	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249593.4 \| 專利期間起: 101/07/18 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 洪國凱 \| 游源成 \| 劉冠志 \| 黃加助 @ 技術司專利資料集
一種人體植入物及其製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249594.9 \| 專利期間起: 102/07/03 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 \| 專利發明人: 邱松茂 @ 技術司專利資料集
水解纖維素系統及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400248 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 118/12/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄧育庭 \| 郭子禎 \| 洪俊宏 @ 技術司專利資料集
醫療器材與其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400100 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 119/09/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王鍏晴 \| 施威任 \| 陳維德 \| 周金龍 @ 技術司專利資料集

財團法人金屬工業研究發展中心（MIRDC）

@ 勞動部認可型式檢定機構清單

氣體擴散室

@ 技術司專利資料集

具阻尼限速功能之助行器

@ 技術司專利資料集

放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置

@ 技術司專利資料集

超精密壓電定位平台

@ 技術司專利資料集

一種人體植入物及其製造方法

@ 技術司專利資料集

水解纖維素系統及方法

@ 技術司專利資料集

醫療器材與其製造方法

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公司地址	負責人	統一編號	狀態
允成企業社嘉義市西區福民里徐州三街８３號一樓	林昭憲	25752689	核准設立 - 獨資 (核准文號: 1070172090)
歐鉅不動產鑑定顧問有限公司嘉義市西區福民里徐州三街83號1樓	林昭憲	70666794	核准設立
東宏汽車商行新竹縣竹東鎮頭重里中興路４段５０８―６號	林昭憲	78004306	歇業 - 獨資

允成企業社

登記地址: 嘉義市西區福民里徐州三街８３號一樓 | 負責人: 林昭憲 | 統編: 25752689 | 核准設立 - 獨資 (核准文號: 1070172090)

歐鉅不動產鑑定顧問有限公司

登記地址: 嘉義市西區福民里徐州三街83號1樓 | 負責人: 林昭憲 | 統編: 70666794 | 核准設立

東宏汽車商行

登記地址: 新竹縣竹東鎮頭重里中興路４段５０８―６號 | 負責人: 林昭憲 | 統編: 78004306 | 歇業 - 獨資

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液晶顯示器反射表面的製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195728 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 韋忠光
以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6713377 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英 \| 黃尊禧
以無電鍍法於氮化物障礙層上沉積金屬導線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6660625 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英 \| 黃尊禧
消除光阻中近接效應之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 183704 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 高蔡勝 \| 戴昌銘
製造反射型液晶顯示面板之方法及所製之裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185243 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 丁岱良
具凸起結構之多域配向液晶顯示器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188081 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達
具凸起結構之多域配向液晶顯示器	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6747727 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達
正向修補型之薄膜電晶體液晶顯示裝置以及正向修補方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6714269 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃庭輝
低漏光及低訊號線阻值之IPS-TFT 陣列設計	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185400 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張世昌 \| 陳志宏 \| 劉秉德
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一種整合影像感測器及液晶顯示器的主動矩陣陣列及其半導體裝置結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185401 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 吳逸蔚
用在真空顯示面板之吸氣劑總成	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195740 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李正中 \| 簡瑞峰
多域分割垂直配向液晶顯示器的結構及其凸塊結構的製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185419 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達
微型生物培養裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188117 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 \| 專利發明人: 姚南光 \| 翁國曜
微流體導引裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6743636 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂 \| 張為傑 \| 蕭价伶 \| 翁國曜

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