電解加工方法及電解加工件半成品
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文電解加工方法及電解加工件半成品的核准國家是中華民國, 執行單位是金屬中心, 產出年度是103, 專利性質是發明, 計畫名稱是金屬中心產業技術環境建構計畫, 專利發明人是洪榮洲、林大裕, 證書號碼是I435785.

序號14917
產出年度103
領域別製造精進
專利名稱-中文電解加工方法及電解加工件半成品
執行單位金屬中心
產出單位金屬中心
計畫名稱金屬中心產業技術環境建構計畫
專利發明人洪榮洲、林大裕
核准國家中華民國
獲證日期103/05/01
證書號碼I435785
專利期間起119/12/29
專利期間訖本發明關於一種電解加工方法,藉由此加工方法提高電解加工之尺寸精度,特別對於導電度較高之金屬加工件進行電解加工時,先形成一金屬遮罩層於該加工件之表面,藉由金屬遮罩層作為電解加工之保護犧牲層,同時保護加工件之非加工區域,以降低加工件之側向加工性,如此提高加工件電解加工之尺寸精度,同時亦提高兩加工結構之間隔尺寸微小化之電解加工可行性。此外,本發明提供一種電解加工件半成品,其包含加工件以及金屬遮罩層,金屬遮罩層形成於加工件之表面,金屬遮罩層之導電度或體積電化學當量小於加工件之導電度或體積電化學當量。
專利性質發明
技術摘要-中文本發明關於一種電解加工方法,藉由此加工方法提高電解加工之尺寸精度,特別對於導電度較高之金屬加工件進行電解加工時,先形成一金屬遮罩層於該加工件之表面,藉由金屬遮罩層作為電解加工之保護犧牲層,同時保護加工件之非加工區域,以降低加工件之側向加工性,如此提高加工件電解加工之尺寸精度,同時亦提高兩加工結構之間隔尺寸微小化之電解加工可行性。此外,本發明提供一種電解加工件半成品,其包含加工件以及金屬遮罩層,金屬遮罩層形成於加工件之表面,金屬遮罩層之導電度或體積電化學當量小於加工件之導電度或體積電化學當量。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員林大裕
電話04-23502169
傳真04-23501174
電子信箱dayu@mail.mirdc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

14917

產出年度

103

領域別

製造精進

專利名稱-中文

電解加工方法及電解加工件半成品

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

金屬中心產業技術環境建構計畫

專利發明人

洪榮洲、林大裕

核准國家

中華民國

獲證日期

103/05/01

證書號碼

I435785

專利期間起

119/12/29

專利期間訖

本發明關於一種電解加工方法,藉由此加工方法提高電解加工之尺寸精度,特別對於導電度較高之金屬加工件進行電解加工時,先形成一金屬遮罩層於該加工件之表面,藉由金屬遮罩層作為電解加工之保護犧牲層,同時保護加工件之非加工區域,以降低加工件之側向加工性,如此提高加工件電解加工之尺寸精度,同時亦提高兩加工結構之間隔尺寸微小化之電解加工可行性。此外,本發明提供一種電解加工件半成品,其包含加工件以及金屬遮罩層,金屬遮罩層形成於加工件之表面,金屬遮罩層之導電度或體積電化學當量小於加工件之導電度或體積電化學當量。

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明關於一種電解加工方法,藉由此加工方法提高電解加工之尺寸精度,特別對於導電度較高之金屬加工件進行電解加工時,先形成一金屬遮罩層於該加工件之表面,藉由金屬遮罩層作為電解加工之保護犧牲層,同時保護加工件之非加工區域,以降低加工件之側向加工性,如此提高加工件電解加工之尺寸精度,同時亦提高兩加工結構之間隔尺寸微小化之電解加工可行性。此外,本發明提供一種電解加工件半成品,其包含加工件以及金屬遮罩層,金屬遮罩層形成於加工件之表面,金屬遮罩層之導電度或體積電化學當量小於加工件之導電度或體積電化學當量。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

林大裕

電話

04-23502169

傳真

04-23501174

電子信箱

dayu@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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電化學加工裝置及其加工方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕 | 證書號碼: US8,268,137B2

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電化學加工裝置及其加工方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕 | 證書號碼: I383853

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電沉積裝置及其加工機

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕 | 證書號碼: I453304

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柱狀體及其成型裝置及其成型方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲、劉淑娟 | 證書號碼: I425217

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電加工方法與加工設備,以及應用於電加工的基準位置檢測方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲 | 證書號碼: I501827

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電化學加工裝置及加工方法及其電極單元

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲、許志成 | 證書號碼: ZL200910261341.3

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電加工方法與加工設備,以及應用於電加工的基準位置檢測方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲 | 證書號碼: ZL201210583071.X

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電化學加工用振動裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕、劉衾瑋 | 證書號碼: ZL201110461240.8

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電化學加工裝置及其加工方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕 | 證書號碼: US8,268,137B2

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電化學加工裝置及其加工方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕 | 證書號碼: I383853

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電沉積裝置及其加工機

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕 | 證書號碼: I453304

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

柱狀體及其成型裝置及其成型方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲、劉淑娟 | 證書號碼: I425217

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電加工方法與加工設備,以及應用於電加工的基準位置檢測方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲 | 證書號碼: I501827

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

電化學加工裝置及加工方法及其電極單元

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲、許志成 | 證書號碼: ZL200910261341.3

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電加工方法與加工設備,以及應用於電加工的基準位置檢測方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 林大裕、洪榮洲 | 證書號碼: ZL201210583071.X

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電化學加工用振動裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 洪榮洲、林大裕、劉衾瑋 | 證書號碼: ZL201110461240.8

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# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號2308
產出年度96
技術名稱-中文精微成形設備開發技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文"藉由沖床『設計分析』與『伺服控制』之技術,提升0.5噸次世代沖床下死點精度至1㎛ 。 運用精密加工技術配合沖床結構設計,有效提高沖床靜態精度至㎛級,更適於超精密沖壓_x000D_"_x000D_
技術現況敘述-英文(空)
技術規格下死點精度≦1μm 、沖壓能力:0.5噸 、 滑塊行程:10mm、 滑塊回轉數:30~100 spm_x000D_
技術成熟度其他
可應用範圍3C產業(微型光碟機、微型硬碟機、感測器)_x000D_
潛力預估隨系統廠微形裝置之開發,其所需之精微扣件微機構元件等之需求將會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。 _x000D_
聯絡人員陳弘毅
電話04-23502169#520
傳真04-23502169
電子信箱hyc@mail.mirdctc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備結構分析軟體、繪圖軟體、精密加工機、焊接設備、控制軟體、鑄造設備、熱處理設備、精密量床等_x000D_
需具備之專業人才材料、機械、電機相關背景。_x000D_
序號: 2308
產出年度: 96
技術名稱-中文: 精微成形設備開發技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: "藉由沖床『設計分析』與『伺服控制』之技術,提升0.5噸次世代沖床下死點精度至1㎛ 。 運用精密加工技術配合沖床結構設計,有效提高沖床靜態精度至㎛級,更適於超精密沖壓_x000D_"_x000D_
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 下死點精度≦1μm 、沖壓能力:0.5噸 、 滑塊行程:10mm、 滑塊回轉數:30~100 spm_x000D_
技術成熟度: 其他
可應用範圍: 3C產業(微型光碟機、微型硬碟機、感測器)_x000D_
潛力預估: 隨系統廠微形裝置之開發,其所需之精微扣件微機構元件等之需求將會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。 _x000D_
聯絡人員: 陳弘毅
電話: 04-23502169#520
傳真: 04-23502169
電子信箱: hyc@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: http://www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備: 結構分析軟體、繪圖軟體、精密加工機、焊接設備、控制軟體、鑄造設備、熱處理設備、精密量床等_x000D_
需具備之專業人才: 材料、機械、電機相關背景。_x000D_

# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號16905
產出年度104
領域別製造精進
專利名稱-中文防護裝置
執行單位金屬中心
產出單位金屬中心
計畫名稱精微製造之系統整合與智慧化研發計畫
專利發明人劉衾瑋、林大裕、陳佑論、陳弘毅
核准國家中華民國
獲證日期104/04/21
證書號碼I481467
專利期間起104/04/21
專利期間訖119/12/25
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提案為一種防護單元,以保護置其內之一移動裝置,該防護單元包括一環繞結構、一彈性環繞件及一端面蓋,其中該環繞結構形成容置空間於其內以容置移動裝置設置,且其端緣形成有環溝槽以容置彈性環繞件,該端面蓋連接於該移動裝置,同時相鄰該環繞結構之端緣,且可移動地鄰接於該彈性環繞件,該端面蓋之面積大於該環繞結構端緣之環繞環面積,如此可防止灰塵、水氣進該防護單元內,因此可保護內置之移動裝置,特別利用於電化學加工之裝置上,有利於使用於潮濕、腐蝕環境,以保護移動裝置,避免其腐蝕損壞。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉衾瑋
電話04-23502169-527
傳真04-23501174
電子信箱kiwiliu@mail.mirdc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 16905
產出年度: 104
領域別: 製造精進
專利名稱-中文: 防護裝置
執行單位: 金屬中心
產出單位: 金屬中心
計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫
專利發明人: 劉衾瑋、林大裕、陳佑論、陳弘毅
核准國家: 中華民國
獲證日期: 104/04/21
證書號碼: I481467
專利期間起: 104/04/21
專利期間訖: 119/12/25
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提案為一種防護單元,以保護置其內之一移動裝置,該防護單元包括一環繞結構、一彈性環繞件及一端面蓋,其中該環繞結構形成容置空間於其內以容置移動裝置設置,且其端緣形成有環溝槽以容置彈性環繞件,該端面蓋連接於該移動裝置,同時相鄰該環繞結構之端緣,且可移動地鄰接於該彈性環繞件,該端面蓋之面積大於該環繞結構端緣之環繞環面積,如此可防止灰塵、水氣進該防護單元內,因此可保護內置之移動裝置,特別利用於電化學加工之裝置上,有利於使用於潮濕、腐蝕環境,以保護移動裝置,避免其腐蝕損壞。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉衾瑋
電話: 04-23502169-527
傳真: 04-23501174
電子信箱: kiwiliu@mail.mirdc.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號18825
產出年度105
領域別製造精進
專利名稱-中文防護裝置
執行單位金屬中心
產出單位金屬中心
計畫名稱精微製造之系統整合與智慧化研發計畫
專利發明人劉衾瑋、陳弘毅、林大裕、陳佑論
核准國家中國大陸
獲證日期105/04/13
證書號碼ZL201310579215.9
專利期間起105/03/02
專利期間訖120/12/29
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提案為一種防護單元,以保護置其內之一移動裝置,該防護單元包括一環繞結構、一彈性環繞件及一端面蓋,其中該環繞結構形成容置空間於其內以容置移動裝置設置,且其端緣形成有環溝槽以容置彈性環繞件,該端面蓋連接於該移動裝置,同時相鄰該環繞結構之端緣,且可移動地鄰接於該彈性環繞件,該端面蓋之面積大於該環繞結構端緣之環繞環面積,如此可防止灰塵、水氣進該防護單元內,因此可保護內置之移動裝置,特別利用於電化學加工之裝置上,有利於使用於潮濕、腐蝕環境,以保護移動裝置,避免其腐蝕損壞。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉衾瑋
電話04-23502169 # 527
傳真04-23501174
電子信箱kiwiliu@mail.mirdc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 18825
產出年度: 105
領域別: 製造精進
專利名稱-中文: 防護裝置
執行單位: 金屬中心
產出單位: 金屬中心
計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫
專利發明人: 劉衾瑋、陳弘毅、林大裕、陳佑論
核准國家: 中國大陸
獲證日期: 105/04/13
證書號碼: ZL201310579215.9
專利期間起: 105/03/02
專利期間訖: 120/12/29
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提案為一種防護單元,以保護置其內之一移動裝置,該防護單元包括一環繞結構、一彈性環繞件及一端面蓋,其中該環繞結構形成容置空間於其內以容置移動裝置設置,且其端緣形成有環溝槽以容置彈性環繞件,該端面蓋連接於該移動裝置,同時相鄰該環繞結構之端緣,且可移動地鄰接於該彈性環繞件,該端面蓋之面積大於該環繞結構端緣之環繞環面積,如此可防止灰塵、水氣進該防護單元內,因此可保護內置之移動裝置,特別利用於電化學加工之裝置上,有利於使用於潮濕、腐蝕環境,以保護移動裝置,避免其腐蝕損壞。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉衾瑋
電話: 04-23502169 # 527
傳真: 04-23501174
電子信箱: kiwiliu@mail.mirdc.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號881
產出年度94
技術名稱-中文多向閥機構設計開發技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 10kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度試量產
可應用範圍超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價8,000元,量產初期10,000個/年,產值可達8,000萬元以上。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才閥類設計或機械加工相關背景。
序號: 881
產出年度: 94
技術名稱-中文: 多向閥機構設計開發技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 10kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價8,000元,量產初期10,000個/年,產值可達8,000萬元以上。
聯絡人員: 林庭凱
電話: 04-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備: 精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才: 閥類設計或機械加工相關背景。

# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號882
產出年度94
技術名稱-中文超鏡面加工技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,克服熱效應及表面施力之缺點,提升加工效率及產品穩定性。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格表面精度≦ 0.13μm、鏡面反射率≧ 60%、鈍化膜厚度≧25 A。
技術成熟度雛型
可應用範圍超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。
潛力預估應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約30%。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備
需具備之專業人才機械加工及拋光技術相關背景。
序號: 882
產出年度: 94
技術名稱-中文: 超鏡面加工技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,克服熱效應及表面施力之缺點,提升加工效率及產品穩定性。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 表面精度≦ 0.13μm、鏡面反射率≧ 60%、鈍化膜厚度≧25 A。
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。
潛力預估: 應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約30%。
聯絡人員: 林庭凱
電話: 04-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備:
需具備之專業人才: 機械加工及拋光技術相關背景。

# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號886
產出年度94
技術名稱-中文超精密沖壓設備設計分析技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文國內沖床下死點精度 0.03~0.1mm。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格下死點精度 :≦ 0.006mm 、公稱壓力:30KN、滑塊行程:15mm。
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍3C光電、鐘錶、馬達等產業。
潛力預估隨系統廠微型裝置之開發,其所需之精微扣件、傳動軸件、微機構元件、微結構零件與殼件之需求會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。
聯絡人員陳弘毅
電話04-23502169轉520
傳真04-23501174
電子信箱hyc@mail.mirdctc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備機構/結構分析軟體。
需具備之專業人才機械相關背景。
序號: 886
產出年度: 94
技術名稱-中文: 超精密沖壓設備設計分析技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 國內沖床下死點精度 0.03~0.1mm。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 下死點精度 :≦ 0.006mm 、公稱壓力:30KN、滑塊行程:15mm。
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 3C光電、鐘錶、馬達等產業。
潛力預估: 隨系統廠微型裝置之開發,其所需之精微扣件、傳動軸件、微機構元件、微結構零件與殼件之需求會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。
聯絡人員: 陳弘毅
電話: 04-23502169轉520
傳真: 04-23501174
電子信箱: hyc@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備: 機構/結構分析軟體。
需具備之專業人才: 機械相關背景。

# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 7

序號1886
產出年度95
技術名稱-中文壓力調節閥機構設計開發技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 35kg /cm2、調壓範圍 0~3.5kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度雛型
可應用範圍超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價35,000元,量產初期1,500個/年,產值可達5,000萬元以上。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才閥類設計或機械加工相關背景。
序號: 1886
產出年度: 95
技術名稱-中文: 壓力調節閥機構設計開發技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 35kg /cm2、調壓範圍 0~3.5kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價35,000元,量產初期1,500個/年,產值可達5,000萬元以上。
聯絡人員: 林庭凱
電話: 04-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備: 精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才: 閥類設計或機械加工相關背景。

# 04-23502169 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 8

序號1887
產出年度95
技術名稱-中文電解複合研磨加工技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,利用電解作用進行表面材料去除,克服工具痕跡及表面施力之缺點,提升加工效率及工件表面品質。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格表面精度≦ 0.05μm。
技術成熟度試量產
可應用範圍超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。
潛力預估應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約50%。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備電解複合研磨加工設備。
需具備之專業人才機械加工及拋光技術相關背景。
序號: 1887
產出年度: 95
技術名稱-中文: 電解複合研磨加工技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,利用電解作用進行表面材料去除,克服工具痕跡及表面施力之缺點,提升加工效率及工件表面品質。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 表面精度≦ 0.05μm。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。
潛力預估: 應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約50%。
聯絡人員: 林庭凱
電話: 04-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備: 電解複合研磨加工設備。
需具備之專業人才: 機械加工及拋光技術相關背景。
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與電解加工方法及電解加工件半成品同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

鋼瓶擊發裝置改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 李台富、林梓淵、馮濟軍、夏宏中 | 證書號碼: 217926

鋼瓶擊發裝置改良結構

核准國家: 德國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 李台富、林梓淵、馮濟軍、夏宏中 | 證書號碼: 203 13 619.5

機械式擊發器的改良構造

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 黃秀雄、馮濟軍、夏宏中、王金鵬 | 證書號碼: M247755

爆通閥充氣器

核准國家: 德國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 張達明、夏宏中、馮濟軍 | 證書號碼: 203 14 901.7

機械式擊發裝置的改良構造

核准國家: 日本 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 黃秀雄、馮濟軍、夏宏中 | 證書號碼: 3104482

充氣裝置的啟動裝置

核准國家: 日本 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 馮濟軍、曾雲彰、夏宏中 | 證書號碼: 3105796

火藥點燃特性測試裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 蔡隆明 | 證書號碼: 224613

啟動裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 馮濟軍、曾雲彰、夏宏中 | 證書號碼: M251973

混合式充氣器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 王敬輝、蔡泰和、蔡隆明 | 證書號碼: 225920

豬水庖病病毒衍生載體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 基因藥物技術及產品開發四年計畫 | 專利發明人: 林龍參 | 證書號碼: 發明第 204494 號

一種廢水處理裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 專利發明人: 林燕輝 | 證書號碼: 發明第 204592 號

尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 李彩雲等 | 證書號碼: US 6699720 B1

尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法

核准國家: 歐盟 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 李彩雲等 | 證書號碼: EP 1160571

檢測7-胺基-FM2 (7-amino-flunitrazepam)之單株抗體,產生該抗體之融合瘤及其用途

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 溫國蘭等 | 證書號碼: 發明第 199705 號

類原球體同步化增殖用培養基以及其培養方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 免疫調節與抗老化中草藥產品開發四年計畫 | 專利發明人: 吳瑞鈺,劉祖惠,白壽雄,張立言,楊曼君 ,陳韻雯 | 證書號碼: 發明第 201190 號

鋼瓶擊發裝置改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 李台富、林梓淵、馮濟軍、夏宏中 | 證書號碼: 217926

鋼瓶擊發裝置改良結構

核准國家: 德國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 李台富、林梓淵、馮濟軍、夏宏中 | 證書號碼: 203 13 619.5

機械式擊發器的改良構造

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 黃秀雄、馮濟軍、夏宏中、王金鵬 | 證書號碼: M247755

爆通閥充氣器

核准國家: 德國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 張達明、夏宏中、馮濟軍 | 證書號碼: 203 14 901.7

機械式擊發裝置的改良構造

核准國家: 日本 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 黃秀雄、馮濟軍、夏宏中 | 證書號碼: 3104482

充氣裝置的啟動裝置

核准國家: 日本 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 馮濟軍、曾雲彰、夏宏中 | 證書號碼: 3105796

火藥點燃特性測試裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 蔡隆明 | 證書號碼: 224613

啟動裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 馮濟軍、曾雲彰、夏宏中 | 證書號碼: M251973

混合式充氣器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 專利發明人: 王敬輝、蔡泰和、蔡隆明 | 證書號碼: 225920

豬水庖病病毒衍生載體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 基因藥物技術及產品開發四年計畫 | 專利發明人: 林龍參 | 證書號碼: 發明第 204494 號

一種廢水處理裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 專利發明人: 林燕輝 | 證書號碼: 發明第 204592 號

尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 李彩雲等 | 證書號碼: US 6699720 B1

尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法

核准國家: 歐盟 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 李彩雲等 | 證書號碼: EP 1160571

檢測7-胺基-FM2 (7-amino-flunitrazepam)之單株抗體,產生該抗體之融合瘤及其用途

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 溫國蘭等 | 證書號碼: 發明第 199705 號

類原球體同步化增殖用培養基以及其培養方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 免疫調節與抗老化中草藥產品開發四年計畫 | 專利發明人: 吳瑞鈺,劉祖惠,白壽雄,張立言,楊曼君 ,陳韻雯 | 證書號碼: 發明第 201190 號

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