超鏡面加工技術
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技術名稱-中文超鏡面加工技術的執行單位是金屬中心, 產出年度是94, 計畫名稱是金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫, 技術規格是表面精度≦ 0.13μm、鏡面反射率≧ 60%、鈍化膜厚度≧25 A。, 潛力預估是應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約30%。.

序號882
產出年度94
技術名稱-中文超鏡面加工技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,克服熱效應及表面施力之缺點,提升加工效率及產品穩定性。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格表面精度≦ 0.13μm、鏡面反射率≧ 60%、鈍化膜厚度≧25 A。
技術成熟度雛型
可應用範圍超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。
潛力預估應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約30%。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備
需具備之專業人才機械加工及拋光技術相關背景。
同步更新日期2023-07-22

序號

882

產出年度

94

技術名稱-中文

超鏡面加工技術

執行單位

金屬中心

產出單位

(空)

計畫名稱

金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,克服熱效應及表面施力之缺點,提升加工效率及產品穩定性。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

表面精度≦ 0.13μm、鏡面反射率≧ 60%、鈍化膜厚度≧25 A。

技術成熟度

雛型

可應用範圍

超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。

潛力預估

應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約30%。

聯絡人員

林庭凱

電話

04-23502169轉519

傳真

04-23501174

電子信箱

ltk@mail.mirdctc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw/

所須軟硬體設備

需具備之專業人才

機械加工及拋光技術相關背景。

同步更新日期

2023-07-22

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# 超鏡面加工技術 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

序號7252
產出年度93
技術名稱-中文超鏡面加工技術先期研究
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫
領域製造精進
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文建立不銹鋼材質之電解拋光技術,以直流電源利用電解液與電流、電壓控制結合磨料操作參數及前、後處理技術,同時加工使加快研磨速度及表面鏡面生成。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格‧工作電壓< 20Volt,工作電流<500Amp ‧加工前 Ra < 0.6μm,加工後 Ra <0.15μm ‧鏡面反射率55﹪
技術成熟度雛型
可應用範圍光電、半導體產業用精密零組件。
潛力預估針對光電、半導體產業用配管及零組件加工之精密加工技術,對於未來整體光電、半導體產業產品潔淨度之要求,提供業者具非常大的商機及市場。
聯絡人員顏宏陸
電話07-3513121*2362
傳真07-3528283
電子信箱louisyen@mail.mirdc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備NC車床、銑床、電解拋光設備等。
需具備之專業人才具精密加工、表面處理等相關技術或經驗等專業人士。
序號: 7252
產出年度: 93
技術名稱-中文: 超鏡面加工技術先期研究
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫
領域: 製造精進
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 建立不銹鋼材質之電解拋光技術,以直流電源利用電解液與電流、電壓控制結合磨料操作參數及前、後處理技術,同時加工使加快研磨速度及表面鏡面生成。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: ‧工作電壓< 20Volt,工作電流<500Amp ‧加工前 Ra < 0.6μm,加工後 Ra <0.15μm ‧鏡面反射率55﹪
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 光電、半導體產業用精密零組件。
潛力預估: 針對光電、半導體產業用配管及零組件加工之精密加工技術,對於未來整體光電、半導體產業產品潔淨度之要求,提供業者具非常大的商機及市場。
聯絡人員: 顏宏陸
電話: 07-3513121*2362
傳真: 07-3528283
電子信箱: louisyen@mail.mirdc.org.tw
參考網址: http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備: NC車床、銑床、電解拋光設備等。
需具備之專業人才: 具精密加工、表面處理等相關技術或經驗等專業人士。
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# 04-23502169轉519 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號881
產出年度94
技術名稱-中文多向閥機構設計開發技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 10kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度試量產
可應用範圍超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價8,000元,量產初期10,000個/年,產值可達8,000萬元以上。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才閥類設計或機械加工相關背景。
序號: 881
產出年度: 94
技術名稱-中文: 多向閥機構設計開發技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 10kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價8,000元,量產初期10,000個/年,產值可達8,000萬元以上。
聯絡人員: 林庭凱
電話: 04-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備: 精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才: 閥類設計或機械加工相關背景。

# 04-23502169轉519 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號1886
產出年度95
技術名稱-中文壓力調節閥機構設計開發技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 35kg /cm2、調壓範圍 0~3.5kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度雛型
可應用範圍超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價35,000元,量產初期1,500個/年,產值可達5,000萬元以上。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才閥類設計或機械加工相關背景。
序號: 1886
產出年度: 95
技術名稱-中文: 壓力調節閥機構設計開發技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以產品開發方式,藉由專利分析、構想設計、快速成形、產品試製、產品測試等程序,完成適合光電、半導體等產業製程設備用之超潔淨閥。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 35kg /cm2、調壓範圍 0~3.5kg /cm2、逸散率25000次。
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 超潔淨閥及相關流量分配系統。
潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價35,000元,量產初期1,500個/年,產值可達5,000萬元以上。
聯絡人員: 林庭凱
電話: 04-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備: 精密車床、銑床及電腦設備等。
需具備之專業人才: 閥類設計或機械加工相關背景。

# 04-23502169轉519 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號1887
產出年度95
技術名稱-中文電解複合研磨加工技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,利用電解作用進行表面材料去除,克服工具痕跡及表面施力之缺點,提升加工效率及工件表面品質。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格表面精度≦ 0.05μm。
技術成熟度試量產
可應用範圍超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。
潛力預估應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約50%。
聯絡人員林庭凱
電話04-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備電解複合研磨加工設備。
需具備之專業人才機械加工及拋光技術相關背景。
序號: 1887
產出年度: 95
技術名稱-中文: 電解複合研磨加工技術
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以電化學方式進行金屬表面加工或拋光,利用電解作用進行表面材料去除,克服工具痕跡及表面施力之缺點,提升加工效率及工件表面品質。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 表面精度≦ 0.05μm。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 超潔淨管閥件及相關流量分配系統或精密零組件。
潛力預估: 應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約50%。
聯絡人員: 林庭凱
電話: 04-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備: 電解複合研磨加工設備。
需具備之專業人才: 機械加工及拋光技術相關背景。

# 04-23502169轉519 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號7561
產出年度99
領域別機械運輸
專利名稱-中文複合研磨拋光之電極裝置
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬中心機械與自動化環境建構計畫
專利發明人林庭凱、江文欽、林裕棠
核准國家中華民國
獲證日期99/11/01
證書號碼I332430
專利期間起99/11/01
專利期間訖115/11/30
專利性質發明
技術摘要-中文本創作係應用於電化學加工之一種電極裝置,其目的係提供電導體表面於電化學加工環境下之表面拋光加工所用,其組成包括變速機構、電極板、矽砂尼龍刷、間隙微調機構等部份,以達到電化學加工過程中對電極間隙及研磨面壓力之要求,使工件表面達到高精度的拋光效果。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員林庭凱
電話07-23502169轉519
傳真04-23501174
電子信箱ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7561
產出年度: 99
領域別: 機械運輸
專利名稱-中文: 複合研磨拋光之電極裝置
執行單位: 金屬中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫
專利發明人: 林庭凱、江文欽、林裕棠
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/11/01
證書號碼: I332430
專利期間起: 99/11/01
專利期間訖: 115/11/30
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本創作係應用於電化學加工之一種電極裝置,其目的係提供電導體表面於電化學加工環境下之表面拋光加工所用,其組成包括變速機構、電極板、矽砂尼龍刷、間隙微調機構等部份,以達到電化學加工過程中對電極間隙及研磨面壓力之要求,使工件表面達到高精度的拋光效果。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 林庭凱
電話: 07-23502169轉519
傳真: 04-23501174
電子信箱: ltk@mail.mirdctc.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)
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矽晶片蝕穿技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um_x000D_; 蝕刻率 > 4 um/min_x000D_;蝕刻垂直度 > 89度;深寬比 > 30 | 潛力預估: 最小蝕穿噴孔20um(比雷射加工50 um要小很多);深寬比可達20。

矽晶深蝕刻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Etching depth: 10~300um_x000D_;Etching rate: 1~3um/mi | 潛力預估: 微機電系統與元件應用上常需要數百um深或高深寬比結構,本製程技術為其解決方法。

低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ;薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 製程簡單、與電路整合性高等優勢成本低。

無鉛製程技術資訊平台建立

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 對於無鉛驗證標準工作之努力可從產業服務、無鉛技術輔導及可靠度驗證說明:無鉛定義(未刻意添加下,材料、鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%,鹵素含量小於900ppm)、產品定點含鉛量檢測(取樣標準與定點定義... | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用有鉛銲錫之電子類產品,諸如伺服器與工作站、桌上型電腦,筆記型電腦、主機板、消...

基板內藏元件整合設計與模型庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作頻段:2.4GHz;新材料(εr≧38; embedded into BT or other Substrate)與壓合製程驗證;2.4GHz 內藏被動元件的射頻模組為載具之設計量測驗證 ;內藏... | 潛力預估: 資訊電子產品的發展,為提昇效能均已朝向數位高速化、類比高頻化發展;另一方面,消費性電子產品亦走向多功能與輕、薄、短、小之趨勢,特別是可攜式無線通訊之電子產品,其硬體元件均需使用為數眾多之被動元件,依據...

射頻內藏被動元件之模型程式庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Specification of Embedded inductor and Embedded capacitor (Frequency 6GHz) _x000D_ITEM Specificati... | 潛力預估: 基板內藏被動元件,可以取代傳統SMD元件,市場上具有龐大的商業潛力,依據市場知名市調公司PRISMARK預估,西元2006年內藏被動元件需求約佔整體被動元件10%以上,商機需求逐年擴增;且係通訊產品高...

3D基板式堆疊構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Through-Si方式達成晶片與晶片間之訊號傳遞_x000D_;一步成型式導通孔技術 | 潛力預估: 藉著3D堆疊構裝的發展,除了能將記憶體在電路板上所佔的面積大幅縮小, 提升電子產品縮小化的效率外,更能將原本功能不同的晶片整合在同一構裝模組中,而以最有效益的方式,達到System in Packa...

迴路型熱管散熱技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 蒸發端區域與冷凝端區域:45×45×3 mm (依據散_x000D_熱需求增大或縮小);傳輸距離30 cm | 潛力預估: 以真空硬銲方式接合,外觀與強度符合所需,蒸發端與冷凝端均為平面構造,易與熱源及散熱裝置接合_x000D_與Thermacore產品/Therma-Loop技術同步

無鉛製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1.材料, 鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%, 鹵素含量_x000D_小於900ppm_x000D_。2.產品定點含鉛量檢測與分析標準 | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用有鉛銲錫之電子類產品,諸如伺服器與工作站、主機板、消費性電子產品與通訊、資訊...

增益型晶圓級晶方尺度構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Die size:10*10mm;Pitch: 0.8mm, 1.0mm;Solder ball:eutectic @lead free solder_x000D_;Wafer size: 6" or... | 潛力預估: 電子所擁有雙應力緩衝層之晶圓級構裝設計專利(double elastomers layers WL-CSP design,。其結構設計,第一層之應力緩衝層可同時作為底保護層及第一層應力緩衝,第二層之應...

銅晶片覆晶凸塊植球與組裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Pitch: 200, 250, 540 μm_x000D_;Solder Bump Height: 80, 100,130 μm_x000D_;UBM: Ti/Cu, Electroless Ni... | 潛力預估: 比起過去使用的鋁導線,銅導線有較低的RC延遲特性及較佳的電子漂移阻抗,尤其當線寬愈來愈窄的時候,其對高頻的影響愈來愈大,被視為下一代高速積體電路的明星製程,然國際間至今仍普遍缺乏銅製程構裝技術,而國內...

銅晶片打線接合構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Test Vehicle:Thermosonic ball bond with 25μm or 30μm Au wire_x000D_詳細規格視銅晶片來源而定,並由電子所與合作廠商共同 | 潛力預估: Filing two patents for copper chip package_x000D_,Cu/barrier/Al or Ni/Au cap可自製_x000D_,Wire bond qua...

Flip Chip CSP 設計與構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 球間距(Ball Pitch):0.8mm BGA_x000D_;球陣列(Ball Array):6-8 I/O_x000D_;構裝尺寸(Package Size):6mm-9mm_x000D_;構裝... | 潛力預估: 整個技術環節的重點,會緊扣在低構裝成本和高電氣操作性能的訴求上,以期與現存的構裝型態在市場上有一較長短的實力,同時提供台灣構裝業界實現技術升級創造競爭力的宏大目標。

Flip Chip PBGA 設計與散熱及電性增益型Flip Chip PBGA構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 接合有機基板覆晶構裝:接合積層基板覆晶構裝(間距:250μm、I/O接點腳數達4300),增益散熱型覆晶球腳格狀陣列塑膠構裝(熱傳增益達30%左右) | 潛力預估: 接合有機基板覆晶構裝:接合積層基板覆晶構裝(間距:250μm、I/O接點腳數達4300),增益散熱型覆晶球腳格狀陣列塑膠構裝(熱傳增益達50%左右)

散熱及電性增益型之錫球陣列塑膠構裝

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: TE-PBGA (JEDEC PBGA Standard);散熱增益 35~40%,電性電感增益 10~20%_x000D_ | 潛力預估: 符合PBGA的標準製程_x000D_,獲得中華民國、美國、日本多國專利保護。

矽晶片蝕穿技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um_x000D_; 蝕刻率 > 4 um/min_x000D_;蝕刻垂直度 > 89度;深寬比 > 30 | 潛力預估: 最小蝕穿噴孔20um(比雷射加工50 um要小很多);深寬比可達20。

矽晶深蝕刻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Etching depth: 10~300um_x000D_;Etching rate: 1~3um/mi | 潛力預估: 微機電系統與元件應用上常需要數百um深或高深寬比結構,本製程技術為其解決方法。

低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ;薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 製程簡單、與電路整合性高等優勢成本低。

無鉛製程技術資訊平台建立

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 對於無鉛驗證標準工作之努力可從產業服務、無鉛技術輔導及可靠度驗證說明:無鉛定義(未刻意添加下,材料、鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%,鹵素含量小於900ppm)、產品定點含鉛量檢測(取樣標準與定點定義... | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用有鉛銲錫之電子類產品,諸如伺服器與工作站、桌上型電腦,筆記型電腦、主機板、消...

基板內藏元件整合設計與模型庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作頻段:2.4GHz;新材料(εr≧38; embedded into BT or other Substrate)與壓合製程驗證;2.4GHz 內藏被動元件的射頻模組為載具之設計量測驗證 ;內藏... | 潛力預估: 資訊電子產品的發展,為提昇效能均已朝向數位高速化、類比高頻化發展;另一方面,消費性電子產品亦走向多功能與輕、薄、短、小之趨勢,特別是可攜式無線通訊之電子產品,其硬體元件均需使用為數眾多之被動元件,依據...

射頻內藏被動元件之模型程式庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Specification of Embedded inductor and Embedded capacitor (Frequency 6GHz) _x000D_ITEM Specificati... | 潛力預估: 基板內藏被動元件,可以取代傳統SMD元件,市場上具有龐大的商業潛力,依據市場知名市調公司PRISMARK預估,西元2006年內藏被動元件需求約佔整體被動元件10%以上,商機需求逐年擴增;且係通訊產品高...

3D基板式堆疊構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Through-Si方式達成晶片與晶片間之訊號傳遞_x000D_;一步成型式導通孔技術 | 潛力預估: 藉著3D堆疊構裝的發展,除了能將記憶體在電路板上所佔的面積大幅縮小, 提升電子產品縮小化的效率外,更能將原本功能不同的晶片整合在同一構裝模組中,而以最有效益的方式,達到System in Packa...

迴路型熱管散熱技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 蒸發端區域與冷凝端區域:45×45×3 mm (依據散_x000D_熱需求增大或縮小);傳輸距離30 cm | 潛力預估: 以真空硬銲方式接合,外觀與強度符合所需,蒸發端與冷凝端均為平面構造,易與熱源及散熱裝置接合_x000D_與Thermacore產品/Therma-Loop技術同步

無鉛製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1.材料, 鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%, 鹵素含量_x000D_小於900ppm_x000D_。2.產品定點含鉛量檢測與分析標準 | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用有鉛銲錫之電子類產品,諸如伺服器與工作站、主機板、消費性電子產品與通訊、資訊...

增益型晶圓級晶方尺度構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Die size:10*10mm;Pitch: 0.8mm, 1.0mm;Solder ball:eutectic @lead free solder_x000D_;Wafer size: 6" or... | 潛力預估: 電子所擁有雙應力緩衝層之晶圓級構裝設計專利(double elastomers layers WL-CSP design,。其結構設計,第一層之應力緩衝層可同時作為底保護層及第一層應力緩衝,第二層之應...

銅晶片覆晶凸塊植球與組裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Pitch: 200, 250, 540 μm_x000D_;Solder Bump Height: 80, 100,130 μm_x000D_;UBM: Ti/Cu, Electroless Ni... | 潛力預估: 比起過去使用的鋁導線,銅導線有較低的RC延遲特性及較佳的電子漂移阻抗,尤其當線寬愈來愈窄的時候,其對高頻的影響愈來愈大,被視為下一代高速積體電路的明星製程,然國際間至今仍普遍缺乏銅製程構裝技術,而國內...

銅晶片打線接合構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Test Vehicle:Thermosonic ball bond with 25μm or 30μm Au wire_x000D_詳細規格視銅晶片來源而定,並由電子所與合作廠商共同 | 潛力預估: Filing two patents for copper chip package_x000D_,Cu/barrier/Al or Ni/Au cap可自製_x000D_,Wire bond qua...

Flip Chip CSP 設計與構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 球間距(Ball Pitch):0.8mm BGA_x000D_;球陣列(Ball Array):6-8 I/O_x000D_;構裝尺寸(Package Size):6mm-9mm_x000D_;構裝... | 潛力預估: 整個技術環節的重點,會緊扣在低構裝成本和高電氣操作性能的訴求上,以期與現存的構裝型態在市場上有一較長短的實力,同時提供台灣構裝業界實現技術升級創造競爭力的宏大目標。

Flip Chip PBGA 設計與散熱及電性增益型Flip Chip PBGA構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 接合有機基板覆晶構裝:接合積層基板覆晶構裝(間距:250μm、I/O接點腳數達4300),增益散熱型覆晶球腳格狀陣列塑膠構裝(熱傳增益達30%左右) | 潛力預估: 接合有機基板覆晶構裝:接合積層基板覆晶構裝(間距:250μm、I/O接點腳數達4300),增益散熱型覆晶球腳格狀陣列塑膠構裝(熱傳增益達50%左右)

散熱及電性增益型之錫球陣列塑膠構裝

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: TE-PBGA (JEDEC PBGA Standard);散熱增益 35~40%,電性電感增益 10~20%_x000D_ | 潛力預估: 符合PBGA的標準製程_x000D_,獲得中華民國、美國、日本多國專利保護。

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