高壓均質製造技術
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技術名稱-中文高壓均質製造技術的執行單位是工研院機械所, 產出年度是97, 計畫名稱是機械與系統領域環境建構計畫, 技術規格是高壓均質供料模組：最大壓力280MPa；分散介質：無機、有機粒子；分散介?特徵尺寸：10~50nm 精密成形模組：Slot die；厚度均勻性：± 10%；最大成型速度：5m/mi, 潛力預估是可成為顯示器、太陽能、軟性電子等光電產業的關鍵生產設備.

序號2687
產出年度97
技術名稱-中文高壓均質製造技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱機械與系統領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術建立創新整合高壓均質和精密成型技術，透過高剪切力作用均勻分散奈米級無機粒子在有機材料中，直接結合塗佈成型裝置直接形成塗佈層或基板，可應用於光學硬化塗層等產品製程。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格高壓均質供料模組：最大壓力280MPa；分散介質：無機、有機粒子；分散介?特徵尺寸：10~50nm 精密成形模組：Slot die；厚度均勻性：± 10%；最大成型速度：5m/mi
技術成熟度試量產
可應用範圍光電材料等濕式薄膜需求之製程生產
潛力預估可成為顯示器、太陽能、軟性電子等光電產業的關鍵生產設備
聯絡人員周大鑫
電話03-5916791
傳真03-5820043
電子信箱TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備需要分散和濕式塗佈製程設備及檢測儀器，如：粒徑分析儀、黏度計、膜厚量測儀、硬度與膜耗量測儀等
需具備之專業人才熟悉微粒和塗佈製程人員
同步更新日期2023-07-22

序號

2687

產出年度

97

技術名稱-中文

高壓均質製造技術

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與系統領域環境建構計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本技術建立創新整合高壓均質和精密成型技術，透過高剪切力作用均勻分散奈米級無機粒子在有機材料中，直接結合塗佈成型裝置直接形成塗佈層或基板，可應用於光學硬化塗層等產品製程。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

高壓均質供料模組：最大壓力280MPa；分散介質：無機、有機粒子；分散介?特徵尺寸：10~50nm 精密成形模組：Slot die；厚度均勻性：± 10%；最大成型速度：5m/mi

技術成熟度

試量產

可應用範圍

光電材料等濕式薄膜需求之製程生產

潛力預估

可成為顯示器、太陽能、軟性電子等光電產業的關鍵生產設備

聯絡人員

周大鑫

電話

03-5916791

傳真

03-5820043

電子信箱

TaHsinChou@itri.org.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

需要分散和濕式塗佈製程設備及檢測儀器，如：粒徑分析儀、黏度計、膜厚量測儀、硬度與膜耗量測儀等

需具備之專業人才

熟悉微粒和塗佈製程人員

同步更新日期

2023-07-22

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# 高壓均質製造技術 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

序號2132
產出年度96
技術名稱-中文高壓均質製造技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱機械與系統領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術建立全陶瓷低污染研磨分散系統和低殘餘污染高壓均質系統，並開發生物與光學材料微細化製程技術，進一步提升國內材料加工技術能力。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格設備平台(潔淨材料微細化製程):全陶瓷低污染研磨分散系統(能量密度：2.5kW/L)。 _x000D_低殘餘污染高壓均質系統(最大壓力280MPa，線上清潔功能模組)。_x000D_製程技術(生物與光學材料微細化技術):零維材料特徵尺寸＜500nm。
技術成熟度試量產
可應用範圍醫藥、食品、化妝品、電子材料等有低污染微細化需求之製程生產
潛力預估可成為醫藥、食品、化妝品等生技業，及電子材料、油墨等精細化學品關鍵生產設備
聯絡人員周大鑫
電話03-5916791
傳真03-5820043
電子信箱TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備需要製程設備及檢測儀器，如：分散儀器，高分子聚合裝置，粒徑分析儀，黏度計
需具備之專業人才熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學、高分子人員
序號: 2132
產出年度: 96
技術名稱-中文: 高壓均質製造技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 本技術建立全陶瓷低污染研磨分散系統和低殘餘污染高壓均質系統，並開發生物與光學材料微細化製程技術，進一步提升國內材料加工技術能力。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 設備平台(潔淨材料微細化製程):全陶瓷低污染研磨分散系統(能量密度：2.5kW/L)。 _x000D_低殘餘污染高壓均質系統(最大壓力280MPa，線上清潔功能模組)。_x000D_製程技術(生物與光學材料微細化技術):零維材料特徵尺寸＜500nm。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 醫藥、食品、化妝品、電子材料等有低污染微細化需求之製程生產
潛力預估: 可成為醫藥、食品、化妝品等生技業，及電子材料、油墨等精細化學品關鍵生產設備
聯絡人員: 周大鑫
電話: 03-5916791
傳真: 03-5820043
電子信箱: TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 需要製程設備及檢測儀器，如：分散儀器，高分子聚合裝置，粒徑分析儀，黏度計
需具備之專業人才: 熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學、高分子人員
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# 03-5916791 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號98
產出年度93
技術名稱-中文奈米微粒製造技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發完成奈米微粒研磨分散設備及高壓均質設備，可從事奈米等級微粒粉碎、分散、乳化等濕式製程
技術現況敘述-英文(空)
技術規格(1)研磨分散設備：研磨槽容積：1.6L，切線速度：15m/s，研磨介質粒徑：0.1mm（最小） (2)高壓均質設備：最大壓力：280MPa，流量：25L/hr
技術成熟度試量產階段
可應用範圍油墨塗料、醫藥、化妝品、電子材料、陶瓷粉末…等
潛力預估奈米微粒製造技術開發完成奈米微粒研磨分散設備及高壓均質設備，針對奈米等級微粒粉碎、分散、乳化等濕式製程均可適用，是奈米產業發展的重要設備技術。本技術完成後，可提供國內具備價格、彈性、和性能等優勢的製造設備，進而提昇國內相關產品競爭力，進傳統產業奈米化
聯絡人員周大鑫
電話03-5916791
傳真03-5820451
電子信箱TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址無
所須軟硬體設備濕式微粒製程設備及檢測儀器,如:研磨分散設備,高壓均質設備,粒徑分析儀,黏度計…等
需具備之專業人才熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學…等
序號: 98
產出年度: 93
技術名稱-中文: 奈米微粒製造技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發完成奈米微粒研磨分散設備及高壓均質設備，可從事奈米等級微粒粉碎、分散、乳化等濕式製程
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: (1)研磨分散設備：研磨槽容積：1.6L，切線速度：15m/s，研磨介質粒徑：0.1mm（最小） (2)高壓均質設備：最大壓力：280MPa，流量：25L/hr
技術成熟度: 試量產階段
可應用範圍: 油墨塗料、醫藥、化妝品、電子材料、陶瓷粉末…等
潛力預估: 奈米微粒製造技術開發完成奈米微粒研磨分散設備及高壓均質設備，針對奈米等級微粒粉碎、分散、乳化等濕式製程均可適用，是奈米產業發展的重要設備技術。本技術完成後，可提供國內具備價格、彈性、和性能等優勢的製造設備，進而提昇國內相關產品競爭力，進傳統產業奈米化
聯絡人員: 周大鑫
電話: 03-5916791
傳真: 03-5820451
電子信箱: TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址: 無
所須軟硬體設備: 濕式微粒製程設備及檢測儀器,如:研磨分散設備,高壓均質設備,粒徑分析儀,黏度計…等
需具備之專業人才: 熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學…等

# 03-5916791 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號1054
產出年度94
技術名稱-中文奈米材料製造技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院先進製造與系統領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文曲柄軸柱塞泵浦提供穩定且高壓的壓力‧高壓均質閥中的流道面積變化，使高壓流體轉換為高速流體，進而驅使流體程載之粉體具備高動能對撞而粉碎‧鑽石或陶瓷等耐磨耗材質製作高壓均質閥，使生產過程中產品不受到污染。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格最大壓力：280MPa，流量：25L/hr，射流對撞式均質閥。
技術成熟度試量產
可應用範圍醫藥、食品、化妝品、電子材料等有低污染微細化需求之製程生產。
潛力預估可先期進入奈米生技產品市場，2003年我國生技產業總營業額約新台幣1,316億元。經由推動方案，未來五年生物技術產業營業額每年平均成長二五％，帶動一千五百億元的投資。
聯絡人員周大鑫
電話03-5916791
傳真03-5837030
電子信箱TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址http://www.mirl.itri.org.tw/mirl-inter/coretech/core_c/c01a.a
所須軟硬體設備需要製程設備及檢測儀器，如：高壓均質設備，粒徑分析儀，黏度計...。
需具備之專業人才熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學…等。
序號: 1054
產出年度: 94
技術名稱-中文: 奈米材料製造技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 曲柄軸柱塞泵浦提供穩定且高壓的壓力‧高壓均質閥中的流道面積變化，使高壓流體轉換為高速流體，進而驅使流體程載之粉體具備高動能對撞而粉碎‧鑽石或陶瓷等耐磨耗材質製作高壓均質閥，使生產過程中產品不受到污染。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 最大壓力：280MPa，流量：25L/hr，射流對撞式均質閥。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 醫藥、食品、化妝品、電子材料等有低污染微細化需求之製程生產。
潛力預估: 可先期進入奈米生技產品市場，2003年我國生技產業總營業額約新台幣1,316億元。經由推動方案，未來五年生物技術產業營業額每年平均成長二五％，帶動一千五百億元的投資。
聯絡人員: 周大鑫
電話: 03-5916791
傳真: 03-5837030
電子信箱: TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址: http://www.mirl.itri.org.tw/mirl-inter/coretech/core_c/c01a.a
所須軟硬體設備: 需要製程設備及檢測儀器，如：高壓均質設備，粒徑分析儀，黏度計...。
需具備之專業人才: 熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學…等。

# 03-5916791 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號1534
產出年度95
技術名稱-中文奈米材料製造技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱機械與系統領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文奈米微粒高壓均質設備具備高壓系統、高速流體對撞、和潔淨生產等技術標的，可從事奈米等級微粒粉碎分散、乳化、細胞破碎等濕式製程。曲柄軸柱塞泵浦提供穩定且高壓的壓力。高壓均質閥中的流道面積變化，使高壓流體轉換為高速流體，進而驅使流體程載之粉體具備高動能對撞而粉碎。鑽石或陶瓷等耐磨耗材質製作高壓均質閥，使生產過程中產品不受到污染。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格最大壓力：280MPa，流量：25L/hr，射流對撞式均質閥。
技術成熟度試量產
可應用範圍醫藥、食品、化妝品、電子材料等有低污染微細化需求之製程生產。
潛力預估可成為醫藥、食品、化妝品等生技業，及電子材料、油墨等精細化學品關鍵生產設備。
聯絡人員周大鑫
電話03-5916791
傳真03-5820043
電子信箱TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址無
所須軟硬體設備需要製程設備及檢測儀器，如：研磨分散設備，粒徑分析儀，黏度計...。
需具備之專業人才熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學…等。
序號: 1534
產出年度: 95
技術名稱-中文: 奈米材料製造技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 奈米微粒高壓均質設備具備高壓系統、高速流體對撞、和潔淨生產等技術標的，可從事奈米等級微粒粉碎分散、乳化、細胞破碎等濕式製程。曲柄軸柱塞泵浦提供穩定且高壓的壓力。高壓均質閥中的流道面積變化，使高壓流體轉換為高速流體，進而驅使流體程載之粉體具備高動能對撞而粉碎。鑽石或陶瓷等耐磨耗材質製作高壓均質閥，使生產過程中產品不受到污染。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 最大壓力：280MPa，流量：25L/hr，射流對撞式均質閥。
技術成熟度: 試量產
可應用範圍: 醫藥、食品、化妝品、電子材料等有低污染微細化需求之製程生產。
潛力預估: 可成為醫藥、食品、化妝品等生技業，及電子材料、油墨等精細化學品關鍵生產設備。
聯絡人員: 周大鑫
電話: 03-5916791
傳真: 03-5820043
電子信箱: TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址: 無
所須軟硬體設備: 需要製程設備及檢測儀器，如：研磨分散設備，粒徑分析儀，黏度計...。
需具備之專業人才: 熟悉微粒製程、微粒檢測、界面化學…等。

# 03-5916791 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號3219
產出年度98
技術名稱-中文平面基板塗佈技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱機械與系統領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文建立狹縫式塗佈頭設計能力，整合運動控制系統，開發塗佈平台及製程技術，適合用於TFT-array或彩色濾光片光阻塗佈。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格塗佈幅寬：370mm；塗膜厚度
技術成熟度雛形
可應用範圍光學膜、顯示器、軟性電子、綠建材、太陽能
潛力預估太陽光電及顯示器產業薄膜製程的關鍵生產設備
聯絡人員周大鑫
電話03-5916791
傳真03-582004
電子信箱TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址無
所須軟硬體設備‧需要製程設備及檢測儀器，如：乾燥設備及膜厚檢測儀 ‧無塵室
需具備之專業人才具備精密塗佈技術開發經驗人員
序號: 3219
產出年度: 98
技術名稱-中文: 平面基板塗佈技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 建立狹縫式塗佈頭設計能力，整合運動控制系統，開發塗佈平台及製程技術，適合用於TFT-array或彩色濾光片光阻塗佈。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 塗佈幅寬：370mm；塗膜厚度
技術成熟度: 雛形
可應用範圍: 光學膜、顯示器、軟性電子、綠建材、太陽能
潛力預估: 太陽光電及顯示器產業薄膜製程的關鍵生產設備
聯絡人員: 周大鑫
電話: 03-5916791
傳真: 03-582004
電子信箱: TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址: 無
所須軟硬體設備: ‧需要製程設備及檢測儀器，如：乾燥設備及膜厚檢測儀 ‧無塵室
需具備之專業人才: 具備精密塗佈技術開發經驗人員

# 03-5916791 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號5860
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文高壓均質裝置的導流構造
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人周大鑫 ,徐紹煜 ,蘇志杰 ,
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL200510117345.6
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係一種高壓均質裝置之導流構造，包含有：一導入元件，具有一第一內端面與一第一外端面；至少二個入流單元，設於該導入元件之預定部位；各該入流單元分別具有一入流孔連通於各該第一內端面與第一外端面之間，以及一導流槽設於該第一內端面上，其一端與對應之該入流孔連通，另一端則朝預定方向延伸並與另一入流單元之導流槽連接；一導出元件，具有與該第一內端面抵接之一第二內端面以及一第二外端面；至少一出流單元，連通於該第二內端面與該第二外端面之間，並與該入流單元之預定部位相連通。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員周大鑫
電話03-5916791
傳真03-5820043
電子信箱TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址N/A
備註20101125-Joanne
特殊情形(空)
序號: 5860
產出年度: 98
領域別: (空)
專利名稱-中文: 高壓均質裝置的導流構造
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人: 周大鑫 ,徐紹煜 ,蘇志杰 ,
核准國家: 中國大陸
獲證日期: (空)
證書號碼: ZL200510117345.6
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係一種高壓均質裝置之導流構造，包含有：一導入元件，具有一第一內端面與一第一外端面；至少二個入流單元，設於該導入元件之預定部位；各該入流單元分別具有一入流孔連通於各該第一內端面與第一外端面之間，以及一導流槽設於該第一內端面上，其一端與對應之該入流孔連通，另一端則朝預定方向延伸並與另一入流單元之導流槽連接；一導出元件，具有與該第一內端面抵接之一第二內端面以及一第二外端面；至少一出流單元，連通於該第二內端面與該第二外端面之間，並與該入流單元之預定部位相連通。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 周大鑫
電話: 03-5916791
傳真: 03-5820043
電子信箱: TaHsinChou@itri.org.tw
參考網址: N/A
備註: 20101125-Joanne
特殊情形: (空)
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與高壓均質製造技術同分類的經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

先進充氣模組開發

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 氣囊袋維持充氣狀態時間＞5 sec。噴嘴耐壓＞2000 psi，短期耐溫＞2000℃。 | 潛力預估: 全球每年數萬組。

產品安全可靠度鑑測技術開發

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 本項技術為一品質保證技術，重點在於KNOW-HOW，並無技術規格可資描述。 | 潛力預估: 經濟部於93年8月5日所召開的「第二季促進投資擴大招商推動會議」，亦指示工業局提出「壯大汽車零組件產業發展策略」─預期 2008 年台灣的汽車零組件產業產值可達新台幣3784億元，其中電子零組件可達...

電腦模擬技術在方向盤Body Block試驗之應用

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 模擬結果與試驗比對，趨勢須一致，關鍵數值誤差在10％以內。 | 潛力預估: 承受衝擊環境之產品設計皆可使用此技術。

MB-OFDM UWB V1.0 Matlab baseband simulation platform

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform；Group A，B，C，D，E bands... | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

MB-OFDM UWB V1.0 ADS RF and baseband co-simulation platform

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform；Group A，B，C，D，E bands... | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

MB-OFDM UWB V1.0 baseband VHDL code

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範；Group A bands (3.1GHz – 4.9GHz)；Data rate：6.6，10，13.3，20， 25，40，50，60Mbps。 | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

MB-OFDM UWB V1.0 ADS RF simulation platform

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform；Group A，B，C，D，E bands... | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

用戶台及基地台Trch Codec模組技術

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻行動通訊整合技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合3GPP W-CDMA R99版規範 | 潛力預估: 可搶攻3G W-CDMA晶片市場，極具市場淺力

環境頻譜分析及基地台整合測試技術

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻行動通訊整合技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 適用無線通訊頻段3G/WiFi/WLAN/PHS/CDMA2000干擾量測 | 潛力預估: 可為未來電信營運商評估基地台設置、電信監理等服務。

導航顯示電腦技術

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 飛航資訊廣播及通訊技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: Display Control & Processor Unit (Airborne Computer)；6.4”TFT LCD Flat Panel640；480 dot RGB, Antiglar... | 潛力預估: 可運用於電腦、遊艇與汽車導航顯示器。

直接數位訊號(DDS)合成電路設計開發

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 輸出頻寬: 0-160MHz；功率: -8dBm ；工作溫度範圍:-40~+85℃；信號雜訊比:3 60 dB | 潛力預估: 民用船舶如漁船及小型遊艇甚至推廣至車用防撞系統

低相位雜訊鎖相迴路振盪器 (Phase-locked DRO)

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 輸出頻率: X band (or Ku band)；相位雜訊: -110 dBc/Hz @100KHz | 潛力預估: 民用船舶如漁船及小型遊艇甚至推廣至車用防撞系統

低頻高增益帶通濾波器設計開發

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 頻寬: 30kHz~160kHz；平均增益90dB | 潛力預估: 民用船舶如漁船及小型遊艇甚至推廣至車用防撞系統亦有數十億元之市場規模

單晶微波電路模組技術開發-S-頻段數位移相器單晶積體電路

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: Freq. S-Band；Control Bit: 6Bit (0,-5V)；Phase Control: 0.5 ~354° 5°/ step；Gain Variation:1.4 dB | 潛力預估: 應用於智慧型相列天線移相器及車用電子系統防撞雷達，極具潛力.

微波管磁路設計與製作

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 陰陽極電位差14~16KV，電子束半徑0.25~0.3mm，發射電流400~450mA，導流係數0.24~0.26;微波穿透係數0.98，毫米波頻段 | 潛力預估: 軍用及通訊用雷達之微波管應用

先進充氣模組開發

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 氣囊袋維持充氣狀態時間＞5 sec。噴嘴耐壓＞2000 psi，短期耐溫＞2000℃。 | 潛力預估: 全球每年數萬組。

產品安全可靠度鑑測技術開發

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 本項技術為一品質保證技術，重點在於KNOW-HOW，並無技術規格可資描述。 | 潛力預估: 經濟部於93年8月5日所召開的「第二季促進投資擴大招商推動會議」，亦指示工業局提出「壯大汽車零組件產業發展策略」─預期 2008 年台灣的汽車零組件產業產值可達新台幣3784億元，其中電子零組件可達...

電腦模擬技術在方向盤Body Block試驗之應用

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進安全車輛系統整合平台技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 模擬結果與試驗比對，趨勢須一致，關鍵數值誤差在10％以內。 | 潛力預估: 承受衝擊環境之產品設計皆可使用此技術。

MB-OFDM UWB V1.0 Matlab baseband simulation platform

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform；Group A，B，C，D，E bands... | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

MB-OFDM UWB V1.0 ADS RF and baseband co-simulation platform

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform；Group A，B，C，D，E bands... | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

MB-OFDM UWB V1.0 baseband VHDL code

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範；Group A bands (3.1GHz – 4.9GHz)；Data rate：6.6，10，13.3，20， 25，40，50，60Mbps。 | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

MB-OFDM UWB V1.0 ADS RF simulation platform

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 超寬頻系統平台與IP發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合MB-OFDM UWB PHY v1.0規範之Matlab floating-point與fixed-point simulation platform；Group A，B，C，D，E bands... | 潛力預估: 可搶攻短距離無線通訊與數位家庭市場，極具市場淺力

用戶台及基地台Trch Codec模組技術

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻行動通訊整合技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 符合3GPP W-CDMA R99版規範 | 潛力預估: 可搶攻3G W-CDMA晶片市場，極具市場淺力

環境頻譜分析及基地台整合測試技術

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻行動通訊整合技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 適用無線通訊頻段3G/WiFi/WLAN/PHS/CDMA2000干擾量測 | 潛力預估: 可為未來電信營運商評估基地台設置、電信監理等服務。

導航顯示電腦技術

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 飛航資訊廣播及通訊技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: Display Control & Processor Unit (Airborne Computer)；6.4”TFT LCD Flat Panel640；480 dot RGB, Antiglar... | 潛力預估: 可運用於電腦、遊艇與汽車導航顯示器。

直接數位訊號(DDS)合成電路設計開發

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 輸出頻寬: 0-160MHz；功率: -8dBm ；工作溫度範圍:-40~+85℃；信號雜訊比:3 60 dB | 潛力預估: 民用船舶如漁船及小型遊艇甚至推廣至車用防撞系統

低相位雜訊鎖相迴路振盪器 (Phase-locked DRO)

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 輸出頻率: X band (or Ku band)；相位雜訊: -110 dBc/Hz @100KHz | 潛力預估: 民用船舶如漁船及小型遊艇甚至推廣至車用防撞系統

低頻高增益帶通濾波器設計開發

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 頻寬: 30kHz~160kHz；平均增益90dB | 潛力預估: 民用船舶如漁船及小型遊艇甚至推廣至車用防撞系統亦有數十億元之市場規模

單晶微波電路模組技術開發-S-頻段數位移相器單晶積體電路

執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: Freq. S-Band；Control Bit: 6Bit (0,-5V)；Phase Control: 0.5 ~354° 5°/ step；Gain Variation:1.4 dB | 潛力預估: 應用於智慧型相列天線移相器及車用電子系統防撞雷達，極具潛力.

微波管磁路設計與製作

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 通訊光電領域軍品釋商計畫 | 領域: | 技術規格: 陰陽極電位差14~16KV，電子束半徑0.25~0.3mm，發射電流400~450mA，導流係數0.24~0.26;微波穿透係數0.98，毫米波頻段 | 潛力預估: 軍用及通訊用雷達之微波管應用

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