CO₂-Snow噴洗LCD玻璃自動化系統技術
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技術名稱-中文CO₂-Snow噴洗LCD玻璃自動化系統技術的執行單位是金屬中心, 產出年度是93, 計畫名稱是金屬二次加工自動化系統技術研究第二期四年計畫, 領域是製造精進, 技術規格是1.清洗腔潔淨度控制範圍:Class 10~1002.工件溫度補償控制範圍:35~60℃ ± 5℃3.自動進出料緩衝及進出料Air Lock設計4.清洗速度:20 cm2/秒以上5.大於0.5μm之落塵微粒殘留率:<0.5%, 潛力預估是取代部分清洗設備,年產值約有4,000萬元。.

序號7260
產出年度93
技術名稱-中文CO₂-Snow噴洗LCD玻璃自動化系統技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬二次加工自動化系統技術研究第二期四年計畫
領域製造精進
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文1.全自動化連續式製程2.純乾式清洗製程,不需烘乾步驟,cycle time短。3.無表面研磨刮擦作用,不損傷工件表面。4.佔地面積小,為濕式製程的1/3~1/2。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1.清洗腔潔淨度控制範圍:Class 10~1002.工件溫度補償控制範圍:35~60℃ ± 5℃3.自動進出料緩衝及進出料Air Lock設計4.清洗速度:20 cm2/秒以上5.大於0.5μm之落塵微粒殘留率:<0.5%
技術成熟度雛型
可應用範圍可應用於液晶平面顯示器、印刷電路板、光罩、鏡片、精密零件金屬、工程塑膠元件、玻璃、光電元件、陶瓷等物品表面之清洗。
潛力預估取代部分清洗設備,年產值約有4,000萬元。
聯絡人員顏宏陸
電話07-3513121*2362
傳真07-3528283
電子信箱louisyen@mail.mirdc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
所須軟硬體設備硬體:工業用LCO2儲存供給洗統軟體:PLC編輯軟體
需具備之專業人才清洗製程及檢測工程、自動化工程相關背景。
同步更新日期2024-09-03

序號

7260

產出年度

93

技術名稱-中文

CO₂-Snow噴洗LCD玻璃自動化系統技術

執行單位

金屬中心

產出單位

(空)

計畫名稱

金屬二次加工自動化系統技術研究第二期四年計畫

領域

製造精進

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

1.全自動化連續式製程2.純乾式清洗製程,不需烘乾步驟,cycle time短。3.無表面研磨刮擦作用,不損傷工件表面。4.佔地面積小,為濕式製程的1/3~1/2。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

1.清洗腔潔淨度控制範圍:Class 10~1002.工件溫度補償控制範圍:35~60℃ ± 5℃3.自動進出料緩衝及進出料Air Lock設計4.清洗速度:20 cm2/秒以上5.大於0.5μm之落塵微粒殘留率:<0.5%

技術成熟度

雛型

可應用範圍

可應用於液晶平面顯示器、印刷電路板、光罩、鏡片、精密零件金屬、工程塑膠元件、玻璃、光電元件、陶瓷等物品表面之清洗。

潛力預估

取代部分清洗設備,年產值約有4,000萬元。

聯絡人員

顏宏陸

電話

07-3513121*2362

傳真

07-3528283

電子信箱

louisyen@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw/

所須軟硬體設備

硬體:工業用LCO2儲存供給洗統軟體:PLC編輯軟體

需具備之專業人才

清洗製程及檢測工程、自動化工程相關背景。

同步更新日期

2024-09-03

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試量產型自動發酵系統

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 嘉義產業創新研發中心研發服務平台建置及推動計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: 發酵槽:10L*1 + 50L*1 實際最大發酵體積:40L | 潛力預估: 目前市場可分為兩類: 第一類:小型製程測試設備,此市場以相關產業研發單位及學/研界為主,可供製程測試與驗證. 第二類:大規模量產,主要以保健食品原料廠為主,提供量產級的自動化設備技術. 以上兩類...

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大型鑄造快速模具製作技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 塑料成形用鋁合金模具尺寸1.2m以內,合模間隙<0.3mm。 鎂合金高壓成形用模具尺寸1,000×900×580mm以內,合模間隙<0.1mm且耐700℃鎂合金壓鑄成形及2,300噸鎖模力以內。 | 潛力預估: 對於遊樂器材之塑膠成形可取代每年2000萬元以上的進口,暫用模具可應用於小批量壓鑄件生產,每年可增加產值達1億元以上。

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高溫閥減壓及密封機構設計技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧最高使用壓力:6,250psi /100℉ ‧最高使用溫度:425℃ ‧30°三層式316L材質壓力封環設計 ‧16層24及12段可變式多段整流速度控制碟片 | 潛力預估: 高溫高壓閥製品,約佔工業用閥市場之10~15%,其數量少但單價利潤高,開發完成後,國內市場約有10億元,其中關鍵之壓力封環及整流機構之設計可應用於相關之閥製品,可大幅提昇國內閥製品研發能力。

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高溫用閥性能測試技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧最高使用壓力:1,000bar/100℉ ‧最高使用溫度:500℃以下 ‧試用閥尺寸:DN 100以下 | 潛力預估: 高溫性能測試,主要驗證閥製品高溫密封性能及取得溫度—壓力曲線,做為產品檢證之重要依據,完成開發後可縮短閥製品開發時程5%,節省檢驗費用30%以上。

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耐蝕防漏膜片閥設計分析技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧工作壓力: ≦ 10 Kg/cm2 ‧洩漏率: ≦ 1x10-10atm•cc/sec ‧操作溫度:-10 ~ 80℃ ‧耐久試驗 Cycle Time ≧ 8,000次 | 潛力預估: 針對膜片閥,現有維修市場的產值約2億元。而其取代國外進口每年約5億元,對整體光電、半導體產業影響巨大,對業者未來具非常大的商機。

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超鏡面加工技術先期研究

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧工作電壓< 20Volt,工作電流<500Amp ‧加工前 Ra < 0.6μm,加工後 Ra <0.15μm ‧鏡面反射率55﹪ | 潛力預估: 針對光電、半導體產業用配管及零組件加工之精密加工技術,對於未來整體光電、半導體產業產品潔淨度之要求,提供業者具非常大的商機及市場。

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膜片閥性能及壽命檢測技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧工作壓力: ≦ 12 Kg/cm2,油脂檢測精度:≦ 0.1mg/l ‧耐久測試:≧ 10,000次,氦氣洩漏率: ≦ 1x10-10 atm•cc/sec ‧油脂殘留檢測、振動測試、耐壓測試、壽命... | 潛力預估: 針對光電、半導體產業用配管及零組件加工之檢測技術,對於未來整體光電、半導體產業產品潔淨度或產品性能之要求,提供業者非常大的商機。

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鎂合金中大型壓鑄件驗證與試量產技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 耐洩漏測試在氣壓壓力 0.7kg/cm**2,洩漏率<30cc/min 。 | 潛力預估: 鎂合金運輸工具、木工機器、氣動工具等輕量化零組件,未來國內產值估計達30億元/年。

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試量產型自動發酵系統

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 嘉義產業創新研發中心研發服務平台建置及推動計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: 發酵槽:10L*1 + 50L*1 實際最大發酵體積:40L | 潛力預估: 目前市場可分為兩類: 第一類:小型製程測試設備,此市場以相關產業研發單位及學/研界為主,可供製程測試與驗證. 第二類:大規模量產,主要以保健食品原料廠為主,提供量產級的自動化設備技術. 以上兩類...

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大型鑄造快速模具製作技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 塑料成形用鋁合金模具尺寸1.2m以內,合模間隙<0.3mm。 鎂合金高壓成形用模具尺寸1,000×900×580mm以內,合模間隙<0.1mm且耐700℃鎂合金壓鑄成形及2,300噸鎖模力以內。 | 潛力預估: 對於遊樂器材之塑膠成形可取代每年2000萬元以上的進口,暫用模具可應用於小批量壓鑄件生產,每年可增加產值達1億元以上。

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高溫閥減壓及密封機構設計技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧最高使用壓力:6,250psi /100℉ ‧最高使用溫度:425℃ ‧30°三層式316L材質壓力封環設計 ‧16層24及12段可變式多段整流速度控制碟片 | 潛力預估: 高溫高壓閥製品,約佔工業用閥市場之10~15%,其數量少但單價利潤高,開發完成後,國內市場約有10億元,其中關鍵之壓力封環及整流機構之設計可應用於相關之閥製品,可大幅提昇國內閥製品研發能力。

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高溫用閥性能測試技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧最高使用壓力:1,000bar/100℉ ‧最高使用溫度:500℃以下 ‧試用閥尺寸:DN 100以下 | 潛力預估: 高溫性能測試,主要驗證閥製品高溫密封性能及取得溫度—壓力曲線,做為產品檢證之重要依據,完成開發後可縮短閥製品開發時程5%,節省檢驗費用30%以上。

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耐蝕防漏膜片閥設計分析技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧工作壓力: ≦ 10 Kg/cm2 ‧洩漏率: ≦ 1x10-10atm•cc/sec ‧操作溫度:-10 ~ 80℃ ‧耐久試驗 Cycle Time ≧ 8,000次 | 潛力預估: 針對膜片閥,現有維修市場的產值約2億元。而其取代國外進口每年約5億元,對整體光電、半導體產業影響巨大,對業者未來具非常大的商機。

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超鏡面加工技術先期研究

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧工作電壓< 20Volt,工作電流<500Amp ‧加工前 Ra < 0.6μm,加工後 Ra <0.15μm ‧鏡面反射率55﹪ | 潛力預估: 針對光電、半導體產業用配管及零組件加工之精密加工技術,對於未來整體光電、半導體產業產品潔淨度之要求,提供業者具非常大的商機及市場。

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膜片閥性能及壽命檢測技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: ‧工作壓力: ≦ 12 Kg/cm2,油脂檢測精度:≦ 0.1mg/l ‧耐久測試:≧ 10,000次,氦氣洩漏率: ≦ 1x10-10 atm•cc/sec ‧油脂殘留檢測、振動測試、耐壓測試、壽命... | 潛力預估: 針對光電、半導體產業用配管及零組件加工之檢測技術,對於未來整體光電、半導體產業產品潔淨度或產品性能之要求,提供業者非常大的商機。

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鎂合金中大型壓鑄件驗證與試量產技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術第二期四年計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 耐洩漏測試在氣壓壓力 0.7kg/cm**2,洩漏率<30cc/min 。 | 潛力預估: 鎂合金運輸工具、木工機器、氣動工具等輕量化零組件,未來國內產值估計達30億元/年。

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噴墨印表機/傳真機ASIC開發技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧工作頻率:48MHz。 ‧資料匯流排:32位元。 ‧電源:3.3V。 ‧DRAM控制電路:最大可控制8MB。 ‧適用噴墨頭:HP51645、C1823,Lexmark12A1970、15M0120等... | 潛力預估: 噴墨印表機價格低廉,又可滿足彩色化的列印,使用噴墨印表機來作相片的列印,受到個人及家庭市場的喜愛,且市場規模龐大,已成為市場銷售的主力產品;預計2006年產量可達6,735萬台,複合年成長率為3.2%...

單色/彩色熱氣泡噴墨式印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧解析度:300dpi/600dpi。 ‧噴墨體積:5pl~120pl。 ‧工作頻率:5~12KHZ(單色):3~18KHZ(彩色)。 | 潛力預估: ‧ 目前國內噴墨印頭廠創造總產值每年新台幣16億元,持續成長中。 ‧ 可以噴墨印頭技術為基礎,開發各項工業應用及製造技術(如Color Filter、PLED、Bio Chip、Fuel Inject...

圖文分離技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Clock rate: 10MHz(Max.). ‧Scan speed: 5 ms/line(Max.). ‧Document size: B4(Max.). ‧Voltage: 5V。 ‧Hal... | 潛力預估: 在需要影像處理為基礎的產業中,本技術能夠使之具備較佳品質的關鍵角色。

色彩修正晶片模組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 圖素輸入匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 圖素輸出匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 每色彩圖素處理時間:20 cck cycle。 ‧ 支援RGB色座標與KCMY色座標轉換。 ‧ 使用17×17×1... | 潛力預估: 該相關技術在彩色印表機及多功能事務機領域是決定列印品質優劣的決戰項目之一。

彩色多功能事務機晶片組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 列印解析度:最高2,400×1,200dpi。 ‧ 列印速度:最快17ppm。 ‧ 列印色階:最高4,913色。 ‧ 光學解析度:Up to 1,200dpi。 ‧ CCD掃描速度:Up to 5... | 潛力預估: 配合多功能事務機,落實本土發展,技術生根的原則,能提供給國內完整的配套Solution。

工業噴印平台設計

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Drop on Demand、Step Patterning、Printing on the fly快速列印技術。 ‧ Pixel修補列印技術(Patch Process)。 ‧ 墨點自動分析系統... | 潛力預估: 本技術可應用於多種領域,如TFTs配向膜/彩色濾光片/液晶填充製程應用/PLED製程應用/印刷電路版/封裝產業/光電元件製程應用…。

熱氣泡式燃油噴射霧化器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 操作環境溫度:-15℃~ -60℃。 ‧ 單體噴嘴出口壓力:0~-0.1kg/cm2。 ‧ 噴射油滴直徑:<100m。 ‧ 噴射出口速度:<4.5m/sec。 | 潛力預估: 當前全球機車年產量約為2300萬輛/年,台灣機車年產量約為110萬輛/年,且中國大陸機車年產量約為900萬輛/年,預計可創造每年新台幣15億以上的產值。

特殊工業用噴墨印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 噴嘴數:50 Nozzles。 ‧ 解析度:300dpi。 ‧ 工作頻率:? 5KHz。 ‧ 墨滴體積:20pl~85pl。 ‧ 耐工業溶劑之噴墨印頭。 | 潛力預估: ‧ 可供PLED顯示器面板製程應用,依據SRI預估,OLED/PLED顯示年產值CAGR可達65%,2008年總產值可達23億美元。 ‧ 可供LCD顯示器之Color Filter製程應用,提供大尺寸...

高分子發光二極體顯示

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧材料:顏色:RGB三色。分子量:25~100萬。溶解度>0.5wt % (xylene)。 ‧面板封裝:Color passive PLED 80803 dot matrix. ‧噴製像素化: ... | 潛力預估: 可應用於顯示產業,如Organic TFTs、PLED、Organic Solar Cell、RFID等相關有機電子元件產業。

噴墨法彩色濾光片

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 像素大小:pitch 0.110mm×0.110mm或customer design。 ‧ 顏色:RGB三色。 ‧ 耐熱性:250℃×1hr。 ‧ 耐化性:5% KOH, 40℃×10min; A... | 潛力預估: 可應用於彩色濾光片、COA(Color Filter on Array)。

無光罩金屬薄膜製程技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Metal Film: 0.3-60 um ‧ Glass/PET/FR-4 / PI / BT ‧ Line Width: < 60~100 um ‧ Line Pitch < 10 um ‧... | 潛力預估: 此技術具有潛力的應用,例如全彩平面顯示器(full color flat display)、薄膜分離 (membrane separation)、電放光元件(electroluminescent de...

六色相片與PictBridge列印技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基本色彩:支援RGB色座標與Cyan, Magenta, Yellow, Light Cyan, Light Magenta色座標轉換 ‧ 解析度:48001200dpi ‧ PictBridg... | 潛力預估: 配合本土化技術發展與生根的原則,提供國內基礎核心技術的Solution

視覺化彩色處理及對色技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧半自動喜好色調處理技術:平均色差 △E*ab≦10。 喜好色處理功能:選擇色調整Lab、色相(0~3600)、飽和度(0~100)、亮度(0~100)。可選擇特定色調整,如膚色、藍天、綠地,白色等。... | 潛力預估: ‧積極研發以軟體為主的視覺化彩色處理技術,可以運用於影像處理IC上有助於整體工業的完整發展,並提昇產品附加價值。 ‧預期在資訊產品之產業效益≧壹億元/年(LCD用IC, DSC用IC, MFP用IC...

XGA液晶投影顯示器光學引擎

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: 採用Dichroic Prism type設計及120W Lamp,照明輸出1000 Lumens以上,投影均勻度85%,投影畫面尺寸40至200英吋,投影影像解析度可至XGA等級。 | 潛力預估: 提供國內LCD投影機所需關鍵之光學引擎,建立液晶投影顯示光學引擎上下游產業結構,達到光學元件、光機元件100% 自製率,可降低進口依賴度。

單片式彩色LCOS背投影原型機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 最高光學解析度:1280x720 ‧ 燈源:150W UHP ‧ 面板:單片反射式液晶板(LCOS) ‧ 面板尺寸: 0.82英吋以下均適用 ‧ 畫面尺寸: 50英吋 | 潛力預估: 單片式LCOS背投影電視原型機,相較於目前使用三片LCOS面板的背投影電視,由於物料節省約1/3,加上結構較簡單,因此平價化、大畫面、高畫質背投電視將成為主流產品,若以目前市價而言,50吋單片式LCO...

噴墨印表機/傳真機ASIC開發技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧工作頻率:48MHz。 ‧資料匯流排:32位元。 ‧電源:3.3V。 ‧DRAM控制電路:最大可控制8MB。 ‧適用噴墨頭:HP51645、C1823,Lexmark12A1970、15M0120等... | 潛力預估: 噴墨印表機價格低廉,又可滿足彩色化的列印,使用噴墨印表機來作相片的列印,受到個人及家庭市場的喜愛,且市場規模龐大,已成為市場銷售的主力產品;預計2006年產量可達6,735萬台,複合年成長率為3.2%...

單色/彩色熱氣泡噴墨式印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧解析度:300dpi/600dpi。 ‧噴墨體積:5pl~120pl。 ‧工作頻率:5~12KHZ(單色):3~18KHZ(彩色)。 | 潛力預估: ‧ 目前國內噴墨印頭廠創造總產值每年新台幣16億元,持續成長中。 ‧ 可以噴墨印頭技術為基礎,開發各項工業應用及製造技術(如Color Filter、PLED、Bio Chip、Fuel Inject...

圖文分離技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Clock rate: 10MHz(Max.). ‧Scan speed: 5 ms/line(Max.). ‧Document size: B4(Max.). ‧Voltage: 5V。 ‧Hal... | 潛力預估: 在需要影像處理為基礎的產業中,本技術能夠使之具備較佳品質的關鍵角色。

色彩修正晶片模組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 圖素輸入匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 圖素輸出匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 每色彩圖素處理時間:20 cck cycle。 ‧ 支援RGB色座標與KCMY色座標轉換。 ‧ 使用17×17×1... | 潛力預估: 該相關技術在彩色印表機及多功能事務機領域是決定列印品質優劣的決戰項目之一。

彩色多功能事務機晶片組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 列印解析度:最高2,400×1,200dpi。 ‧ 列印速度:最快17ppm。 ‧ 列印色階:最高4,913色。 ‧ 光學解析度:Up to 1,200dpi。 ‧ CCD掃描速度:Up to 5... | 潛力預估: 配合多功能事務機,落實本土發展,技術生根的原則,能提供給國內完整的配套Solution。

工業噴印平台設計

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Drop on Demand、Step Patterning、Printing on the fly快速列印技術。 ‧ Pixel修補列印技術(Patch Process)。 ‧ 墨點自動分析系統... | 潛力預估: 本技術可應用於多種領域,如TFTs配向膜/彩色濾光片/液晶填充製程應用/PLED製程應用/印刷電路版/封裝產業/光電元件製程應用…。

熱氣泡式燃油噴射霧化器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 操作環境溫度:-15℃~ -60℃。 ‧ 單體噴嘴出口壓力:0~-0.1kg/cm2。 ‧ 噴射油滴直徑:<100m。 ‧ 噴射出口速度:<4.5m/sec。 | 潛力預估: 當前全球機車年產量約為2300萬輛/年,台灣機車年產量約為110萬輛/年,且中國大陸機車年產量約為900萬輛/年,預計可創造每年新台幣15億以上的產值。

特殊工業用噴墨印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 噴嘴數:50 Nozzles。 ‧ 解析度:300dpi。 ‧ 工作頻率:? 5KHz。 ‧ 墨滴體積:20pl~85pl。 ‧ 耐工業溶劑之噴墨印頭。 | 潛力預估: ‧ 可供PLED顯示器面板製程應用,依據SRI預估,OLED/PLED顯示年產值CAGR可達65%,2008年總產值可達23億美元。 ‧ 可供LCD顯示器之Color Filter製程應用,提供大尺寸...

高分子發光二極體顯示

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧材料:顏色:RGB三色。分子量:25~100萬。溶解度>0.5wt % (xylene)。 ‧面板封裝:Color passive PLED 80803 dot matrix. ‧噴製像素化: ... | 潛力預估: 可應用於顯示產業,如Organic TFTs、PLED、Organic Solar Cell、RFID等相關有機電子元件產業。

噴墨法彩色濾光片

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 像素大小:pitch 0.110mm×0.110mm或customer design。 ‧ 顏色:RGB三色。 ‧ 耐熱性:250℃×1hr。 ‧ 耐化性:5% KOH, 40℃×10min; A... | 潛力預估: 可應用於彩色濾光片、COA(Color Filter on Array)。

無光罩金屬薄膜製程技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Metal Film: 0.3-60 um ‧ Glass/PET/FR-4 / PI / BT ‧ Line Width: < 60~100 um ‧ Line Pitch < 10 um ‧... | 潛力預估: 此技術具有潛力的應用,例如全彩平面顯示器(full color flat display)、薄膜分離 (membrane separation)、電放光元件(electroluminescent de...

六色相片與PictBridge列印技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基本色彩:支援RGB色座標與Cyan, Magenta, Yellow, Light Cyan, Light Magenta色座標轉換 ‧ 解析度:48001200dpi ‧ PictBridg... | 潛力預估: 配合本土化技術發展與生根的原則,提供國內基礎核心技術的Solution

視覺化彩色處理及對色技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧半自動喜好色調處理技術:平均色差 △E*ab≦10。 喜好色處理功能:選擇色調整Lab、色相(0~3600)、飽和度(0~100)、亮度(0~100)。可選擇特定色調整,如膚色、藍天、綠地,白色等。... | 潛力預估: ‧積極研發以軟體為主的視覺化彩色處理技術,可以運用於影像處理IC上有助於整體工業的完整發展,並提昇產品附加價值。 ‧預期在資訊產品之產業效益≧壹億元/年(LCD用IC, DSC用IC, MFP用IC...

XGA液晶投影顯示器光學引擎

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: 採用Dichroic Prism type設計及120W Lamp,照明輸出1000 Lumens以上,投影均勻度85%,投影畫面尺寸40至200英吋,投影影像解析度可至XGA等級。 | 潛力預估: 提供國內LCD投影機所需關鍵之光學引擎,建立液晶投影顯示光學引擎上下游產業結構,達到光學元件、光機元件100% 自製率,可降低進口依賴度。

單片式彩色LCOS背投影原型機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 最高光學解析度:1280x720 ‧ 燈源:150W UHP ‧ 面板:單片反射式液晶板(LCOS) ‧ 面板尺寸: 0.82英吋以下均適用 ‧ 畫面尺寸: 50英吋 | 潛力預估: 單片式LCOS背投影電視原型機,相較於目前使用三片LCOS面板的背投影電視,由於物料節省約1/3,加上結構較簡單,因此平價化、大畫面、高畫質背投電視將成為主流產品,若以目前市價而言,50吋單片式LCO...

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