薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院材料所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東, 證書號碼是198451.

序號	564
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	198451
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種應用於薄膜體聲波共振子(Thin-Film Bulk Acoustic Resonators；FBAR)之濾波裝置及使用該裝置之雙工器，該薄膜體聲波共振子雙工器包括一第一埠、第二埠及第三埠；一介於該第一埠與該第二埠間並與該第一埠及該第二埠耦接之傳送端濾波裝置；以及一介於該第一埠與該第三埠間並與該第一埠及該第三埠耦接之接收端濾波裝置。其中，該傳送端濾波裝置及該接收端濾波裝置均至少包括一薄膜體聲波共振子電路。此外，該薄膜體聲波共振子電路包括有串聯及/或並聯之電感及電容其中任一者，藉以大幅達到調整薄膜體聲波共振子電路之頻寬、濾波裝置於斥帶之衰減量及阻抗匹配之目的。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	林澤勝
電話	03-5916930
傳真	(空)
電子信箱	TSlin@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)
同步更新日期	2023-07-05

序號

564

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

執行單位

工研院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

198451

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種應用於薄膜體聲波共振子(Thin-Film Bulk Acoustic Resonators；FBAR)之濾波裝置及使用該裝置之雙工器，該薄膜體聲波共振子雙工器包括一第一埠、第二埠及第三埠；一介於該第一埠與該第二埠間並與該第一埠及該第二埠耦接之傳送端濾波裝置；以及一介於該第一埠與該第三埠間並與該第一埠及該第三埠耦接之接收端濾波裝置。其中，該傳送端濾波裝置及該接收端濾波裝置均至少包括一薄膜體聲波共振子電路。此外，該薄膜體聲波共振子電路包括有串聯及/或並聯之電感及電容其中任一者，藉以大幅達到調整薄膜體聲波共振子電路之頻寬、濾波裝置於斥帶之衰減量及阻抗匹配之目的。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

林澤勝

電話

03-5916930

傳真

(空)

電子信箱

TSlin@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器於經濟部產業技術司–專利資料集

序號	566
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	戴建雄, 邢泰剛, 田慶成, 李耀東
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I224891
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明揭露一種平衡式架構之薄膜體聲波共振子（Thin-Film Bulk Acoustic Resonators；FBAR）濾波裝置及使用該裝置之雙工器，係利用一種薄膜體聲波共振子厚度(也就是共振頻率皆相同)即可達到濾波器及雙工器的規格，免除了傳統式的平衡式與非平衡架構架構必須採用多種薄膜體聲波共振子厚度所造成的製造複雜性與所增加製程不穩定度。另外，本發明採用電感或電容來取代部分的薄膜體聲波共振子，可減少濾波器架構所需的薄膜體聲波共振子個數，同時在雙工器的應用上亦不需額外傳輸線，皆可有效減小雙工器面積與寄生效應的問題。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	林澤勝
電話	03-5916930
傳真	(空)
電子信箱	TSlin@itri.org.tw
參考網址	www.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號: 566

產出年度: 93

領域別: (空)

專利名稱-中文: 平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

執行單位: 工研院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人: 戴建雄, 邢泰剛, 田慶成, 李耀東

核准國家: 中華民國

獲證日期: (空)

證書號碼: I224891

專利期間起: (空)

專利期間訖: (空)

專利性質: 發明

技術摘要-中文: 本發明揭露一種平衡式架構之薄膜體聲波共振子（Thin-Film Bulk Acoustic Resonators；FBAR）濾波裝置及使用該裝置之雙工器，係利用一種薄膜體聲波共振子厚度(也就是共振頻率皆相同)即可達到濾波器及雙工器的規格，免除了傳統式的平衡式與非平衡架構架構必須採用多種薄膜體聲波共振子厚度所造成的製造複雜性與所增加製程不穩定度。另外，本發明採用電感或電容來取代部分的薄膜體聲波共振子，可減少濾波器架構所需的薄膜體聲波共振子個數，同時在雙工器的應用上亦不需額外傳輸線，皆可有效減小雙工器面積與寄生效應的問題。

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 林澤勝

電話: 03-5916930

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備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形: (空)

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# 03-5916930 於經濟部產業技術司–專利資料集

序號	565
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法
執行單位	工研院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	陳一誠, 曾永寬, 林澤勝
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I224079
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法，係利用超臨界流體的特性，於基材表面形成奈米結構以形成具有表面奈米機能結構之材料；以超臨界流體攜帶機能材料之前驅物，使其於高壓容器內與基材達到反應平衡之後，再以適當的速度卸除壓力，二氧化碳超臨界流體則相應產生汽化反應，即可帶動前驅物分散附著於基材表面形成表面奈米機能結構；配合重複氣-液-固（VLS）之奈米線材成長的方法的運用，製作具有一維與二維複合奈米機能線材結構。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	林澤勝
電話	03-5916930
傳真	(空)
電子信箱	TSlin@itri.org.tw
參考網址	www.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號: 565

產出年度: 93

領域別: (空)

專利名稱-中文: 具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法

執行單位: 工研院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人: 陳一誠, 曾永寬, 林澤勝

核准國家: 中華民國

獲證日期: (空)

證書號碼: I224079

專利期間起: (空)

專利期間訖: (空)

專利性質: 發明

技術摘要-中文: 一種具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法，係利用超臨界流體的特性，於基材表面形成奈米結構以形成具有表面奈米機能結構之材料；以超臨界流體攜帶機能材料之前驅物，使其於高壓容器內與基材達到反應平衡之後，再以適當的速度卸除壓力，二氧化碳超臨界流體則相應產生汽化反應，即可帶動前驅物分散附著於基材表面形成表面奈米機能結構；配合重複氣-液-固（VLS）之奈米線材成長的方法的運用，製作具有一維與二維複合奈米機能線材結構。

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 林澤勝

電話: 03-5916930

傳真: (空)

電子信箱: TSlin@itri.org.tw

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備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形: (空)

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喜好色調之色彩轉換方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳君彥 \| 證書號碼: 190237
適用於校正雷射三次元量測器之方法及裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 羅文秀, 林明慧 \| 證書號碼: 191497
以特徵線分割重建規則化三維模型的方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳加珍, 羅文秀 \| 證書號碼: 194398
液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰 \| 證書號碼: 196458
液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰 \| 證書號碼: 6,703,173
多波長光源之光學掃描裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉貞豪 \| 證書號碼: 206645
光傳送模組之封裝	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蕭正達, 高旻聖, 王炯宏 \| 證書號碼: 192247
光傳送模組之封裝	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蕭正達, 高旻聖, 王炯宏 \| 證書號碼: 6,661,565
室溫紫外光增益之氮化物材料的氧化方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 何晉國, 黃兆年, 彭隆翰, 徐易千, 陳金源 \| 證書號碼: 204003
以低電壓製作塊狀鐵電性材料區域反轉之方式	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 彭隆瀚, 林宜慶, 房宜澂 \| 證書號碼: 186269
光加取多工器	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林士強, 周維仁, 江行健, 吳俊雄 \| 證書號碼: 6,661,944
具有三端口的光學循環器	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 胡杰, 黃承彬, 廖浚男 \| 證書號碼: ZL01109959.3
表面層以複合材料CaF2和TiO2所構成且具撥水功能之光學鍍膜元件	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡榮源, 林浪津, 崋沐怡 \| 證書號碼: I223009
分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 余昱辰, 郭宗南, 潘彥廷 \| 證書號碼: 194417
光盤承載裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 黃偉煜 \| 證書號碼: ZL00129763.5

薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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產出年度

領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

獲證日期

證書號碼

專利期間起

專利期間訖

專利性質

技術摘要-中文

技術摘要-英文

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特殊情形

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# 03-5916930 於 經濟部產業技術司–專利資料集

與薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器
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# 薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器於經濟部產業技術司–專利資料集

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