蝕刻玻璃面板之裝置及方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文蝕刻玻璃面板之裝置及方法的核准國家是美國, 證書號碼是6673195, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是陳泰宏, 黃元璋.

序號770
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文蝕刻玻璃面板之裝置及方法
執行單位工研院電子所
產出單位(空)
計畫名稱下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人陳泰宏 | 黃元璋
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6673195
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係一種蝕刻玻璃面板之裝置及方法。該裝置係由蝕刻過程中,在蝕刻槽內安置一面板夾具及配置有用以旋轉面板夾具之旋轉構件等購件所構成。該面板夾具係適合用於垂直地承載極安置複數個玻璃面板,且複數個面板至少有兩邊係安置在複數個軌道內,以保護形成在面板邊緣上之導電元件並在旋轉面板的過程中牢固的持住面板。該用蝕刻複數個面板的方法係在一含有蝕刻劑之稀釋酸液中,如具有至少百分之五體積百分濃度之氫氟酸(HF)中,以大約5rpm(revolution per minute,每分鐘轉數)至60rpm之速率旋轉面板。為了生產薄厚度面板,複數個玻璃面板在稀釋的蝕刻劑中所需的適當進入時間至少須3分鐘
技術摘要-英文(空)
聯絡人員謝旺廷
電話03-5913551
傳真(空)
電子信箱wthsieh@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)

序號

770

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

蝕刻玻璃面板之裝置及方法

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

陳泰宏 | 黃元璋

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6673195

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係一種蝕刻玻璃面板之裝置及方法。該裝置係由蝕刻過程中,在蝕刻槽內安置一面板夾具及配置有用以旋轉面板夾具之旋轉構件等購件所構成。該面板夾具係適合用於垂直地承載極安置複數個玻璃面板,且複數個面板至少有兩邊係安置在複數個軌道內,以保護形成在面板邊緣上之導電元件並在旋轉面板的過程中牢固的持住面板。該用蝕刻複數個面板的方法係在一含有蝕刻劑之稀釋酸液中,如具有至少百分之五體積百分濃度之氫氟酸(HF)中,以大約5rpm(revolution per minute,每分鐘轉數)至60rpm之速率旋轉面板。為了生產薄厚度面板,複數個玻璃面板在稀釋的蝕刻劑中所需的適當進入時間至少須3分鐘

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

謝旺廷

電話

03-5913551

傳真

(空)

電子信箱

wthsieh@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電,95年改為電資通光

特殊情形

(空)

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影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I250655 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 95 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋 | 陳泰宏 | 林耀生 | 陸蘇財

@ 技術司專利資料集

一種影像感測元件的晶片級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200410056902.3 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏 林耀生 陸蘇財

@ 技術司專利資料集

影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7,317,235 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏 林耀生 陸蘇財

@ 技術司專利資料集

影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7,465,603 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 | 陳泰宏 | 林耀生 | 陸蘇財

@ 技術司專利資料集

影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7317235 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏 林耀生 陸蘇財

@ 技術司專利資料集

影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7465603 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 | 陳泰宏 | 林耀生 | 陸蘇財

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非平坦表面之引腳連結構及其形成方法以應用該結構之封裝方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I300262 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏

@ 技術司專利資料集

影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I250655 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 95 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋 | 陳泰宏 | 林耀生 | 陸蘇財

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一種影像感測元件的晶片級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200410056902.3 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏 林耀生 陸蘇財

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影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7,317,235 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏 林耀生 陸蘇財

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影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7,465,603 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 | 陳泰宏 | 林耀生 | 陸蘇財

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影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7317235 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏 林耀生 陸蘇財

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影像感測元件的晶圓級封裝結構及其封裝方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7465603 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 | 陳泰宏 | 林耀生 | 陸蘇財

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非平坦表面之引腳連結構及其形成方法以應用該結構之封裝方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I300262 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 97 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 黃元璋 陳泰宏

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4"10"20" 奈米碳管背光技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

20吋奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

CNT-BLU技術商品化規格驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

CNT-FED/CNT-BLU材料驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力

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LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

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4"10"20" 奈米碳管背光技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

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輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力

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20吋奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力

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CNT-BLU技術商品化規格驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力

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CNT-FED/CNT-BLU材料驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力

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LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

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多波長光源之光學掃描裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206645 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉貞豪

光傳送模組之封裝

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192247 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蕭正達 | 高旻聖 | 王炯宏

光傳送模組之封裝

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,661,565 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蕭正達 | 高旻聖 | 王炯宏

室溫紫外光增益之氮化物材料的氧化方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204003 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 何晉國 | 黃兆年 | 彭隆翰 | 徐易千 | 陳金源

以低電壓製作塊狀鐵電性材料區域反轉之方式

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 186269 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 彭隆瀚 | 林宜慶 | 房宜澂

光加取多工器

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,661,944 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林士強 | 周維仁 | 江行健 | 吳俊雄

具有三端口的光學循環器

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01109959.3 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 胡杰 | 黃承彬 | 廖浚男

表面層以複合材料CaF2和TiO2所構成且具撥水功能之光學鍍膜元件

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I223009 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡榮源 | 林浪津 | 崋沐怡

分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 194417 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 余昱辰 | 郭宗南 | 潘彥廷

光盤承載裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL00129763.5 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃偉煜

動態減震系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊志軒 | 謝政揚 | 黃振源 | 張啟伸

聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL00108097.0 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 朱良謙 | 張志吉

可調整的鏡群裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195758 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 涂銀發 | 姜皇成 | 陳志文 | 張耿智

雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201010 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林明慧 | 劉通發

環場影像接圖器及其方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,798,923 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 謝君偉 | 江政欽 | 魏德樂

多波長光源之光學掃描裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206645 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉貞豪

光傳送模組之封裝

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192247 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蕭正達 | 高旻聖 | 王炯宏

光傳送模組之封裝

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,661,565 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蕭正達 | 高旻聖 | 王炯宏

室溫紫外光增益之氮化物材料的氧化方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204003 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 何晉國 | 黃兆年 | 彭隆翰 | 徐易千 | 陳金源

以低電壓製作塊狀鐵電性材料區域反轉之方式

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 186269 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 彭隆瀚 | 林宜慶 | 房宜澂

光加取多工器

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,661,944 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林士強 | 周維仁 | 江行健 | 吳俊雄

具有三端口的光學循環器

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01109959.3 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 胡杰 | 黃承彬 | 廖浚男

表面層以複合材料CaF2和TiO2所構成且具撥水功能之光學鍍膜元件

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I223009 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡榮源 | 林浪津 | 崋沐怡

分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 194417 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 余昱辰 | 郭宗南 | 潘彥廷

光盤承載裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL00129763.5 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃偉煜

動態減震系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊志軒 | 謝政揚 | 黃振源 | 張啟伸

聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL00108097.0 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 朱良謙 | 張志吉

可調整的鏡群裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195758 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 涂銀發 | 姜皇成 | 陳志文 | 張耿智

雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201010 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林明慧 | 劉通發

環場影像接圖器及其方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,798,923 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 謝君偉 | 江政欽 | 魏德樂

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