專利名稱-中文懸臂式測試卡及其製造方法 的核准國家是中華民國 , 證書號碼是184677 , 專利性質是發明 , 執行單位是工研院電子所 , 產出年度是93 , 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 , 專利發明人是李政鴻, 李新立, 陳宜孝 .
序號 793 產出年度 93 領域別 (空) 專利名稱-中文 懸臂式測試卡及其製造方法 執行單位 工研院電子所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 專利發明人 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 核准國家 中華民國 獲證日期 (空) 證書號碼 184677 專利期間起 (空) 專利期間訖 (空) 專利性質 發明 技術摘要-中文 本發明為一種懸臂式測試卡及其製造方法,係配合微機電技術利用犧牲層的方法於基板上製作懸空的一體成型金屬懸臂結構以形成懸臂式測試卡,並使用不同種類的金屬材料製造金屬懸臂與金屬探針形成雙金屬層結構,應用雙金屬層間不同種類金屬材料造成的應力差異,使金屬懸臂與金屬探針形成一微翹曲金屬懸臂結構,在進行測試時能提供應力緩衝的效果,以確保每一根探針都能和欲測之金屬接點接觸並減少對金屬接點的傷害。( 技術摘要-英文 (空) 聯絡人員 楊倉錄 電話 03-5914393 傳真 03-5820413 電子信箱 yangtl@itri.org.tw 參考網址 http://www.itri.org.tw 備註 原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸 特殊情形 (空)
序號 793 產出年度 93 領域別 (空) 專利名稱-中文 懸臂式測試卡及其製造方法 執行單位 工研院電子所 產出單位 (空) 計畫名稱 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 專利發明人 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 核准國家 中華民國 獲證日期 (空) 證書號碼 184677 專利期間起 (空) 專利期間訖 (空) 專利性質 發明 技術摘要-中文 本發明為一種懸臂式測試卡及其製造方法,係配合微機電技術利用犧牲層的方法於基板上製作懸空的一體成型金屬懸臂結構以形成懸臂式測試卡,並使用不同種類的金屬材料製造金屬懸臂與金屬探針形成雙金屬層結構,應用雙金屬層間不同種類金屬材料造成的應力差異,使金屬懸臂與金屬探針形成一微翹曲金屬懸臂結構,在進行測試時能提供應力緩衝的效果,以確保每一根探針都能和欲測之金屬接點接觸並減少對金屬接點的傷害。( 技術摘要-英文 (空) 聯絡人員 楊倉錄 電話 03-5914393 傳真 03-5820413 電子信箱 yangtl@itri.org.tw 參考網址 http://www.itri.org.tw 備註 原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸 特殊情形 (空)
根據識別碼 184677 找到的相關資料 (以下顯示 2 筆) (或要:直接搜尋所有 184677 ...)站位代碼: 1165604199 | 地址: 新北市新莊區(向南) | 去返程: 0 | 上下車站別: 0 | 所屬路線代碼: 17663 | Bus Stop Name: Xingfu E. Rd.
@ 公車站位資訊 所在工業區名稱: 非屬工業區類 | (實際廠場)地址: 彰化縣大城鄉潭墘村天惠路四五之三號 | 營利事業統一編號: 12739480 | 管制編號: N3006535
@ 環境保護許可管理系統(暨解除列管)對象基本資料
站位代碼: 1165604199 | 地址: 新北市新莊區(向南) | 去返程: 0 | 上下車站別: 0 | 所屬路線代碼: 17663 | Bus Stop Name: Xingfu E. Rd.
@ 公車站位資訊 所在工業區名稱: 非屬工業區類 | (實際廠場)地址: 彰化縣大城鄉潭墘村天惠路四五之三號 | 營利事業統一編號: 12739480 | 管制編號: N3006535
@ 環境保護許可管理系統(暨解除列管)對象基本資料
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根據名稱 懸臂式測試卡及其製造方法 找到的相關資料 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝
@ 技術司專利資料集
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝
@ 技術司專利資料集
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根據電話 03-5914393 找到的相關資料 (以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5914393 ...)執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 懸膜厚度尺寸變化在±1μm。 | 潛力預估: 有替代技術,應用潛力中等
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸(max.) – Au : 24 cm (W) x 18(cm D) Ni : 25 cm (W) x 30 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被... | 潛力預估: 應用潛力高
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: Fin Size < 0.3mm, Fin Height < 10.2mm, Aspect Ratio >35 | 潛力預估: 應用潛力中
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩(error<0.2度)。 | 潛力預估: 體型微加工重要技術,應用潛力高
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)畫面速率 30Hz (2)視訊 NTSC標準 | 潛力預估: 應用潛力中等
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ,薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 須搭配元件技術,應用潛力低
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ‧ 深寬比 > 3 | 潛力預估: 單一光罩製程,製程簡單,應用潛力中等
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um ‧ 蝕刻率 > 4 um/min ‧ 蝕刻垂直度 > 89度 ‧ 深寬比 > 30 | 潛力預估: 潛力中等
@ 技術司可移轉技術資料集
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 懸膜厚度尺寸變化在±1μm。 | 潛力預估: 有替代技術,應用潛力中等
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸(max.) – Au : 24 cm (W) x 18(cm D) Ni : 25 cm (W) x 30 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被... | 潛力預估: 應用潛力高
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: Fin Size < 0.3mm, Fin Height < 10.2mm, Aspect Ratio >35 | 潛力預估: 應用潛力中
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩(error<0.2度)。 | 潛力預估: 體型微加工重要技術,應用潛力高
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)畫面速率 30Hz (2)視訊 NTSC標準 | 潛力預估: 應用潛力中等
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ,薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 須搭配元件技術,應用潛力低
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ‧ 深寬比 > 3 | 潛力預估: 單一光罩製程,製程簡單,應用潛力中等
@ 技術司可移轉技術資料集 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um ‧ 蝕刻率 > 4 um/min ‧ 蝕刻垂直度 > 89度 ‧ 深寬比 > 30 | 潛力預估: 潛力中等
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與懸臂式測試卡及其製造方法同分類的技術司專利資料集 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207037 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文、劉伍健、卓廷彬、楊玉森
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 210407 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 劉伍健、楊玉森
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184907 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 張瑞模、陳建仁、蔡兆豐、陳正義、鄭勝元
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 211530 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱、江文欽
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 214980 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林志浩、蔡行知、魏江銘
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220003 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽、林庭凱
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195390 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文、楊玉森、邱松茂
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222536 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪、林進順
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634651 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽、林庭凱
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634266 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱、江文欽
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201043 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 翁震杰、賴逸林、鄭勝元
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 639900 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪、林進順
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201861 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 謝興達、曾光宏、侯信男、黃仁隆、曾界彰
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204712 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林進順、古嘉琳
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 224033 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 謝興達、曾光宏、曾界彰、吳隆佃
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207037 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文、劉伍健、卓廷彬、楊玉森
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 210407 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 劉伍健、楊玉森
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184907 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 張瑞模、陳建仁、蔡兆豐、陳正義、鄭勝元
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 211530 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱、江文欽
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 214980 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林志浩、蔡行知、魏江銘
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220003 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽、林庭凱
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195390 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文、楊玉森、邱松茂
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222536 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪、林進順
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634651 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽、林庭凱
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634266 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱、江文欽
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201043 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 翁震杰、賴逸林、鄭勝元
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 639900 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪、林進順
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201861 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 謝興達、曾光宏、侯信男、黃仁隆、曾界彰
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204712 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林進順、古嘉琳
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 224033 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 謝興達、曾光宏、曾界彰、吳隆佃
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