具有主動控制之可調式場發射顯示器
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專利名稱-中文具有主動控制之可調式場發射顯示器的核准國家是中華民國, 證書號碼是202493, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是王右武, 李鈞道, 李正中.

序號811
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文具有主動控制之可調式場發射顯示器
執行單位工研院電子所
產出單位(空)
計畫名稱下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人王右武 | 李鈞道 | 李正中
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼202493
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係一種具有主動控制之可調式場發射型顯示器(active matrix current source controlled gray level tunable FED),其利用主動元件將電壓控制訊號轉換為電流輸出,並利用電容記錄及維持上述電壓控制信號,以產生低控制電壓主動電流源驅動場發射型顯示器(low control voltage and active current source driving FED),可達到調整與維持其灰階及亮度(brightness)的目的。經由使用上述主動元件及電容,使亮度維持固定,如此,場發射型顯示器(FED)操作於較低電壓及亮度下,即可得到高瞬間亮度(high transient brightness)以產生高平均亮度(high average brightness),同時,也可避開高壓時產生的電弧電流(arc current)問題。另外,由於可由電流源控制流過場發射型顯示器的電流,故因真空不良而產生的大電弧電流,會被固定電流源壓制,使電流保持在定值,防止電弧(arc)產生,提升場發射型顯示器的良率。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員謝旺廷
電話03-5913551
傳真(空)
電子信箱wthsieh@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)

序號

811

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

具有主動控制之可調式場發射顯示器

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

王右武 | 李鈞道 | 李正中

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

202493

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係一種具有主動控制之可調式場發射型顯示器(active matrix current source controlled gray level tunable FED),其利用主動元件將電壓控制訊號轉換為電流輸出,並利用電容記錄及維持上述電壓控制信號,以產生低控制電壓主動電流源驅動場發射型顯示器(low control voltage and active current source driving FED),可達到調整與維持其灰階及亮度(brightness)的目的。經由使用上述主動元件及電容,使亮度維持固定,如此,場發射型顯示器(FED)操作於較低電壓及亮度下,即可得到高瞬間亮度(high transient brightness)以產生高平均亮度(high average brightness),同時,也可避開高壓時產生的電弧電流(arc current)問題。另外,由於可由電流源控制流過場發射型顯示器的電流,故因真空不良而產生的大電弧電流,會被固定電流源壓制,使電流保持在定值,防止電弧(arc)產生,提升場發射型顯示器的良率。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

謝旺廷

電話

03-5913551

傳真

(空)

電子信箱

wthsieh@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電,95年改為電資通光

特殊情形

(空)

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主動陣列可調灰階奈米碳管場發射顯示器

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6882112 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王右武 | 李鈞道 | 李正中

@ 技術司專利資料集

薄膜電晶體元件主動層之半導體材料與其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 221341 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 何家充 | 李仁豪 | 李正中 | 王右武 | 李鈞道 | 林鵬

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206590 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 | 何家充 | 王右武

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場發射型顯示器之三極結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 李正中 許志榮 張悠揚 何家充 王右武

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 李正中 許志榮 張悠揚 何家充 王右武

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 4854691 | 專利期間起: 100/11/04 | 專利期間訖: 112/05/12 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 | 何家充 | 王右武

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 4854711 | 專利期間起: 100/11/04 | 專利期間訖: 112/05/12 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 | 何家充 | 王右武

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薄膜電晶體元件主動層之半導體材料與其製作方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 5095068 | 專利期間起: 101/09/28 | 專利期間訖: 112/12/11 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫 | 專利發明人: 李仁豪 | 何家充 | 李正中 | 林鵬 | 李鈞道 | 王右武

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主動陣列可調灰階奈米碳管場發射顯示器

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6882112 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王右武 | 李鈞道 | 李正中

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薄膜電晶體元件主動層之半導體材料與其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 221341 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 何家充 | 李仁豪 | 李正中 | 王右武 | 李鈞道 | 林鵬

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206590 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 | 何家充 | 王右武

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場發射型顯示器之三極結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 李正中 許志榮 張悠揚 何家充 王右武

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 李正中 許志榮 張悠揚 何家充 王右武

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 4854691 | 專利期間起: 100/11/04 | 專利期間訖: 112/05/12 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 | 何家充 | 王右武

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場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 4854711 | 專利期間起: 100/11/04 | 專利期間訖: 112/05/12 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 | 何家充 | 王右武

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薄膜電晶體元件主動層之半導體材料與其製作方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 5095068 | 專利期間起: 101/09/28 | 專利期間訖: 112/12/11 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院顯示中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 先進互動與3D顯示系統技術關鍵計畫 | 專利發明人: 李仁豪 | 何家充 | 李正中 | 林鵬 | 李鈞道 | 王右武

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4"10"20" 奈米碳管背光技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

20吋奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

CNT-BLU技術商品化規格驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力

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CNT-FED/CNT-BLU材料驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

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4"10"20" 奈米碳管背光技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

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輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

20吋奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力

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CNT-BLU技術商品化規格驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力

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CNT-FED/CNT-BLU材料驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力

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10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力

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LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

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與具有主動控制之可調式場發射顯示器同分類的技術司專利資料集

低溫多晶矽的製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206403 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林憲信 | 李介文 | 鄭紹良 | 陳力俊 | 彭遠清 | 王文通

控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6750834 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁

奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6811457 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦 | 李正中 | 廖貞慧 | 張悠揚 | 許志榮 | 何家充

具低切換雜訊之構裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683781 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 何宗哲 | 李明林 | 張慧如 | 賴信助

低串聯阻抗薄膜電晶體I之製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6670224 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李啟聖 | 常鼎國 | 陳丕夫 | 康育銘 | 戴遠東

傾斜散射反射板的製造方法與結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文

低成本且可大面積化製作奈米碳管場發射顯示器之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中

無凸塊之內引腳與接合墊的接合方法及其結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋

使用非導電性接著劑以接合IC晶片與基板之方法及其組裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪

可調式電容及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和

具有偏射型對稱式加熱片之微型噴液產生器及其製造方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹

具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝

矽深蝕刻反應離子蝕刻延遲的解決方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 盧慧娟

低溫多晶矽的製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206403 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林憲信 | 李介文 | 鄭紹良 | 陳力俊 | 彭遠清 | 王文通

控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6750834 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁

奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6811457 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦 | 李正中 | 廖貞慧 | 張悠揚 | 許志榮 | 何家充

具低切換雜訊之構裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683781 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 何宗哲 | 李明林 | 張慧如 | 賴信助

低串聯阻抗薄膜電晶體I之製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6670224 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李啟聖 | 常鼎國 | 陳丕夫 | 康育銘 | 戴遠東

傾斜散射反射板的製造方法與結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文

低成本且可大面積化製作奈米碳管場發射顯示器之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中

無凸塊之內引腳與接合墊的接合方法及其結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋

使用非導電性接著劑以接合IC晶片與基板之方法及其組裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪

可調式電容及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和

具有偏射型對稱式加熱片之微型噴液產生器及其製造方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹

具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝

矽深蝕刻反應離子蝕刻延遲的解決方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 盧慧娟

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