高密度多匝微線圈及其製造方法
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專利名稱-中文高密度多匝微線圈及其製造方法的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL02121752.1, 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是95, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是范光錢、梁佩芳、莊世瑋、郭承忠.

序號	2278
產出年度	95
領域別	(空)
專利名稱-中文	高密度多匝微線圈及其製造方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	范光錢 \| 梁佩芳 \| 莊世瑋 \| 郭承忠
核准國家	中國大陸
獲證日期	(空)
證書號碼	ZL02121752.1
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係為一種高密度多匝微線圈及其製造方法，在結構上，其包括了：基板、與基板垂直的多匝微線圈組、導磁柱與厚膜光阻結構；本發明運用厚膜光阻結構來支撐懸空於基板之上的多匝微線圈組與導磁柱；在製程上，先形成厚膜光阻結構，而完成其中所包含的多匝微線圈組所需的通道，接著，再注入低熔點的導電材料進入厚膜光阻結構的通道當中，即可完成本發明的高密度多匝微線圈。A high density multi-layer microcoil includes a substrate, a multi-layer coil winding, a magnetic core and a dry film photoresist structure. The multi-layer coil winding and the magnetic core are supported by the dry film photoresist structure. The fabrication process is using photolithography process to form a dry film photoresist structure with a coil tunnel having coil elements perpendicular to the substrate and two outlets at ends of the tunnel; and injecting a conductive material with a low melting point into the tunnel and forming the coil winding.
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	劉展洋
電話	03-5916037
傳真	03-5917431
電子信箱	JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號

2278

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

高密度多匝微線圈及其製造方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

范光錢 | 梁佩芳 | 莊世瑋 | 郭承忠

核准國家

中國大陸

獲證日期

(空)

證書號碼

ZL02121752.1

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係為一種高密度多匝微線圈及其製造方法，在結構上，其包括了：基板、與基板垂直的多匝微線圈組、導磁柱與厚膜光阻結構；本發明運用厚膜光阻結構來支撐懸空於基板之上的多匝微線圈組與導磁柱；在製程上，先形成厚膜光阻結構，而完成其中所包含的多匝微線圈組所需的通道，接著，再注入低熔點的導電材料進入厚膜光阻結構的通道當中，即可完成本發明的高密度多匝微線圈。A high density multi-layer microcoil includes a substrate, a multi-layer coil winding, a magnetic core and a dry film photoresist structure. The multi-layer coil winding and the magnetic core are supported by the dry film photoresist structure. The fabrication process is using photolithography process to form a dry film photoresist structure with a coil tunnel having coil elements perpendicular to the substrate and two outlets at ends of the tunnel; and injecting a conductive material with a low melting point into the tunnel and forming the coil winding.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形

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高密度多匝微線圈及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 197655 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院系統中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 梁佩芳 \| 莊世瑋 \| 范光錢 \| 郭承忠 @ 技術司專利資料集
高密度多匝微線圈及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6876285 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 范光錢 \| 梁佩芳 \| 莊世瑋 \| 郭承忠 @ 技術司專利資料集
高密度多匝微線圈及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 96 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 范光錢梁佩芳莊世瑋郭承忠 @ 技術司專利資料集

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一種高速假撚方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207547 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院化工所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 \| 專利發明人: 陳哲陽 \| 簡淑華 \| 黃麗娟 \| 黃泳彬 @ 技術司專利資料集
增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207522 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 王興昇 \| 李榮賢 \| 陳棓煌 @ 技術司專利資料集
熱管均熱板	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 226177 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張長生 \| 楊書榮 @ 技術司專利資料集
一種資料通訊的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6496481 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電通所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳炯憲 \| 馬金溝 @ 技術司專利資料集
Optical Disk Control Mechanism	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6665253 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 \| 專利發明人: 藍永松 \| 張啟伸 @ 技術司專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 德國 \| 證書號碼: 573696 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥 \| 余基祥 \| 林妍君 \| 薛勝文 @ 技術司專利資料集
時序還原之方法與系統	核准國家: 英國 \| 證書號碼: 573696 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林清祥 \| 余基祥 \| 林妍君 \| 薛勝文 @ 技術司專利資料集
萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 157850 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院生醫中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 \| 專利發明人: 潘一紅 \| 李連滋 \| 邱惜禾 \| 劉惠儒 \| 姚心然 @ 技術司專利資料集

一種高速假撚方法

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熱管均熱板

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Optical Disk Control Mechanism

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時序還原之方法與系統

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液晶顯示面板點燈測試的方法及其結構	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 3553864 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 巫吉原
液晶顯示面板點燈測試的方法及其結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 190439 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 巫吉原
單增益緩衝器	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 3500353 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王博文 \| 施俊任 \| 陳尚立
廣視角橫向電極多域排列液晶顯示面板及製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206398 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達
連續域反扭轉型液晶顯示裝置及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185475 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 莊立聖 \| 陳慶逸
顯示器自動伽馬(GAMMA)校正系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200771 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖明俊 \| 楊和興 \| 沈毓仁
一種全彩化發光二極體裝置及製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6730937 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東 \| 彭遠清 \| 陳建志

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