發光二極體封裝結構及其製作方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法的核准國家是韓國, 執行單位是工研院電光所, 產出年度是97, 專利性質是發明, 計畫名稱是高效能半導體光源及應用技術計畫, 專利發明人是陳明鴻 溫士逸 郭武政 陳炳儒 翁瑞坪 李孝文, 證書號碼是10-0766028.

序號4283
產出年度97
領域別(空)
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱高效能半導體光源及應用技術計畫
專利發明人陳明鴻 溫士逸 郭武政 陳炳儒 翁瑞坪 李孝文
核准國家韓國
獲證日期(空)
證書號碼10-0766028
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。 One objective of the invention is to provide a light emitting diode (LED) package and process of making the same, which uses silicon-on-insulator (SOI) as the substrate and forms a reflective cavity on the silicon-on-insulator (SOI) substrate to dispose an LED. Insulation can be done by the insulation layer on the SOI substrate. Therefore, there is no need for further furnace processes to grow an insulation layer. Thus, the advantages of good heat resistance, ease in manufacturing the reflective cavity, good heat dispersal and easier processing can be achieved. In order to achieve the above objective, a process of making a light emitting diode (LED) package is disclosed. First, a silicon-on-insulator (SOI) substrate is provided. The silicon-on-insulator substrate is composed of a first silicon based material, a second silicon based material, and an insulation layer that is interposed therebetween. The first silicon based material and the second silicon based material of the silicon-on-insulator substrate are then etched to form a reflective cavity and an insulation trench, respectively. The insulation trench divides the silicon-on-insulator substrate into contact surfaces of positive and negative electrodes. Pluralities of metal lines are then formed on the sili
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
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電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註0
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同步更新日期2023-07-05

序號

4283

產出年度

97

領域別

(空)

專利名稱-中文

發光二極體封裝結構及其製作方法

執行單位

工研院電光所

產出單位

(空)

計畫名稱

高效能半導體光源及應用技術計畫

專利發明人

陳明鴻 溫士逸 郭武政 陳炳儒 翁瑞坪 李孝文

核准國家

韓國

獲證日期

(空)

證書號碼

10-0766028

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。 One objective of the invention is to provide a light emitting diode (LED) package and process of making the same, which uses silicon-on-insulator (SOI) as the substrate and forms a reflective cavity on the silicon-on-insulator (SOI) substrate to dispose an LED. Insulation can be done by the insulation layer on the SOI substrate. Therefore, there is no need for further furnace processes to grow an insulation layer. Thus, the advantages of good heat resistance, ease in manufacturing the reflective cavity, good heat dispersal and easier processing can be achieved. In order to achieve the above objective, a process of making a light emitting diode (LED) package is disclosed. First, a silicon-on-insulator (SOI) substrate is provided. The silicon-on-insulator substrate is composed of a first silicon based material, a second silicon based material, and an insulation layer that is interposed therebetween. The first silicon based material and the second silicon based material of the silicon-on-insulator substrate are then etched to form a reflective cavity and an insulation trench, respectively. The insulation trench divides the silicon-on-insulator substrate into contact surfaces of positive and negative electrodes. Pluralities of metal lines are then formed on the sili

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# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號4282
產出年度97
領域別(空)
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱高效能半導體光源及應用技術計畫
專利發明人陳明鴻 溫士逸 郭武政 陳炳儒 翁瑞坪 李孝文
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL200410103942.9
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。 One objective of the invention is to provide a light emitting diode (LED) package and process of making the same, which uses silicon-on-insulator (SOI) as the substrate and forms a reflective cavity on the silicon-on-insulator (SOI) substrate to dispose an LED. Insulation can be done by the insulation layer on the SOI substrate. Therefore, there is no need for further furnace processes to grow an insulation layer. Thus, the advantages of good heat resistance, ease in manufacturing the reflective cavity, good heat dispersal and easier processing can be achieved. In order to achieve the above objective, a process of making a light emitting diode (LED) package is disclosed. First, a silicon-on-insulator (SOI) substrate is provided. The silicon-on-insulator substrate is composed of a first silicon based material, a second silicon based material, and an insulation layer that is interposed therebetween. The first silicon based material and the second silicon based material of the silicon-on-insulator substrate are then etched to form a reflective cavity and an insulation trench, respectively. The insulation trench divides the silicon-on-insulator substrate into contact surfaces of positive and negative electrodes. Pluralities of metal lines are then formed on the sili
技術摘要-英文(空)
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特殊情形(空)
序號: 4282
產出年度: 97
領域別: (空)
專利名稱-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院電光所
產出單位: (空)
計畫名稱: 高效能半導體光源及應用技術計畫
專利發明人: 陳明鴻 溫士逸 郭武政 陳炳儒 翁瑞坪 李孝文
核准國家: 中國大陸
獲證日期: (空)
證書號碼: ZL200410103942.9
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。 One objective of the invention is to provide a light emitting diode (LED) package and process of making the same, which uses silicon-on-insulator (SOI) as the substrate and forms a reflective cavity on the silicon-on-insulator (SOI) substrate to dispose an LED. Insulation can be done by the insulation layer on the SOI substrate. Therefore, there is no need for further furnace processes to grow an insulation layer. Thus, the advantages of good heat resistance, ease in manufacturing the reflective cavity, good heat dispersal and easier processing can be achieved. In order to achieve the above objective, a process of making a light emitting diode (LED) package is disclosed. First, a silicon-on-insulator (SOI) substrate is provided. The silicon-on-insulator substrate is composed of a first silicon based material, a second silicon based material, and an insulation layer that is interposed therebetween. The first silicon based material and the second silicon based material of the silicon-on-insulator substrate are then etched to form a reflective cavity and an insulation trench, respectively. The insulation trench divides the silicon-on-insulator substrate into contact surfaces of positive and negative electrodes. Pluralities of metal lines are then formed on the sili
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
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備註: 0
特殊情形: (空)

# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號5757
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱高效能半導體光源及應用技術計畫
專利發明人陳明鴻 ,溫士逸 ,郭武政 ,陳炳儒 ,翁瑞坪 ,李孝文
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7521724
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
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電子信箱oralp@itri.org.tw
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備註20101022-Joanne
特殊情形(空)
序號: 5757
產出年度: 98
領域別: (空)
專利名稱-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院電光所
產出單位: (空)
計畫名稱: 高效能半導體光源及應用技術計畫
專利發明人: 陳明鴻 ,溫士逸 ,郭武政 ,陳炳儒 ,翁瑞坪 ,李孝文
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 7521724
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917431
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備註: 20101022-Joanne
特殊情形: (空)

# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號1972
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
專利發明人陳明鴻、溫士逸、郭武政、 陳炳儒、翁瑞坪、李孝文
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I239670
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1972
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫
專利發明人: 陳明鴻、溫士逸、郭武政、 陳炳儒、翁瑞坪、李孝文
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I239670
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種發光二極體封裝結構及其製作方法,乃利用由兩層矽基材間夾有絕緣層之絕緣矽(silicon-on-insulator, SOI)作為封裝基板,然後,於絕緣矽基板之兩層矽基材上分別製作凹槽反射座與可將絕緣矽基板分割出正負電極之隔絕槽,再製作數個金屬導線電性連接前述兩層矽基材,即可將發光二極體晶粒配置於凹槽反射座上並透過金屬導線而電性連接至絕緣矽基板之正負電極,藉此可達成發光二極體的封裝作業,並提高耐溫性、散熱性,以及簡化製程。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號7876
產出年度100
領域別創新前瞻
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院院本部
產出單位工研院院本部
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人戴明吉,劉君愷,余致廣,
核准國家美國
獲證日期100/01/10
證書號碼7,855,396
專利期間起99/12/21
專利期間訖115/10/19
專利性質發明
技術摘要-中文一種發光二極體封裝結構,其包括一第一基板、一發光二極體晶片、一第二基板以及一熱電致冷元件。第一基板具有一第一表面及與其相對應之一第二表面。發光二極體晶片適於發射出一光線,而發光二極體晶片係配置於第一基板之第一表面上,且與第一基板電性連接。第二基板是位於第一基板之下方,第二基板具有一第三表面及與其相對應之一第四表面,且第三表面係面對第二表面。熱電致冷元件是配置於第一基板之第二表面與第二基板的第三表面之間,以傳導發光二極體晶片運作時產生之熱能。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
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電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7876
產出年度: 100
領域別: 創新前瞻
專利名稱-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院院本部
產出單位: 工研院院本部
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 戴明吉,劉君愷,余致廣,
核准國家: 美國
獲證日期: 100/01/10
證書號碼: 7,855,396
專利期間起: 99/12/21
專利期間訖: 115/10/19
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種發光二極體封裝結構,其包括一第一基板、一發光二極體晶片、一第二基板以及一熱電致冷元件。第一基板具有一第一表面及與其相對應之一第二表面。發光二極體晶片適於發射出一光線,而發光二極體晶片係配置於第一基板之第一表面上,且與第一基板電性連接。第二基板是位於第一基板之下方,第二基板具有一第三表面及與其相對應之一第四表面,且第三表面係面對第二表面。熱電致冷元件是配置於第一基板之第二表面與第二基板的第三表面之間,以傳導發光二極體晶片運作時產生之熱能。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
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特殊情形: (空)

# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號7877
產出年度100
領域別創新前瞻
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院院本部
產出單位工研院院本部
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人戴明吉,劉君愷,余致廣
核准國家美國
獲證日期100/08/16
證書號碼7,972,877
專利期間起100/07/05
專利期間訖116/01/17
專利性質發明
技術摘要-中文一種發光二極體封裝結構,其包括一第一基板、一發光二極體晶片、一第二基板以及一熱電致冷元件。第一基板具有一第一表面及與其相對應之一第二表面。發光二極體晶片適於發射出一光線,而發光二極體晶片係配置於第一基板之第一表面上,且與第一基板電性連接。第二基板是位於第一基板之下方,第二基板具有一第三表面及與其相對應之一第四表面,且第三表面係面對第二表面。熱電致冷元件是配置於第一基板之第二表面與第二基板的第三表面之間,以傳導發光二極體晶片運作時產生之熱能。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7877
產出年度: 100
領域別: 創新前瞻
專利名稱-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院院本部
產出單位: 工研院院本部
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 戴明吉,劉君愷,余致廣
核准國家: 美國
獲證日期: 100/08/16
證書號碼: 7,972,877
專利期間起: 100/07/05
專利期間訖: 116/01/17
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種發光二極體封裝結構,其包括一第一基板、一發光二極體晶片、一第二基板以及一熱電致冷元件。第一基板具有一第一表面及與其相對應之一第二表面。發光二極體晶片適於發射出一光線,而發光二極體晶片係配置於第一基板之第一表面上,且與第一基板電性連接。第二基板是位於第一基板之下方,第二基板具有一第三表面及與其相對應之一第四表面,且第三表面係面對第二表面。熱電致冷元件是配置於第一基板之第二表面與第二基板的第三表面之間,以傳導發光二極體晶片運作時產生之熱能。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917431
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備註: (空)
特殊情形: (空)

# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號11207
產出年度102
領域別創新前瞻
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院院本部
產出單位工研院院本部
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人戴明吉 ,劉君愷 ,余致廣 ,
核准國家中華民國
獲證日期102/01/21
證書號碼I382564
專利期間起102/01/11
專利期間訖116/02/04
專利性質發明
技術摘要-中文一種發光二極體封裝結構,其包括一第一基板、一發光二極體晶片、一第二基板以及一熱電致冷元件。第一基板具有一第一表面及與其相對應之一第二表面。發光二極體晶片適於發射出一光線,而發光二極體晶片係配置於第一基板之第一表面上,且與第一基板電性連接。第二基板是位於第一基板之下方,第二基板具有一第三表面及與其相對應之一第四表面,且第三表面係面對第二表面。熱電致冷元件是配置於第一基板之第二表面與第二基板的第三表面之間,以傳導發光二極體晶片運作時產生之熱能。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 11207
產出年度: 102
領域別: 創新前瞻
專利名稱-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院院本部
產出單位: 工研院院本部
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 戴明吉 ,劉君愷 ,余致廣 ,
核准國家: 中華民國
獲證日期: 102/01/21
證書號碼: I382564
專利期間起: 102/01/11
專利期間訖: 116/02/04
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種發光二極體封裝結構,其包括一第一基板、一發光二極體晶片、一第二基板以及一熱電致冷元件。第一基板具有一第一表面及與其相對應之一第二表面。發光二極體晶片適於發射出一光線,而發光二極體晶片係配置於第一基板之第一表面上,且與第一基板電性連接。第二基板是位於第一基板之下方,第二基板具有一第三表面及與其相對應之一第四表面,且第三表面係面對第二表面。熱電致冷元件是配置於第一基板之第二表面與第二基板的第三表面之間,以傳導發光二極體晶片運作時產生之熱能。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
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備註: (空)
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# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號9971
產出年度101
領域別電資通光
專利名稱-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
專利發明人陳明鴻,溫士逸,郭武政,陳炳儒,翁瑞坪,李孝文,
核准國家日本
獲證日期101/04/19
證書號碼4947929
專利期間起101/03/16
專利期間訖114/07/04
專利性質發明
技術摘要-中文發光二極體封裝結構及其製作方法
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
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序號: 9971
產出年度: 101
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
專利發明人: 陳明鴻,溫士逸,郭武政,陳炳儒,翁瑞坪,李孝文,
核准國家: 日本
獲證日期: 101/04/19
證書號碼: 4947929
專利期間起: 101/03/16
專利期間訖: 114/07/04
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 發光二極體封裝結構及其製作方法
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917431
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# 發光二極體封裝結構及其製作方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號9982
產出年度101
領域別電資通光
專利名稱-中文具靜電保護之發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
專利發明人石志聰,許鎮鵬,黃世才,蔡欣芸,胡鴻烈,陳炳儒,杜冠潔,
核准國家中華民國
獲證日期101/05/16
證書號碼I363437
專利期間起101/05/01
專利期間訖117/05/20
專利性質發明
技術摘要-中文具靜電保護之發光二極體封裝結構及其製作方法
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
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序號: 9982
產出年度: 101
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 具靜電保護之發光二極體封裝結構及其製作方法
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
專利發明人: 石志聰,許鎮鵬,黃世才,蔡欣芸,胡鴻烈,陳炳儒,杜冠潔,
核准國家: 中華民國
獲證日期: 101/05/16
證書號碼: I363437
專利期間起: 101/05/01
專利期間訖: 117/05/20
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 具靜電保護之發光二極體封裝結構及其製作方法
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號7116
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人吳旭智, 李青憲
核准國家中華民國
獲證日期99/03/05
證書號碼I321313
專利期間起99/03/01
專利期間訖116/03/02
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭露一種透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法。此裝置包含一規則組儲存單元、一演化式規則產生模組、和一規則觸發器。本發明先透過一大量平行之演化式計算方法,分析對話歷史記錄,訓練出一規則組,此規則組描述對話回合間的內文關係。根據此規則組,作
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
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特殊情形(空)
序號: 7116
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人: 吳旭智, 李青憲
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/05
證書號碼: I321313
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 116/03/02
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭露一種透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法。此裝置包含一規則組儲存單元、一演化式規則產生模組、和一規則觸發器。本發明先透過一大量平行之演化式計算方法,分析對話歷史記錄,訓練出一規則組,此規則組描述對話回合間的內文關係。根據此規則組,作
技術摘要-英文: (空)
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號7387
產出年度99
領域別機械運輸
專利名稱-中文植入奈米碳管之製程方法
執行單位工研院南分院
產出單位(空)
計畫名稱軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人廖仕傑 ,陳輝達 ,
核准國家中華民國
獲證日期99/03/03
證書號碼I321123
專利期間起99/03/01
專利期間訖115/09/18
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種植入奈米碳管之製程方法,其係針對奈米碳管場發射顯示器中之奈米碳管植入提出新的製作方法,該製程方法主要包括下列步驟:首先,以電磁波局部轉移介質材料而形成一介質層以提供黏著與導電之功能;然後,再將奈米碳管材料接受電磁波照射,透過電磁波光子撞擊所產生之光壓,使得奈米碳管植入於閘極孔中。利用本發明之方法,可以解決其他植入奈米碳管方法所造成之碳管密度不足、基板黏附性低以及高溫操作之缺點。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
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特殊情形(空)
序號: 7387
產出年度: 99
領域別: 機械運輸
專利名稱-中文: 植入奈米碳管之製程方法
執行單位: 工研院南分院
產出單位: (空)
計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 ,
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/03
證書號碼: I321123
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 115/09/18
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種植入奈米碳管之製程方法,其係針對奈米碳管場發射顯示器中之奈米碳管植入提出新的製作方法,該製程方法主要包括下列步驟:首先,以電磁波局部轉移介質材料而形成一介質層以提供黏著與導電之功能;然後,再將奈米碳管材料接受電磁波照射,透過電磁波光子撞擊所產生之光壓,使得奈米碳管植入於閘極孔中。利用本發明之方法,可以解決其他植入奈米碳管方法所造成之碳管密度不足、基板黏附性低以及高溫操作之缺點。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號8374
產出年度100
領域別電資通光
專利名稱-中文多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統
執行單位工研院資通所
產出單位工研院資通所
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲
核准國家美國
獲證日期100/03/30
證書號碼7,904,736
專利期間起100/03/08
專利期間訖119/01/03
專利性質發明
技術摘要-中文本發明乃有關於多執行緒程式之電源閘控方法以及實行該方法之系統,將令不需要使用的元件進入休眠狀態,以降低元件漏電流所造成的能量耗損。本發明以編譯器技術於一多執緒程式的一可能並行發生區域之各執行緒中佈置條件式電源啟動、關閉指令。上述條件式電源啟動指令將先判斷所對應之元件是否早已被啟動,並且僅在該元件尚未被啟動時啟動該元件。上述條件式電源關閉指令將先判斷所對應之元件於該可能並行發生區域中是否仍需使用,並且在判定不需使用時關閉該元件。本發明將避免元件被不必要地重複啟動;亦可避免元件被錯誤地提早關閉。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
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參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 8374
產出年度: 100
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統
執行單位: 工研院資通所
產出單位: 工研院資通所
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲
核准國家: 美國
獲證日期: 100/03/30
證書號碼: 7,904,736
專利期間起: 100/03/08
專利期間訖: 119/01/03
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明乃有關於多執行緒程式之電源閘控方法以及實行該方法之系統,將令不需要使用的元件進入休眠狀態,以降低元件漏電流所造成的能量耗損。本發明以編譯器技術於一多執緒程式的一可能並行發生區域之各執行緒中佈置條件式電源啟動、關閉指令。上述條件式電源啟動指令將先判斷所對應之元件是否早已被啟動,並且僅在該元件尚未被啟動時啟動該元件。上述條件式電源關閉指令將先判斷所對應之元件於該可能並行發生區域中是否仍需使用,並且在判定不需使用時關閉該元件。本發明將避免元件被不必要地重複啟動;亦可避免元件被錯誤地提早關閉。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
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備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號8383
產出年度100
領域別電資通光
專利名稱-中文互動式顯示系統
執行單位工研院資訊中心
產出單位工研院資訊中心
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智
核准國家美國
獲證日期100/03/29
證書號碼7,916,129
專利期間起100/03/29
專利期間訖118/03/20
專利性質發明
技術摘要-中文"本發明係關於一種互動式顯示系統,包含反射鏡和顯示單元,並且顯示單元內建在反射鏡中,用於提供位於互動式顯示系統前方之使用者影像的輔助展示。當使用者朝互動式顯示系統移動或遠離互動式顯示系統時,使用者的影像將自動放大或縮小且顯示在顯示單元上。"
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
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備註(空)
特殊情形(空)
序號: 8383
產出年度: 100
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 互動式顯示系統
執行單位: 工研院資訊中心
產出單位: 工研院資訊中心
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智
核准國家: 美國
獲證日期: 100/03/29
證書號碼: 7,916,129
專利期間起: 100/03/29
專利期間訖: 118/03/20
專利性質: 發明
技術摘要-中文: "本發明係關於一種互動式顯示系統,包含反射鏡和顯示單元,並且顯示單元內建在反射鏡中,用於提供位於互動式顯示系統前方之使用者影像的輔助展示。當使用者朝互動式顯示系統移動或遠離互動式顯示系統時,使用者的影像將自動放大或縮小且顯示在顯示單元上。"
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號7052
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文無線環境下定位系統的新取樣點決定方法
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人徐銘駿, 崔文, 陳昭男
核准國家中華民國
獲證日期99/03/17
證書號碼I321928
專利期間起99/03/11
專利期間訖115/12/27
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭露一種無線系統中一目標裝置定位的可靠度指標給定方法。在追蹤定位時,當獲知目標裝置之無線訊號的位置觀察值後,本發明結合目標裝置之位置的後機率密度函數與目標裝置之移動模型來算出位置不確度,以得到此位置估計的可靠度指標。本發明先決定出此後機率密度函數,
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
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備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7052
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 無線環境下定位系統的新取樣點決定方法
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 徐銘駿, 崔文, 陳昭男
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/17
證書號碼: I321928
專利期間起: 99/03/11
專利期間訖: 115/12/27
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭露一種無線系統中一目標裝置定位的可靠度指標給定方法。在追蹤定位時,當獲知目標裝置之無線訊號的位置觀察值後,本發明結合目標裝置之位置的後機率密度函數與目標裝置之移動模型來算出位置不確度,以得到此位置估計的可靠度指標。本發明先決定出此後機率密度函數,
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
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備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號7080
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文通訊網路下之行動管理方法及裝置
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱新世代行動通訊技術發展計畫
專利發明人江為國, 何哲勳, 許建昌
核准國家中華民國
獲證日期99/03/19
證書號碼I321411
專利期間起99/03/01
專利期間訖115/09/28
專利性質發明
技術摘要-中文一種用於行動通訊中之通訊網路可包括至少一行動設備,所述行動設備經組態以經由通訊網路與相應主機通訊。通訊網路亦可包括封包資料閘道器,所述封包資料閘道器經組態以偵測漫遊至由封包資料閘道器所控制之無線區域網路中之行動設備的附著。此外,通訊網路可包括耦接至封包資
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7080
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 通訊網路下之行動管理方法及裝置
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫
專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/19
證書號碼: I321411
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 115/09/28
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種用於行動通訊中之通訊網路可包括至少一行動設備,所述行動設備經組態以經由通訊網路與相應主機通訊。通訊網路亦可包括封包資料閘道器,所述封包資料閘道器經組態以偵測漫遊至由封包資料閘道器所控制之無線區域網路中之行動設備的附著。此外,通訊網路可包括耦接至封包資
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號7129
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文靜電放電防護電路
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人陳世宏, 柯明道
核准國家美國
獲證日期99/09/29
證書號碼7,692,907
專利期間起99/04/06
專利期間訖117/03/03
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭示一種能夠提供靜電放電 (Electrostatic Discharge;ESD) 防護的電路,該電路包括:一第一組電源軌,其包括一第一高電源軌與一第一低電源軌;於該第一組電源軌之間的一第一介面電路,該第一介面電路具有至少一閘極電極;一第一 ESD 裝置,其包括一耦合至該第一介面電
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7129
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 靜電放電防護電路
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人: 陳世宏, 柯明道
核准國家: 美國
獲證日期: 99/09/29
證書號碼: 7,692,907
專利期間起: 99/04/06
專利期間訖: 117/03/03
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭示一種能夠提供靜電放電 (Electrostatic Discharge;ESD) 防護的電路,該電路包括:一第一組電源軌,其包括一第一高電源軌與一第一低電源軌;於該第一組電源軌之間的一第一介面電路,該第一介面電路具有至少一閘極電極;一第一 ESD 裝置,其包括一耦合至該第一介面電
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
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特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號7148
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文直流偏移消除電路
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫
專利發明人高小文
核准國家中華民國
獲證日期99/03/03
證書號碼I320993
專利期間起99/02/21
專利期間訖115/12/25
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種在信號路徑中消除直流(DC)偏移的DC偏移消除電路。信號路徑包含輸入和輸出。DC偏移消除電路包含主動式積分器,耦合在輸入與輸出之間,用以提供負回授給信號路徑。主動式積分器包含:運算放大器(op-amp)、具有電容C的電容性元件和具有電阻R的電阻性元件,且電
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7148
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 直流偏移消除電路
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 高小文
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/03
證書號碼: I320993
專利期間起: 99/02/21
專利期間訖: 115/12/25
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種在信號路徑中消除直流(DC)偏移的DC偏移消除電路。信號路徑包含輸入和輸出。DC偏移消除電路包含主動式積分器,耦合在輸入與輸出之間,用以提供負回授給信號路徑。主動式積分器包含:運算放大器(op-amp)、具有電容C的電容性元件和具有電阻R的電阻性元件,且電
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
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與發光二極體封裝結構及其製作方法同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 余昱辰, 郭宗南, 潘彥廷 | 證書號碼: 194417

光盤承載裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃偉煜 | 證書號碼: ZL00129763.5

動態減震系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊志軒, 謝政揚, 黃振源, 張啟伸 | 證書號碼: 206772

聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 朱良謙, 張志吉 | 證書號碼: ZL00108097.0

可調整的鏡群裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 涂銀發, 姜皇成, 陳志文, 張耿智 | 證書號碼: 195758

雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林明慧, 劉通發 | 證書號碼: 201010

環場影像接圖器及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 謝君偉, 江政欽, 魏德樂 | 證書號碼: 6,798,923

取紙傳動模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林智堅, 陳英棋, 鄭兆凱, 張惠珍 | 證書號碼: 215325

噴墨印頭的封裝方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 藍元亮, 吳義勇, 邱紹玲, 劉克明, 鄭淑娟 | 證書號碼: ZL98106298.9

噴墨印頭結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 | 證書號碼: ZL98116196.0

墨水通道設計

核准國家: 德國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 | 證書號碼: 19914700

墨水通道製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 王介文, 吳義勇, 胡鴻烈, 李明玲 | 證書號碼: ZL98115179.5

噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 胡紀平, 吳義勇, 藍元亮, 賴怡絢, 王惠芳 | 證書號碼: ZL98118397.2

噴墨印頭的結構與製作方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 李憶興, 吳義勇, 鄭陳煜, 邱紹玲, 徐享楨 | 證書號碼: ZL98124126.3

一種噴墨頭墨水儲存裝置及其供給方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 王介文, 侯怡仲, 張智超 | 證書號碼: ZL00100896.X

分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 余昱辰, 郭宗南, 潘彥廷 | 證書號碼: 194417

光盤承載裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃偉煜 | 證書號碼: ZL00129763.5

動態減震系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊志軒, 謝政揚, 黃振源, 張啟伸 | 證書號碼: 206772

聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 朱良謙, 張志吉 | 證書號碼: ZL00108097.0

可調整的鏡群裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 涂銀發, 姜皇成, 陳志文, 張耿智 | 證書號碼: 195758

雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林明慧, 劉通發 | 證書號碼: 201010

環場影像接圖器及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 謝君偉, 江政欽, 魏德樂 | 證書號碼: 6,798,923

取紙傳動模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林智堅, 陳英棋, 鄭兆凱, 張惠珍 | 證書號碼: 215325

噴墨印頭的封裝方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 藍元亮, 吳義勇, 邱紹玲, 劉克明, 鄭淑娟 | 證書號碼: ZL98106298.9

噴墨印頭結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 | 證書號碼: ZL98116196.0

墨水通道設計

核准國家: 德國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳義勇, 胡紀平, 賴怡絢, 莊育洪, 王介文 | 證書號碼: 19914700

墨水通道製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 王介文, 吳義勇, 胡鴻烈, 李明玲 | 證書號碼: ZL98115179.5

噴墨印頭晶片的單石製造方法及噴墨印頭

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 胡紀平, 吳義勇, 藍元亮, 賴怡絢, 王惠芳 | 證書號碼: ZL98118397.2

噴墨印頭的結構與製作方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 李憶興, 吳義勇, 鄭陳煜, 邱紹玲, 徐享楨 | 證書號碼: ZL98124126.3

一種噴墨頭墨水儲存裝置及其供給方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 許成偉, 蘇士豪, 王介文, 侯怡仲, 張智超 | 證書號碼: ZL00100896.X

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