一種特殊的半導體元件結構
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專利名稱-中文一種特殊的半導體元件結構的核准國家是韓國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是97, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是曾懷遠 貢振邦 林鴻志 李明賢, 證書號碼是10-0798657.

序號4943
產出年度97
領域別(空)
專利名稱-中文一種特殊的半導體元件結構
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人曾懷遠 貢振邦 林鴻志 李明賢
核准國家韓國
獲證日期(空)
證書號碼10-0798657
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種半導體元件結構包括一絕緣基板。一通道層位於該絕緣基板上。多個摻雜層位於該絕緣基板上且從該通道層突出。其中該些摻雜層構成至少二個源/汲極對，每一該些源/汲極對，相對該通道層有不同的一延伸方向。一閘極介電層位於該通道層上。一閘極層位於該閘極介電層上。較佳地例如該些源/汲極對的至少其一的該延伸方向是在一第一方向，該些源/汲極對的至少另其一的該延伸方向是在一第二方向。 A structure of semiconductor device includes an insulation substrate. A channel layer is disposed on the insulation substrate. Multiple doped layers are disposed on the insulation substrate and protrude from the channel layer. The doped layers form at least two source/drain electrode pairs. Each of the source/drain electrode pairs with respect to the channel layer has an extension direction. A gate dielectric layer is disposed on the channel layer. A gate electrode layer is disposed on the gate dielectric layer. Preferably for example, the extension direction of at least one of the source/drain electrode pairs is on a first direction, and the extension direction of at least another one of the source/drain electrode pairs is on a second direction.
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註0
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

4943

產出年度

97

領域別

(空)

專利名稱-中文

一種特殊的半導體元件結構

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

曾懷遠 貢振邦 林鴻志 李明賢

核准國家

韓國

獲證日期

(空)

證書號碼

10-0798657

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種半導體元件結構包括一絕緣基板。一通道層位於該絕緣基板上。多個摻雜層位於該絕緣基板上且從該通道層突出。其中該些摻雜層構成至少二個源/汲極對，每一該些源/汲極對，相對該通道層有不同的一延伸方向。一閘極介電層位於該通道層上。一閘極層位於該閘極介電層上。較佳地例如該些源/汲極對的至少其一的該延伸方向是在一第一方向，該些源/汲極對的至少另其一的該延伸方向是在一第二方向。 A structure of semiconductor device includes an insulation substrate. A channel layer is disposed on the insulation substrate. Multiple doped layers are disposed on the insulation substrate and protrude from the channel layer. The doped layers form at least two source/drain electrode pairs. Each of the source/drain electrode pairs with respect to the channel layer has an extension direction. A gate dielectric layer is disposed on the channel layer. A gate electrode layer is disposed on the gate dielectric layer. Preferably for example, the extension direction of at least one of the source/drain electrode pairs is on a first direction, and the extension direction of at least another one of the source/drain electrode pairs is on a second direction.

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半導體元件結構以及製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾懷遠 貢振邦 林鴻志 李明賢 | 證書號碼: I300625

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

半導體元件結構以及製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾懷遠 ,貢振邦 ,林鴻志 ,李明賢 , | 證書號碼: 7,504,694

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

半導體元件結構以及製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾懷遠,貢振邦,林鴻志,李明賢 | 證書號碼: 7,972,912

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半導體元件結構以及製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾懷遠 貢振邦 林鴻志 李明賢 | 證書號碼: I300625

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

半導體元件結構以及製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾懷遠 ,貢振邦 ,林鴻志 ,李明賢 , | 證書號碼: 7,504,694

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半導體元件結構以及製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾懷遠,貢振邦,林鴻志,李明賢 | 證書號碼: 7,972,912

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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號7116
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人吳旭智, 李青憲
核准國家中華民國
獲證日期99/03/05
證書號碼I321313
專利期間起99/03/01
專利期間訖116/03/02
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭露一種透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法。此裝置包含一規則組儲存單元、一演化式規則產生模組、和一規則觸發器。本發明先透過一大量平行之演化式計算方法，分析對話歷史記錄，訓練出一規則組，此規則組描述對話回合間的內文關係。根據此規則組，作
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
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特殊情形(空)
序號: 7116
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人: 吳旭智, 李青憲
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/05
證書號碼: I321313
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 116/03/02
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭露一種透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法。此裝置包含一規則組儲存單元、一演化式規則產生模組、和一規則觸發器。本發明先透過一大量平行之演化式計算方法，分析對話歷史記錄，訓練出一規則組，此規則組描述對話回合間的內文關係。根據此規則組，作
技術摘要-英文: (空)
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號7387
產出年度99
領域別機械運輸
專利名稱-中文植入奈米碳管之製程方法
執行單位工研院南分院
產出單位(空)
計畫名稱軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人廖仕傑 ,陳輝達 ,
核准國家中華民國
獲證日期99/03/03
證書號碼I321123
專利期間起99/03/01
專利期間訖115/09/18
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種植入奈米碳管之製程方法，其係針對奈米碳管場發射顯示器中之奈米碳管植入提出新的製作方法，該製程方法主要包括下列步驟：首先，以電磁波局部轉移介質材料而形成一介質層以提供黏著與導電之功能；然後，再將奈米碳管材料接受電磁波照射，透過電磁波光子撞擊所產生之光壓，使得奈米碳管植入於閘極孔中。利用本發明之方法，可以解決其他植入奈米碳管方法所造成之碳管密度不足、基板黏附性低以及高溫操作之缺點。
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序號: 7387
產出年度: 99
領域別: 機械運輸
專利名稱-中文: 植入奈米碳管之製程方法
執行單位: 工研院南分院
產出單位: (空)
計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 ,
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/03
證書號碼: I321123
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 115/09/18
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種植入奈米碳管之製程方法，其係針對奈米碳管場發射顯示器中之奈米碳管植入提出新的製作方法，該製程方法主要包括下列步驟：首先，以電磁波局部轉移介質材料而形成一介質層以提供黏著與導電之功能；然後，再將奈米碳管材料接受電磁波照射，透過電磁波光子撞擊所產生之光壓，使得奈米碳管植入於閘極孔中。利用本發明之方法，可以解決其他植入奈米碳管方法所造成之碳管密度不足、基板黏附性低以及高溫操作之缺點。
技術摘要-英文: (空)
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號8374
產出年度100
領域別電資通光
專利名稱-中文多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統
執行單位工研院資通所
產出單位工研院資通所
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲
核准國家美國
獲證日期100/03/30
證書號碼7,904,736
專利期間起100/03/08
專利期間訖119/01/03
專利性質發明
技術摘要-中文本發明乃有關於多執行緒程式之電源閘控方法以及實行該方法之系統，將令不需要使用的元件進入休眠狀態，以降低元件漏電流所造成的能量耗損。本發明以編譯器技術於一多執緒程式的一可能並行發生區域之各執行緒中佈置條件式電源啟動、關閉指令。上述條件式電源啟動指令將先判斷所對應之元件是否早已被啟動，並且僅在該元件尚未被啟動時啟動該元件。上述條件式電源關閉指令將先判斷所對應之元件於該可能並行發生區域中是否仍需使用，並且在判定不需使用時關閉該元件。本發明將避免元件被不必要地重複啟動；亦可避免元件被錯誤地提早關閉。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
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特殊情形(空)
序號: 8374
產出年度: 100
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統
執行單位: 工研院資通所
產出單位: 工研院資通所
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲
核准國家: 美國
獲證日期: 100/03/30
證書號碼: 7,904,736
專利期間起: 100/03/08
專利期間訖: 119/01/03
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明乃有關於多執行緒程式之電源閘控方法以及實行該方法之系統，將令不需要使用的元件進入休眠狀態，以降低元件漏電流所造成的能量耗損。本發明以編譯器技術於一多執緒程式的一可能並行發生區域之各執行緒中佈置條件式電源啟動、關閉指令。上述條件式電源啟動指令將先判斷所對應之元件是否早已被啟動，並且僅在該元件尚未被啟動時啟動該元件。上述條件式電源關閉指令將先判斷所對應之元件於該可能並行發生區域中是否仍需使用，並且在判定不需使用時關閉該元件。本發明將避免元件被不必要地重複啟動；亦可避免元件被錯誤地提早關閉。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號8383
產出年度100
領域別電資通光
專利名稱-中文互動式顯示系統
執行單位工研院資訊中心
產出單位工研院資訊中心
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智
核准國家美國
獲證日期100/03/29
證書號碼7,916,129
專利期間起100/03/29
專利期間訖118/03/20
專利性質發明
技術摘要-中文"本發明係關於一種互動式顯示系統，包含反射鏡和顯示單元，並且顯示單元內建在反射鏡中，用於提供位於互動式顯示系統前方之使用者影像的輔助展示。當使用者朝互動式顯示系統移動或遠離互動式顯示系統時，使用者的影像將自動放大或縮小且顯示在顯示單元上。"
技術摘要-英文(空)
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特殊情形(空)
序號: 8383
產出年度: 100
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 互動式顯示系統
執行單位: 工研院資訊中心
產出單位: 工研院資訊中心
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智
核准國家: 美國
獲證日期: 100/03/29
證書號碼: 7,916,129
專利期間起: 100/03/29
專利期間訖: 118/03/20
專利性質: 發明
技術摘要-中文: "本發明係關於一種互動式顯示系統，包含反射鏡和顯示單元，並且顯示單元內建在反射鏡中，用於提供位於互動式顯示系統前方之使用者影像的輔助展示。當使用者朝互動式顯示系統移動或遠離互動式顯示系統時，使用者的影像將自動放大或縮小且顯示在顯示單元上。"
技術摘要-英文: (空)
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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號7052
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文無線環境下定位系統的新取樣點決定方法
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人徐銘駿, 崔文, 陳昭男
核准國家中華民國
獲證日期99/03/17
證書號碼I321928
專利期間起99/03/11
專利期間訖115/12/27
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭露一種無線系統中一目標裝置定位的可靠度指標給定方法。在追蹤定位時，當獲知目標裝置之無線訊號的位置觀察值後，本發明結合目標裝置之位置的後機率密度函數與目標裝置之移動模型來算出位置不確度，以得到此位置估計的可靠度指標。本發明先決定出此後機率密度函數，
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
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備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7052
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 無線環境下定位系統的新取樣點決定方法
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 徐銘駿, 崔文, 陳昭男
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/17
證書號碼: I321928
專利期間起: 99/03/11
專利期間訖: 115/12/27
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭露一種無線系統中一目標裝置定位的可靠度指標給定方法。在追蹤定位時，當獲知目標裝置之無線訊號的位置觀察值後，本發明結合目標裝置之位置的後機率密度函數與目標裝置之移動模型來算出位置不確度，以得到此位置估計的可靠度指標。本發明先決定出此後機率密度函數，
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
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備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號7080
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文通訊網路下之行動管理方法及裝置
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱新世代行動通訊技術發展計畫
專利發明人江為國, 何哲勳, 許建昌
核准國家中華民國
獲證日期99/03/19
證書號碼I321411
專利期間起99/03/01
專利期間訖115/09/28
專利性質發明
技術摘要-中文一種用於行動通訊中之通訊網路可包括至少一行動設備，所述行動設備經組態以經由通訊網路與相應主機通訊。通訊網路亦可包括封包資料閘道器，所述封包資料閘道器經組態以偵測漫遊至由封包資料閘道器所控制之無線區域網路中之行動設備的附著。此外，通訊網路可包括耦接至封包資
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
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傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7080
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 通訊網路下之行動管理方法及裝置
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫
專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/19
證書號碼: I321411
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 115/09/28
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種用於行動通訊中之通訊網路可包括至少一行動設備，所述行動設備經組態以經由通訊網路與相應主機通訊。通訊網路亦可包括封包資料閘道器，所述封包資料閘道器經組態以偵測漫遊至由封包資料閘道器所控制之無線區域網路中之行動設備的附著。此外，通訊網路可包括耦接至封包資
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
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特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號7129
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文靜電放電防護電路
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人陳世宏, 柯明道
核准國家美國
獲證日期99/09/29
證書號碼7,692,907
專利期間起99/04/06
專利期間訖117/03/03
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭示一種能夠提供靜電放電 (Electrostatic Discharge；ESD) 防護的電路，該電路包括：一第一組電源軌，其包括一第一高電源軌與一第一低電源軌；於該第一組電源軌之間的一第一介面電路，該第一介面電路具有至少一閘極電極；一第一 ESD 裝置，其包括一耦合至該第一介面電
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7129
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 靜電放電防護電路
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人: 陳世宏, 柯明道
核准國家: 美國
獲證日期: 99/09/29
證書號碼: 7,692,907
專利期間起: 99/04/06
專利期間訖: 117/03/03
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭示一種能夠提供靜電放電 (Electrostatic Discharge；ESD) 防護的電路，該電路包括：一第一組電源軌，其包括一第一高電源軌與一第一低電源軌；於該第一組電源軌之間的一第一介面電路，該第一介面電路具有至少一閘極電極；一第一 ESD 裝置，其包括一耦合至該第一介面電
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號7148
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文直流偏移消除電路
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫
專利發明人高小文
核准國家中華民國
獲證日期99/03/03
證書號碼I320993
專利期間起99/02/21
專利期間訖115/12/25
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種在信號路徑中消除直流(DC)偏移的DC偏移消除電路。信號路徑包含輸入和輸出。DC偏移消除電路包含主動式積分器，耦合在輸入與輸出之間，用以提供負回授給信號路徑。主動式積分器包含：運算放大器（op-amp）、具有電容C的電容性元件和具有電阻R的電阻性元件，且電
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
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特殊情形(空)
序號: 7148
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 直流偏移消除電路
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 高小文
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/03
證書號碼: I320993
專利期間起: 99/02/21
專利期間訖: 115/12/25
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種在信號路徑中消除直流(DC)偏移的DC偏移消除電路。信號路徑包含輸入和輸出。DC偏移消除電路包含主動式積分器，耦合在輸入與輸出之間，用以提供負回授給信號路徑。主動式積分器包含：運算放大器（op-amp）、具有電容C的電容性元件和具有電阻R的電阻性元件，且電
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
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與一種特殊的半導體元件結構同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

基於動態影像壓縮標準之階層式物件切割法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 甘敏成, 郭鐘榮, 吳國瑞, 蔡孟翰 | 證書號碼: 188953

位相差式防偽方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王迺岳, 蔡朝旭 | 證書號碼: 6,667,797

微透鏡之製作方法及其製造裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳錦泰 | 證書號碼: I224210

噴墨頭晶片封裝結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 許法源, 胡紀平 | 證書號碼: 195329

一種快速尋找列印頻率以獲得立體影像的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 連健淋, 黃偉倫 | 證書號碼: 220506

三維度影像接合處之色彩處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳佳綸 | 證書號碼: 200533

三維模型之階層式紋理貼圖處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周宏隆, 陳加珍 | 證書號碼: 206727

有機發光元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 蔡榮源, 張嘉帥, 趙清煙, 崋沐怡 | 證書號碼: 204036

網路設備之維修管理系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林榮政, 林仁傑, 賴加勳 | 證書號碼: 220826

電壓脈衝式化學物質濃度量測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 黃奕孝, 闕妙如, 陳一誠, 石東生 | 證書號碼: 206789

使用於處理含VOC之有機廢氣處理裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林樹榮, 吳信賢, 賴慶智 | 證書號碼: 220398

使用於處理含VOC之有機廢氣處理裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林樹榮, 吳信賢, 賴慶智 | 證書號碼: 6,780,223

含VOC有機廢氣之處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林樹榮, 吳信賢, 賴慶智 | 證書號碼: 206408

用於處理全氟化合物之介電層放電裝置及模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 邱信夫, 呂建豪, 游生任 | 證書號碼: 6,700,093

用以化學吸附氫化物氣體之潔淨劑及淨化有害氣體之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 許榮男, 李壽南, 李秋煌, 黃建良, 姚品全 | 證書號碼: 207344

基於動態影像壓縮標準之階層式物件切割法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 甘敏成, 郭鐘榮, 吳國瑞, 蔡孟翰 | 證書號碼: 188953

位相差式防偽方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王迺岳, 蔡朝旭 | 證書號碼: 6,667,797

微透鏡之製作方法及其製造裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳錦泰 | 證書號碼: I224210

噴墨頭晶片封裝結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 許法源, 胡紀平 | 證書號碼: 195329

一種快速尋找列印頻率以獲得立體影像的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 連健淋, 黃偉倫 | 證書號碼: 220506

三維度影像接合處之色彩處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳佳綸 | 證書號碼: 200533

三維模型之階層式紋理貼圖處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 周宏隆, 陳加珍 | 證書號碼: 206727

有機發光元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 蔡榮源, 張嘉帥, 趙清煙, 崋沐怡 | 證書號碼: 204036

網路設備之維修管理系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林榮政, 林仁傑, 賴加勳 | 證書號碼: 220826

電壓脈衝式化學物質濃度量測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 黃奕孝, 闕妙如, 陳一誠, 石東生 | 證書號碼: 206789

使用於處理含VOC之有機廢氣處理裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林樹榮, 吳信賢, 賴慶智 | 證書號碼: 220398

使用於處理含VOC之有機廢氣處理裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林樹榮, 吳信賢, 賴慶智 | 證書號碼: 6,780,223

含VOC有機廢氣之處理方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 林樹榮, 吳信賢, 賴慶智 | 證書號碼: 206408

用於處理全氟化合物之介電層放電裝置及模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 邱信夫, 呂建豪, 游生任 | 證書號碼: 6,700,093

用以化學吸附氫化物氣體之潔淨劑及淨化有害氣體之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 專利發明人: 許榮男, 李壽南, 李秋煌, 黃建良, 姚品全 | 證書號碼: 207344

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