不變形光斑取像裝置與方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文不變形光斑取像裝置與方法的核准國家是中國大陸, 執行單位是中科院材料所, 產出年度是100, 專利性質是發明, 計畫名稱是光電感測辨識模組與應用技術計畫, 專利發明人是黃宜裕、馬心一、王茂燃、黃文政、黃欽德、劉光新, 證書號碼是待領證.

序號	8696
產出年度	100
領域別	電資通光
專利名稱-中文	不變形光斑取像裝置與方法
執行單位	中科院材料所
產出單位	中科院五所
計畫名稱	光電感測辨識模組與應用技術計畫
專利發明人	黃宜裕、馬心一、王茂燃、黃文政、黃欽德、劉光新
核准國家	中國大陸
獲證日期	100/11/17
證書號碼	待領證
專利期間起	97/12/10
專利期間訖	117/12/10
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明為一種大面積不變形光斑取像裝置及其方法，該裝置包含一光發射器、一限光模組及一感測器，該限光模組設於該感測器前，該限光模組係包含複數限光件，該些限光件係排列為一維或二維陣列，當該光發射器發射一光源至一物體表面，產生至少一散射光，通過該限光模組限制該至少一散射光，並產生複數繞射光，該些繞射光相互干涉產生複數不變形光斑，且成像於該感測器上，最後依據該些光斑得到一大面積且不變形之光斑圖，且該光斑圖記錄了物體表面三維變化之特徵。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	黃欽德
電話	03-4172201#359358
傳真	03-4711024
電子信箱	limitless@seed.net.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2023-07-05

序號

8696

產出年度

100

領域別

電資通光

專利名稱-中文

不變形光斑取像裝置與方法

執行單位

中科院材料所

產出單位

中科院五所

計畫名稱

光電感測辨識模組與應用技術計畫

專利發明人

黃宜裕、馬心一、王茂燃、黃文政、黃欽德、劉光新

核准國家

中國大陸

獲證日期

100/11/17

證書號碼

待領證

專利期間起

97/12/10

專利期間訖

117/12/10

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明為一種大面積不變形光斑取像裝置及其方法，該裝置包含一光發射器、一限光模組及一感測器，該限光模組設於該感測器前，該限光模組係包含複數限光件，該些限光件係排列為一維或二維陣列，當該光發射器發射一光源至一物體表面，產生至少一散射光，通過該限光模組限制該至少一散射光，並產生複數繞射光，該些繞射光相互干涉產生複數不變形光斑，且成像於該感測器上，最後依據該些光斑得到一大面積且不變形之光斑圖，且該光斑圖記錄了物體表面三維變化之特徵。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

黃欽德

電話

03-4172201#359358

傳真

03-4711024

電子信箱

limitless@seed.net.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 不變形光斑取像裝置與方法於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號	2201
產出年度	96
技術名稱-中文	不變形光斑取像技術
執行單位	中科院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	光電輸出入模組與應用技術計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	一種不變形光斑取像裝置與方法，係由光源發射一高同調性光，該高同調性光照射表面時，產生散射光，利用非鏡面反射二維光斑取像裝置，在散射角與反射角相差約10的位置來量取光斑影像，並引進限光件，限制了被照面散射光進入二維偵檢器的入射視場角，即限制了物平面取像範圍。在適當整合光斑大小、取像透鏡焦距、取像角度及取像物平面範圍等參數，可以得到在像平面產生之光斑影像幾乎不變形的效果。所謂光斑不變形是指，取像裝置與物平面有相對移動時，像平面上的光斑也跟著移動，但是從出現到移出二維偵檢器的觀測範圍的過程中，光斑形狀及強度幾乎沒有變化。由於本發明的光斑取像裝置與方法所取得的光斑在移動時不會變形，因此非常有利於精密光斑圖形識別與定位。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	在光斑影像不變形條件下，光斑取像裝置與觀測物面相對運動之可移動距離與取像裝置之鏡心到物面距離有關，理論及實驗證實當取像透鏡焦距為13.6mm時，不變形光斑取像可移動距離超過340um，且因為光斑影像不變形，因此會有很好角度解析及定位精度，角度解析度達到取像位元半長度除以取像畫面之長度，重複定位精度可達取像位元半長度。
技術成熟度	雛型
可應用範圍	本技術可應用於專業級滑鼠、精密手指導覽器、精密光學追跡之光斑筆、無法複製之智慧卡、精密工作母機自動定位系統，機械手臂定位器、無法仿冒之三維指紋識別器。
潛力預估	由於本技術已有輕薄短小量產型雷射滑鼠光電讀取頭雛形產品設計，未來將繼續發展不同應用之光電讀取頭及相關軟硬體，從3C產業之個人隨身裝置，到工業精密自動系統，到金融等級身分識別系統等，預估持續開發本技術將可為國內廠商開發出數個領域之指標性產品。
聯絡人員	黃宜裕/先生；張捷修/先生
電話	03-4712201 # 359354；#359361
傳真	03-4718122
電子信箱	yiyuh.hwang@msa.hinet.net
參考網址	(空)
所須軟硬體設備	精密CCD攝影機、個人電腦、機械手臂、半導體雷射
需具備之專業人才	光電、電子、資訊(影像處理)、物理等專才

序號: 2201

產出年度: 96

技術名稱-中文: 不變形光斑取像技術

執行單位: 中科院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 一種不變形光斑取像裝置與方法，係由光源發射一高同調性光，該高同調性光照射表面時，產生散射光，利用非鏡面反射二維光斑取像裝置，在散射角與反射角相差約10的位置來量取光斑影像，並引進限光件，限制了被照面散射光進入二維偵檢器的入射視場角，即限制了物平面取像範圍。在適當整合光斑大小、取像透鏡焦距、取像角度及取像物平面範圍等參數，可以得到在像平面產生之光斑影像幾乎不變形的效果。所謂光斑不變形是指，取像裝置與物平面有相對移動時，像平面上的光斑也跟著移動，但是從出現到移出二維偵檢器的觀測範圍的過程中，光斑形狀及強度幾乎沒有變化。由於本發明的光斑取像裝置與方法所取得的光斑在移動時不會變形，因此非常有利於精密光斑圖形識別與定位。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 在光斑影像不變形條件下，光斑取像裝置與觀測物面相對運動之可移動距離與取像裝置之鏡心到物面距離有關，理論及實驗證實當取像透鏡焦距為13.6mm時，不變形光斑取像可移動距離超過340um，且因為光斑影像不變形，因此會有很好角度解析及定位精度，角度解析度達到取像位元半長度除以取像畫面之長度，重複定位精度可達取像位元半長度。

技術成熟度: 雛型

可應用範圍: 本技術可應用於專業級滑鼠、精密手指導覽器、精密光學追跡之光斑筆、無法複製之智慧卡、精密工作母機自動定位系統，機械手臂定位器、無法仿冒之三維指紋識別器。

潛力預估: 由於本技術已有輕薄短小量產型雷射滑鼠光電讀取頭雛形產品設計，未來將繼續發展不同應用之光電讀取頭及相關軟硬體，從3C產業之個人隨身裝置，到工業精密自動系統，到金融等級身分識別系統等，預估持續開發本技術將可為國內廠商開發出數個領域之指標性產品。

聯絡人員: 黃宜裕/先生；張捷修/先生

電話: 03-4712201 # 359354；#359361

傳真: 03-4718122

電子信箱: yiyuh.hwang@msa.hinet.net

參考網址: (空)

所須軟硬體設備: 精密CCD攝影機、個人電腦、機械手臂、半導體雷射

需具備之專業人才: 光電、電子、資訊(影像處理)、物理等專才

# 不變形光斑取像裝置與方法於經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號	10419
產出年度	101
領域別	電資通光
專利名稱-中文	一種不變形光斑的取像裝置及方法
執行單位	中科院材料所
產出單位	中科院五所
計畫名稱	光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
專利發明人	黃宜裕.馬心一.王茂燃.黃文政.黃欽德.劉光新
核准國家	中國大陸
獲證日期	101/04/11
證書號碼	930446
專利期間起	101/04/11
專利期間訖	119/12/31
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種不變形光斑取像裝置與方法，利用一高同調性光照射物體表面產生散射光，在散射角相差反射角約10的位置擷取散射光所產生的光斑圖像。本光斑取像裝置設計了一限制入射視場角的限光模組，可以在取像裝置與物平面有相對移動時，像平面上的光斑也跟著移動，但其形狀及強度幾乎保持不變，因此非常有利於精密光斑圖形識別與定位。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	林家慶
電話	03-4712201#357082
傳真	03-4711024
電子信箱	lackgodlin@yahoo.com.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號: 10419

產出年度: 101

領域別: 電資通光

專利名稱-中文: 一種不變形光斑的取像裝置及方法

執行單位: 中科院材料所

產出單位: 中科院五所

計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫

專利發明人: 黃宜裕.馬心一.王茂燃.黃文政.黃欽德.劉光新

核准國家: 中國大陸

獲證日期: 101/04/11

證書號碼: 930446

專利期間起: 101/04/11

專利期間訖: 119/12/31

專利性質: 發明

技術摘要-中文: 一種不變形光斑取像裝置與方法，利用一高同調性光照射物體表面產生散射光，在散射角相差反射角約10的位置擷取散射光所產生的光斑圖像。本光斑取像裝置設計了一限制入射視場角的限光模組，可以在取像裝置與物平面有相對移動時，像平面上的光斑也跟著移動，但其形狀及強度幾乎保持不變，因此非常有利於精密光斑圖形識別與定位。

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 林家慶

電話: 03-4712201#357082

傳真: 03-4711024

電子信箱: lackgodlin@yahoo.com.tw

參考網址: (空)

備註: (空)

特殊情形: (空)

# 不變形光斑取像裝置與方法於經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號	8694
產出年度	100
領域別	電資通光
專利名稱-中文	大面積不變形光斑取像裝置與方法
執行單位	中科院材料所
產出單位	中科院五所
計畫名稱	光電感測辨識模組與應用技術計畫
專利發明人	黃宜裕、馬心一、王茂燃、黃文政、黃欽德、劉光新
核准國家	南韓
獲證日期	100/03/31
證書號碼	10-1019173
專利期間起	97/12/09
專利期間訖	117/12/09
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明為一種大面積不變形光斑取像裝置及其方法，該裝置包含一光發射器、一限光模組及一感測器，該限光模組設於該感測器前，該限光模組係包含複數限光件，該些限光件係排列為一維或二維陣列，當該光發射器發射一光源至一物體表面，產生至少一散射光，通過該限光模組限制該至少一散射光，並產生複數繞射光，該些繞射光相互干涉產生複數不變形光斑，且成像於該感測器上，最後依據該些光斑得到一大面積且不變形之光斑圖，且該光斑圖記錄了物體表面三維變化之特徵。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	黃欽德
電話	03-4172201#359358
傳真	03-4711024
電子信箱	limitless@seed.net.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號: 8694

產出年度: 100

領域別: 電資通光

專利名稱-中文: 大面積不變形光斑取像裝置與方法

執行單位: 中科院材料所

產出單位: 中科院五所

計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫

專利發明人: 黃宜裕、馬心一、王茂燃、黃文政、黃欽德、劉光新

核准國家: 南韓

獲證日期: 100/03/31

證書號碼: 10-1019173

專利期間起: 97/12/09

專利期間訖: 117/12/09

專利性質: 發明

技術摘要-中文: 本發明為一種大面積不變形光斑取像裝置及其方法，該裝置包含一光發射器、一限光模組及一感測器，該限光模組設於該感測器前，該限光模組係包含複數限光件，該些限光件係排列為一維或二維陣列，當該光發射器發射一光源至一物體表面，產生至少一散射光，通過該限光模組限制該至少一散射光，並產生複數繞射光，該些繞射光相互干涉產生複數不變形光斑，且成像於該感測器上，最後依據該些光斑得到一大面積且不變形之光斑圖，且該光斑圖記錄了物體表面三維變化之特徵。

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 黃欽德

電話: 03-4172201#359358

傳真: 03-4711024

電子信箱: limitless@seed.net.tw

參考網址: (空)

備註: (空)

特殊情形: (空)

# 不變形光斑取像裝置與方法於經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號	8695
產出年度	100
領域別	電資通光
專利名稱-中文	大面積不變形光斑取像裝置與方法
執行單位	中科院材料所
產出單位	中科院材料所
計畫名稱	光電感測辨識模組與應用技術計畫
專利發明人	黃宜裕、馬心一、王茂燃、黃文政、黃欽德、劉光新
核准國家	中華民國
獲證日期	100/04/11
證書號碼	I340910
專利期間起	100/04/11
專利期間訖	116/08/15
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明為一種大面積不變形光斑取像裝置及其方法，該裝置包含一光發射器、一限光模組及一感測器，該限光模組設於該感測器前，該限光模組係包含複數限光件，該些限光件係排列為一維或二維陣列，當該光發射器發射一光源至一物體表面，產生至少一散射光，通過該限光模組限制該至少一散射光，並產生複數繞射光，該些繞射光相互干涉產生複數不變形光斑，且成像於該感測器上，最後依據該些光斑得到一大面積且不變形之光斑圖，且該光斑圖記錄了物體表面三維變化之特徵。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	黃欽德
電話	03-4172201#359358
傳真	03-4711024
電子信箱	limitless@seed.net.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號: 8695

產出年度: 100

領域別: 電資通光

專利名稱-中文: 大面積不變形光斑取像裝置與方法

執行單位: 中科院材料所

產出單位: 中科院材料所

計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫

專利發明人: 黃宜裕、馬心一、王茂燃、黃文政、黃欽德、劉光新

核准國家: 中華民國

獲證日期: 100/04/11

證書號碼: I340910

專利期間起: 100/04/11

專利期間訖: 116/08/15

專利性質: 發明

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 黃欽德

電話: 03-4172201#359358

傳真: 03-4711024

電子信箱: limitless@seed.net.tw

參考網址: (空)

備註: (空)

特殊情形: (空)

# 不變形光斑取像裝置與方法於經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號	7252
產出年度	99
領域別	電資通光
專利名稱-中文	Image Invariant Optical Speckle Capturing Device And Method
執行單位	中科院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	光電感測辨識模組與應用技術計畫
專利發明人	黃宜裕，陳銘，馬心一，黃欽德，王茂燃，黃文政
核准國家	美國
獲證日期	99/05/11
證書號碼	US7,715,016B2
專利期間起	99/05/11
專利期間訖	117/05/27
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種不變形光斑取像裝置與方法，利用一高同調性光照射物體表面產生散射光，在散射角相差反射角約10度的位置擷取散射光所產生的光斑圖像。本光斑取像裝置設計了一限制入射視場角的限光模組，可以在取像裝置與物平面有相對移動時，像平面上的光斑也跟著移動，但其形狀及強度幾乎保持不變，因此非常有利於精密光斑圖形識別與定位。2.應用領域：電腦滑鼠、手指導覽器、智慧卡、三維指紋身份辨識、防偽裝置、工作母機或機械手臂精密定位系統。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	黃宜裕
電話	03-4712201#359354
傳真	03-4711024
電子信箱	csist_mrdc@csnet.gov.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號: 7252

產出年度: 99

領域別: 電資通光

專利名稱-中文: Image Invariant Optical Speckle Capturing Device And Method

執行單位: 中科院材料所

產出單位: (空)

計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫

專利發明人: 黃宜裕，陳銘，馬心一，黃欽德，王茂燃，黃文政

核准國家: 美國

獲證日期: 99/05/11

證書號碼: US7,715,016B2

專利期間起: 99/05/11

專利期間訖: 117/05/27

專利性質: 發明

技術摘要-中文: 一種不變形光斑取像裝置與方法，利用一高同調性光照射物體表面產生散射光，在散射角相差反射角約10度的位置擷取散射光所產生的光斑圖像。本光斑取像裝置設計了一限制入射視場角的限光模組，可以在取像裝置與物平面有相對移動時，像平面上的光斑也跟著移動，但其形狀及強度幾乎保持不變，因此非常有利於精密光斑圖形識別與定位。2.應用領域：電腦滑鼠、手指導覽器、智慧卡、三維指紋身份辨識、防偽裝置、工作母機或機械手臂精密定位系統。

技術摘要-英文: (空)

聯絡人員: 黃宜裕

電話: 03-4712201#359354

傳真: 03-4711024

電子信箱: csist_mrdc@csnet.gov.tw

參考網址: (空)

備註: (空)

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Large Areas Undistorted Imaging Apparatus For Light Speckles And Method Thereof

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

Large Areas Undistorted Imaging Apparatus For Light Speckles And Method Thereof

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液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰 \| 證書號碼: 196458
液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福, 謝玉凌, 陳錦泰 \| 證書號碼: 6,703,173
多波長光源之光學掃描裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉貞豪 \| 證書號碼: 206645
光傳送模組之封裝	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蕭正達, 高旻聖, 王炯宏 \| 證書號碼: 192247
光傳送模組之封裝	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蕭正達, 高旻聖, 王炯宏 \| 證書號碼: 6,661,565
室溫紫外光增益之氮化物材料的氧化方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 何晉國, 黃兆年, 彭隆翰, 徐易千, 陳金源 \| 證書號碼: 204003
以低電壓製作塊狀鐵電性材料區域反轉之方式	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 彭隆瀚, 林宜慶, 房宜澂 \| 證書號碼: 186269
光加取多工器	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林士強, 周維仁, 江行健, 吳俊雄 \| 證書號碼: 6,661,944
具有三端口的光學循環器	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 胡杰, 黃承彬, 廖浚男 \| 證書號碼: ZL01109959.3
表面層以複合材料CaF2和TiO2所構成且具撥水功能之光學鍍膜元件	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡榮源, 林浪津, 崋沐怡 \| 證書號碼: I223009
分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 余昱辰, 郭宗南, 潘彥廷 \| 證書號碼: 194417
光盤承載裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 黃偉煜 \| 證書號碼: ZL00129763.5
動態減震系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊志軒, 謝政揚, 黃振源, 張啟伸 \| 證書號碼: 206772
聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 朱良謙, 張志吉 \| 證書號碼: ZL00108097.0
可調整的鏡群裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 涂銀發, 姜皇成, 陳志文, 張耿智 \| 證書號碼: 195758

不變形光斑取像裝置與方法 - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

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產出年度

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專利名稱-中文

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不變形光斑取像裝置與方法
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