專利名稱-中文加工設備之運動位置檢知裝置及其方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I494726, 專利期間起是104/08/01, 專利期間訖是121/12/23, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是104, 計畫名稱是金屬中心產業技術環境建構計畫, 專利發明人是林大裕、吳文傑.
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(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 林大裕 吳文傑 ...) | 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I386558 | 專利期間起: 102/02/21 | 專利期間訖: 118/03/17 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 金屬元件之精微設備開發計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 張振輝 | 劉淑娟 | 邱冠智 | 林大裕 | 任春平 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I395886 | 專利期間起: 102/05/11 | 專利期間訖: 118/06/07 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 金屬元件之精微設備開發計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 邱冠智 | 張振輝 | 劉淑娟 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I384096 | 專利期間起: 102/02/01 | 專利期間訖: 117/11/03 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 金屬元件之精微設備開發計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 張振暉 | 劉淑娟 | 邱冠智 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I548831 | 專利期間起: 105/09/11 | 專利期間訖: 121/12/26 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 林大裕 | 吳文傑 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I330117 | 專利期間起: 1999/9/11 | 專利期間訖: 117/09/17 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 99 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 江文欽 洪榮洲 吳文傑 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I369045 | 專利期間起: 101/02/11 | 專利期間訖: 116/12/24 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 江文欽 | 洪榮洲 | 吳文傑 | 林大裕 | 溫梓宏 | 許志成 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 2293097 | 專利期間起: 101/12/27 | 專利期間訖: 121/12/27 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I337107 | 專利期間起: 100/02/11 | 專利期間訖: 116/12/27 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 邱冠智 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I386558 | 專利期間起: 102/02/21 | 專利期間訖: 118/03/17 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 金屬元件之精微設備開發計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 張振輝 | 劉淑娟 | 邱冠智 | 林大裕 | 任春平 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I395886 | 專利期間起: 102/05/11 | 專利期間訖: 118/06/07 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 金屬元件之精微設備開發計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 邱冠智 | 張振輝 | 劉淑娟 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I384096 | 專利期間起: 102/02/01 | 專利期間訖: 117/11/03 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 金屬元件之精微設備開發計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 張振暉 | 劉淑娟 | 邱冠智 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I548831 | 專利期間起: 105/09/11 | 專利期間訖: 121/12/26 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 林大裕 | 吳文傑 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I330117 | 專利期間起: 1999/9/11 | 專利期間訖: 117/09/17 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 99 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 江文欽 洪榮洲 吳文傑 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I369045 | 專利期間起: 101/02/11 | 專利期間訖: 116/12/24 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 江文欽 | 洪榮洲 | 吳文傑 | 林大裕 | 溫梓宏 | 許志成 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 2293097 | 專利期間起: 101/12/27 | 專利期間訖: 121/12/27 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I337107 | 專利期間起: 100/02/11 | 專利期間訖: 116/12/27 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 吳文傑 | 邱冠智 | 林大裕 @ 技術司專利資料集 |
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根據電話 04-23502169 找到的相關資料
(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 04-23502169 ...) | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 下死點精度≦1μm 、沖壓能力:0.5噸 、 滑塊行程:10mm、 滑塊回轉數:30~100 spm_x000D_ | 潛力預估: 隨系統廠微形裝置之開發,其所需之精微扣件微機構元件等之需求將會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。 _x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I481467 | 專利期間起: 104/04/21 | 專利期間訖: 119/12/25 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 劉衾瑋 | 林大裕 | 陳佑論 | 陳弘毅 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL201310579215.9 | 專利期間起: 105/03/02 | 專利期間訖: 120/12/29 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 劉衾瑋 | 陳弘毅 | 林大裕 | 陳佑論 @ 技術司專利資料集 |
| 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 10kg /cm2、逸散率25000次。 | 潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價8,000元,量產初期10,000個/年,產值可達8,000萬元以上。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 表面精度≦ 0.13μm、鏡面反射率≧ 60%、鈍化膜厚度≧25 A。 | 潛力預估: 應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約30%。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 下死點精度 :≦ 0.006mm 、公稱壓力:30KN、滑塊行程:15mm。 | 潛力預估: 隨系統廠微型裝置之開發,其所需之精微扣件、傳動軸件、微機構元件、微結構零件與殼件之需求會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 35kg /cm2、調壓範圍 0~3.5kg /cm2、逸散率25000次。 | 潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價35,000元,量產初期1,500個/年,產值可達5,000萬元以上。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 表面精度≦ 0.05μm。 | 潛力預估: 應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約50%。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 下死點精度≦1μm 、沖壓能力:0.5噸 、 滑塊行程:10mm、 滑塊回轉數:30~100 spm_x000D_ | 潛力預估: 隨系統廠微形裝置之開發,其所需之精微扣件微機構元件等之需求將會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。 _x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I481467 | 專利期間起: 104/04/21 | 專利期間訖: 119/12/25 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 劉衾瑋 | 林大裕 | 陳佑論 | 陳弘毅 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL201310579215.9 | 專利期間起: 105/03/02 | 專利期間訖: 120/12/29 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 精微製造之系統整合與智慧化研發計畫 | 專利發明人: 劉衾瑋 | 陳弘毅 | 林大裕 | 陳佑論 @ 技術司專利資料集 |
執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 10kg /cm2、逸散率25000次。 | 潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價8,000元,量產初期10,000個/年,產值可達8,000萬元以上。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 表面精度≦ 0.13μm、鏡面反射率≧ 60%、鈍化膜厚度≧25 A。 | 潛力預估: 應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約30%。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 下死點精度 :≦ 0.006mm 、公稱壓力:30KN、滑塊行程:15mm。 | 潛力預估: 隨系統廠微型裝置之開發,其所需之精微扣件、傳動軸件、微機構元件、微結構零件與殼件之需求會逐年上升,預估每年會有10%以上之成長率。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作溫度-10~80℃、工作壓力≦ 35kg /cm2、調壓範圍 0~3.5kg /cm2、逸散率25000次。 | 潛力預估: 應用於高潔淨閥之開發與製作,預計可取代同類型之進口產品,預估單價35,000元,量產初期1,500個/年,產值可達5,000萬元以上。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 表面精度≦ 0.05μm。 | 潛力預估: 應用於高潔淨管閥件之製作,預計可取代傳統加工方式,提升產品穩定性及加工效率,利用內管拋光之自動化,提高效率約50%。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
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| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和 |
| 核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 盧慧娟 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6700783 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷 | 姜信騰 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6759305 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 崔秉鉞 | 李正中 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6741039 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 188211 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪 | 江松燦 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6764887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和 |
核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 盧慧娟 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6700783 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷 | 姜信騰 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6759305 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 崔秉鉞 | 李正中 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6741039 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 李正中 | 許志榮 | 張悠揚 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 188211 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪 | 江松燦 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6764887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 |
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