高性能穩定低變異MEA設計/製程技術
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技術名稱-中文高性能穩定低變異MEA設計/製程技術的執行單位是工研院材化所, 產出年度是102, 計畫名稱是綠色電能材料與系統應用開發計畫, 技術規格是觸媒loading 95%以上位於允收範圍(可用率>95%),同時MEA之性能亦獲得提升,較原始製程之MEA增加約20%以上。, 潛力預估是導入此高性能穩定低變異MEA製程技術,可改善電極/MEA之規格一致性,減少規格外品 發生機率及增加性能匹配性,提升Stack/系統穩定性及降低生產成本(高可用率)。配合原材料供應與相關產品銷售端成為一DMFC之產業鏈,未來極具市場競爭力。.

序號6462
產出年度102
技術名稱-中文高性能穩定低變異MEA設計/製程技術
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱綠色電能材料與系統應用開發計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本研究藉由表面修飾技術將具lone pair官能基之含氮改質劑(N-modifier)作為結合觸媒與Nafion等高分子之用,提升觸媒/高分子分散性及均勻度,電極與膜電極組之反應活性有所提高。並結合表面修飾觸媒/線上再分散程序,導入塗布製程,電極之規格變異性降低,
技術現況敘述-英文(空)
技術規格觸媒loading 95%以上位於允收範圍(可用率>95%),同時MEA之性能亦獲得提升,較原始製程之MEA增加約20%以上。
技術成熟度試量產
可應用範圍此技術可放大製程規模,應用於量產MEA製程,採用此技術之MEA產品除已導入W~kW級DMFC系統外,亦吸引群翌能源等燃料電池相關廠商投資,進行MEA/Stack產品之合作開發及製作。
潛力預估導入此高性能穩定低變異MEA製程技術,可改善電極/MEA之規格一致性,減少規格外品 發生機率及增加性能匹配性,提升Stack/系統穩定性及降低生產成本(高可用率)。配合原材料供應與相關產品銷售端成為一DMFC之產業鏈,未來極具市場競爭力。
聯絡人員蔡麗端
電話03-5915310
傳真03-5820442
電子信箱liduantsai@itri.org.tw
參考網址-
所須軟硬體設備除泡混合分散設備、精密塗布機台、精密大面積(或多片式)熱壓合設備、電化學測試分析及放電量測機台
需具備之專業人才燃料電池/電化學/量產製程

序號

6462

產出年度

102

技術名稱-中文

高性能穩定低變異MEA設計/製程技術

執行單位

工研院材化所

產出單位

(空)

計畫名稱

綠色電能材料與系統應用開發計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本研究藉由表面修飾技術將具lone pair官能基之含氮改質劑(N-modifier)作為結合觸媒與Nafion等高分子之用,提升觸媒/高分子分散性及均勻度,電極與膜電極組之反應活性有所提高。並結合表面修飾觸媒/線上再分散程序,導入塗布製程,電極之規格變異性降低,

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

觸媒loading 95%以上位於允收範圍(可用率>95%),同時MEA之性能亦獲得提升,較原始製程之MEA增加約20%以上。

技術成熟度

試量產

可應用範圍

此技術可放大製程規模,應用於量產MEA製程,採用此技術之MEA產品除已導入W~kW級DMFC系統外,亦吸引群翌能源等燃料電池相關廠商投資,進行MEA/Stack產品之合作開發及製作。

潛力預估

導入此高性能穩定低變異MEA製程技術,可改善電極/MEA之規格一致性,減少規格外品 發生機率及增加性能匹配性,提升Stack/系統穩定性及降低生產成本(高可用率)。配合原材料供應與相關產品銷售端成為一DMFC之產業鏈,未來極具市場競爭力。

聯絡人員

蔡麗端

電話

03-5915310

傳真

03-5820442

電子信箱

liduantsai@itri.org.tw

參考網址

-

所須軟硬體設備

除泡混合分散設備、精密塗布機台、精密大面積(或多片式)熱壓合設備、電化學測試分析及放電量測機台

需具備之專業人才

燃料電池/電化學/量產製程

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導電高分子固態電容器及其製造方法

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1. 導電性高分子材料配方開發特性測試,使其導電度>10S/cm,並可通過105℃、2000小時之可靠度測試。 2. 導電性高分子於多孔性氧化鋁介電氧化皮膜之含浸聚合成膜性研究,並使其含浸成膜率達8... | 潛力預估: 高分子鋁電容器之全球產值,除了2001年因為全球景氣不佳而出現成長停滯以外,全球的需求呈現穩定而大幅的成長, 2003年預測之全球銷售金額可達3.5億美金。中日社電子部品年鑑曾針對各類低阻抗電容器之...

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電高分子鋁晶片電容器之電極組合設計及其封裝技術

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提升觸媒利用率之組合物、複合體與方法

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 可攜式電能技術研究四年計畫 | 領域: | 技術規格: 電極漿料之穩定度達24小時、觸媒漿料分散的顆粒小於200nm以下。 | 潛力預估: 本技術利用增加觸媒漿料的分散、穩定以及開發精密之塗佈模具設計技術與塗佈技術,可提昇漿料塗佈的良率,減少製程材料成本,並可達到量產化的要求,以降低DMFC膜電極組之研發製作成本,協助國內膜電極相關產業建...

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鋁晶片電容器單元電極技術

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 目前市場上最常用的導電高分子晶片電容器規格為D3(7.3x4.3x2.8 mm3),其所使用之鋁箔單元電極大小約為4 mm x 3mm,厚度約為150~200m,D3電容器至少需積層化6-8層,為... | 潛力預估: 本計畫預期將在國內推動2~3家廠商投入導電高分子鋁晶片電容器之研發與製造,預期三年內將可促進投資達6億元,量產後將可增加電容器年產值達12億元。而在鋁晶片電容器之投產後,國內導電高分子產業將邁向新的里...

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導電高分子固態電容器材料及製程技術及其專利群組授權

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.導電性高分子材料配方,導電度>1S/cm,並可通過105℃、1000小時之可靠度測試。_x000D_2.多孔性閥金屬材料之介電皮膜化成技術。_x000D_3.導電性高分子於多孔性介電氧化皮膜之含浸... | 潛力預估: 因台灣為3C電子產品之設計及製造中心,對於高頻低阻抗的導電性高分子電容器需求量大,且因台灣並無導電性高分子電容器之生產公司,因此對於此類高階電子產品,只有仰賴自日本進口,預期隨著經濟景氣之復甦,對電腦...

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導電高分子固態電容器材料及製程技術

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.導電性高分子材料配方,導電度>1S/cm,並可通過105℃、1000小時之可靠度測試。_x000D_2.多孔性閥金屬材料之介電皮膜化成技術。_x000D_3.導電性高分子於多孔性介電氧化皮膜之含浸... | 潛力預估: 因台灣為3C電子產品之設計及製造中心,對於高頻低阻抗的導電性高分子電容器需求量大,且因台灣並無導電性高分子電容器之生產公司,因此對於此類高階電子產品,只有仰賴自日本進口,預期隨著經濟景氣之復甦,對電腦...

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多孔性結構電極成型及其燒結技術

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立高CV晶片固態電容器用電極材料70KCV/g之多孔性結構電極成型及其燒結技術,電容量達470μF/2.5V(D3L)。 | 潛力預估: 台灣為3C電子產品之設計及製造中心,對於高頻低阻抗的導電性高分子電容器需求量大,因台灣並無導電性高分子電容器之生產公司,因此對於此類高階電子產品,只有仰賴自日本進口,預期隨著經濟景氣之復甦,對電腦資訊...

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晶片電容器單元電極技術

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.導電性高分子材料配方開發特性測試,使其導電度>1S/cm,並可通過105℃、1000小時之可靠度測試。_x000D_2.導電性高分子於多孔性介電氧化皮膜之含浸聚合成膜性研究,並使其含浸成膜率達80... | 潛力預估: 導電高分子固態電容器為全球眾所矚目之新世代電容器(被動元件之當紅炸子雞),同時也是尖端先進的電容器代名詞,市場之年成長率達25%以上,2005年預估鋁固態電容器全球市場達5.25億美元,鉭固態電容器全...

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導電高分子固態電容器及其製造方法

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1. 導電性高分子材料配方開發特性測試,使其導電度>10S/cm,並可通過105℃、2000小時之可靠度測試。 2. 導電性高分子於多孔性氧化鋁介電氧化皮膜之含浸聚合成膜性研究,並使其含浸成膜率達8... | 潛力預估: 高分子鋁電容器之全球產值,除了2001年因為全球景氣不佳而出現成長停滯以外,全球的需求呈現穩定而大幅的成長, 2003年預測之全球銷售金額可達3.5億美金。中日社電子部品年鑑曾針對各類低阻抗電容器之...

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鋁晶片電容器單元電極技術

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導電高分子固態電容器材料及製程技術及其專利群組授權

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.導電性高分子材料配方,導電度>1S/cm,並可通過105℃、1000小時之可靠度測試。_x000D_2.多孔性閥金屬材料之介電皮膜化成技術。_x000D_3.導電性高分子於多孔性介電氧化皮膜之含浸... | 潛力預估: 因台灣為3C電子產品之設計及製造中心,對於高頻低阻抗的導電性高分子電容器需求量大,且因台灣並無導電性高分子電容器之生產公司,因此對於此類高階電子產品,只有仰賴自日本進口,預期隨著經濟景氣之復甦,對電腦...

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導電高分子固態電容器材料及製程技術

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.導電性高分子材料配方,導電度>1S/cm,並可通過105℃、1000小時之可靠度測試。_x000D_2.多孔性閥金屬材料之介電皮膜化成技術。_x000D_3.導電性高分子於多孔性介電氧化皮膜之含浸... | 潛力預估: 因台灣為3C電子產品之設計及製造中心,對於高頻低阻抗的導電性高分子電容器需求量大,且因台灣並無導電性高分子電容器之生產公司,因此對於此類高階電子產品,只有仰賴自日本進口,預期隨著經濟景氣之復甦,對電腦...

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多孔性結構電極成型及其燒結技術

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立高CV晶片固態電容器用電極材料70KCV/g之多孔性結構電極成型及其燒結技術,電容量達470μF/2.5V(D3L)。 | 潛力預估: 台灣為3C電子產品之設計及製造中心,對於高頻低阻抗的導電性高分子電容器需求量大,因台灣並無導電性高分子電容器之生產公司,因此對於此類高階電子產品,只有仰賴自日本進口,預期隨著經濟景氣之復甦,對電腦資訊...

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執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.導電性高分子材料配方開發特性測試,使其導電度>1S/cm,並可通過105℃、1000小時之可靠度測試。_x000D_2.導電性高分子於多孔性介電氧化皮膜之含浸聚合成膜性研究,並使其含浸成膜率達80... | 潛力預估: 導電高分子固態電容器為全球眾所矚目之新世代電容器(被動元件之當紅炸子雞),同時也是尖端先進的電容器代名詞,市場之年成長率達25%以上,2005年預估鋁固態電容器全球市場達5.25億美元,鉭固態電容器全...

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輕質蜂巢聲阻結構

執行單位: 中科院航空所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 關鍵元件材料開發及應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 厚度 | 潛力預估: 降低聲壓負荷、提昇酬載效能與減輕樓板承重特色

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電鑄模仁低溫增厚技術

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)接合溫度200-400℃; (2)結合強度3000psi以上; (3)變形量 | 潛力預估: 基於光電、通訊、生技及電腦週邊產品對模具開發之需求日殷,市場前景可期。

繞射光學鏡片設計與製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 最小環距20μm;深度1.1μm;形狀誤差 | 潛力預估: 塑膠繞射鏡片設計與元件製程技術,可應用於數位相機、照相手機、掃描器等之精密光學鏡頭。塑膠射出模仁提供量產製程技術,對降低成本提升產值,有很大助益。

CMOS影像IC設計及影像處理像技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可提供QVGA(320×240)、CIF(352×288)、VGA(640×480)、XVGA(1024×768)與1.3百萬(1280×1024)等格式,像素單元尺寸為10、7.5、6.3與5.6μ... | 潛力預估: 依據 In-Stat, Frost&Sullivan預測CIS在2005年,全球產量達237Mpcs。

紅外光無線數位電子錢包付款技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: IrDA 1.0/1.1/1.2/1.3、IrFM Version 1.0、Windows 98/2000/XP、 Symbian OS、WinCE(Packet PC)或Linux OS。 | 潛力預估: 金融機構可以減少偽卡盜刷風險(國內每年數億元)、降低交易處理成本。通信業者可以結合業者原有之SIM卡與帳單收費等機制,以及紅外線電子錢包之儲值與信用卡交易等功能,創造新的附加價值。紅外線電子錢包潛在I...

自助式數位印相系統

執行單位: 中科院資通所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可處理各種大小之JPEG影像,可於一公尺內進行紅外光無線傳輸可讀取六種規格記憶卡。 | 潛力預估: 產品預留相當大的空間可以依照客戶的需求而修訂服務之內容。

音效即時傳輸與播放系統

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 取樣頻率︰4kHz~44.1kHz(可調)、音效取樣 / 播放解析度︰16位元類比/數位轉換、紅外光傳輸距離︰0~2m(min)、紅外光發射接收模組IrDA 4Mbps。 | 潛力預估: 音效的無線即時傳輸模組,預估其生產成本的降低後,可容易的放置於娛樂裝置的使用上。業者可以結合業者原有之平台,創造新的附加價值。此外一些展覽會、畫展、產品說明展示會,亦可利用此項技術進行導覽、說明、翻譯...

氮化鋁鎵紫外線偵檢器磊晶技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: AlGaN UV detector (Al>17%) cutoff wavelength < 320nm responsivity>0.05A/W | 潛力預估: 極具軍民通用技術特性,並具創新產品與國內產業應用性

氮化鋁鎵紫外線偵檢器製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: AlGaN UV detector (Al>17%) cutoff wavelength < 320nm responsivity>0.05A/W | 潛力預估: 極具軍民通用技術特性,並具創新產品與國內產業應用性

太陽光紫外線強度量測技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 即時顯示太陽光紫外線指數功能 | 潛力預估: 極具軍民通用技術特性,並具創新產品與國內產業應用性

QDIP 元件磊晶製程與量測分析

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立完整奈米光電偵檢元件製程驗證平台。 | 潛力預估: 可提供實驗室等級分析服務

厚膜加工製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫 | 領域: | 技術規格: 微結構尺寸寬度可以小至50微米;厚度可達500微米;平整度可達±20微米以內(六吋晶圓為例) | 潛力預估: 可搶攻精密模具市場,極具市場潛力

5GHz體聲波濾波器

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫 | 領域: | 技術規格: 中心頻率:5GHz~6GHz,頻寬:100MHz~150MHz,插入損失6.0dB以內 | 潛力預估: 為因應寬頻需求、整合行動電話與無線區域網路,通訊系統業者所規劃的第四代無線通訊頻率將在5GHz以上,現有SAW與微波陶瓷濾波器將不易滿足系統規格與模組化整合需求。

高清淨合金材料技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 功能性材料應用研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.成份符合316L不銹鋼規範。2.半導體管閥件用材料符合SEMI F19-95規範。3.生醫材料ASTM-F138生醫規範。 | 潛力預估: 完成國內自製取代國外進口,創造產值超過1億元衍生產值超過5億元。

輕質蜂巢聲阻結構

執行單位: 中科院航空所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 關鍵元件材料開發及應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 厚度 | 潛力預估: 降低聲壓負荷、提昇酬載效能與減輕樓板承重特色

酸性含氟聚(矽氧烷醯胺亞醯胺)-矽石混成化合物的製備

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 關鍵元件材料開發及應用四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可廣泛的應用於氣體偵測膜、感應器、封裝材料、光電通訊材料和生醫材料等工業產品。 | 潛力預估: 有賴技術推廣

電鑄模仁低溫增厚技術

執行單位: 中科院化學所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)接合溫度200-400℃; (2)結合強度3000psi以上; (3)變形量 | 潛力預估: 基於光電、通訊、生技及電腦週邊產品對模具開發之需求日殷,市場前景可期。

繞射光學鏡片設計與製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 最小環距20μm;深度1.1μm;形狀誤差 | 潛力預估: 塑膠繞射鏡片設計與元件製程技術,可應用於數位相機、照相手機、掃描器等之精密光學鏡頭。塑膠射出模仁提供量產製程技術,對降低成本提升產值,有很大助益。

CMOS影像IC設計及影像處理像技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可提供QVGA(320×240)、CIF(352×288)、VGA(640×480)、XVGA(1024×768)與1.3百萬(1280×1024)等格式,像素單元尺寸為10、7.5、6.3與5.6μ... | 潛力預估: 依據 In-Stat, Frost&Sullivan預測CIS在2005年,全球產量達237Mpcs。

紅外光無線數位電子錢包付款技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: IrDA 1.0/1.1/1.2/1.3、IrFM Version 1.0、Windows 98/2000/XP、 Symbian OS、WinCE(Packet PC)或Linux OS。 | 潛力預估: 金融機構可以減少偽卡盜刷風險(國內每年數億元)、降低交易處理成本。通信業者可以結合業者原有之SIM卡與帳單收費等機制,以及紅外線電子錢包之儲值與信用卡交易等功能,創造新的附加價值。紅外線電子錢包潛在I...

自助式數位印相系統

執行單位: 中科院資通所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可處理各種大小之JPEG影像,可於一公尺內進行紅外光無線傳輸可讀取六種規格記憶卡。 | 潛力預估: 產品預留相當大的空間可以依照客戶的需求而修訂服務之內容。

音效即時傳輸與播放系統

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 取樣頻率︰4kHz~44.1kHz(可調)、音效取樣 / 播放解析度︰16位元類比/數位轉換、紅外光傳輸距離︰0~2m(min)、紅外光發射接收模組IrDA 4Mbps。 | 潛力預估: 音效的無線即時傳輸模組,預估其生產成本的降低後,可容易的放置於娛樂裝置的使用上。業者可以結合業者原有之平台,創造新的附加價值。此外一些展覽會、畫展、產品說明展示會,亦可利用此項技術進行導覽、說明、翻譯...

氮化鋁鎵紫外線偵檢器磊晶技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: AlGaN UV detector (Al>17%) cutoff wavelength < 320nm responsivity>0.05A/W | 潛力預估: 極具軍民通用技術特性,並具創新產品與國內產業應用性

氮化鋁鎵紫外線偵檢器製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: AlGaN UV detector (Al>17%) cutoff wavelength < 320nm responsivity>0.05A/W | 潛力預估: 極具軍民通用技術特性,並具創新產品與國內產業應用性

太陽光紫外線強度量測技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 即時顯示太陽光紫外線指數功能 | 潛力預估: 極具軍民通用技術特性,並具創新產品與國內產業應用性

QDIP 元件磊晶製程與量測分析

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立完整奈米光電偵檢元件製程驗證平台。 | 潛力預估: 可提供實驗室等級分析服務

厚膜加工製程技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫 | 領域: | 技術規格: 微結構尺寸寬度可以小至50微米;厚度可達500微米;平整度可達±20微米以內(六吋晶圓為例) | 潛力預估: 可搶攻精密模具市場,極具市場潛力

5GHz體聲波濾波器

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫 | 領域: | 技術規格: 中心頻率:5GHz~6GHz,頻寬:100MHz~150MHz,插入損失6.0dB以內 | 潛力預估: 為因應寬頻需求、整合行動電話與無線區域網路,通訊系統業者所規劃的第四代無線通訊頻率將在5GHz以上,現有SAW與微波陶瓷濾波器將不易滿足系統規格與模組化整合需求。

高清淨合金材料技術

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 功能性材料應用研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.成份符合316L不銹鋼規範。2.半導體管閥件用材料符合SEMI F19-95規範。3.生醫材料ASTM-F138生醫規範。 | 潛力預估: 完成國內自製取代國外進口,創造產值超過1億元衍生產值超過5億元。

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