液晶顯示器反射表面的製造方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文液晶顯示器反射表面的製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是195728, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是韋忠光.

序號733
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文液晶顯示器反射表面的製造方法
執行單位工研院電子所
產出單位(空)
計畫名稱下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人韋忠光
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼195728
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提出一種用於液晶顯示器之有效的非鏡面反射層的製造方法,首先在一面基版上塗佈一層兩種成分的溶液。其中一種成分加熱、或受到紫外線光照射(也可透過一層光罩)之後會硬化,但另一種成分則維持液狀。結果形成了一層固態層,內中散佈著許多的液態區,有一些會破壞表面,很容易去除,留下粗糙的表面。一旦在這些表面上沈積了高反射性的金屬後,就成為有效的非鏡面反射層。在本發明中也舉例說明了這兩種成分的材料。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員謝旺廷
電話03-5913551
傳真(空)
電子信箱wthsieh@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)

序號

733

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

液晶顯示器反射表面的製造方法

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

韋忠光

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

195728

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提出一種用於液晶顯示器之有效的非鏡面反射層的製造方法,首先在一面基版上塗佈一層兩種成分的溶液。其中一種成分加熱、或受到紫外線光照射(也可透過一層光罩)之後會硬化,但另一種成分則維持液狀。結果形成了一層固態層,內中散佈著許多的液態區,有一些會破壞表面,很容易去除,留下粗糙的表面。一旦在這些表面上沈積了高反射性的金屬後,就成為有效的非鏡面反射層。在本發明中也舉例說明了這兩種成分的材料。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

謝旺廷

電話

03-5913551

傳真

(空)

電子信箱

wthsieh@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電,95年改為電資通光

特殊情形

(空)

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4"10"20" 奈米碳管背光技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

20吋奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

CNT-BLU技術商品化規格驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

CNT-FED/CNT-BLU材料驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

4"10"20" 奈米碳管背光技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

20吋奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力

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CNT-BLU技術商品化規格驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力

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CNT-FED/CNT-BLU材料驗證

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力

@ 技術司可移轉技術資料集

LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力

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與液晶顯示器反射表面的製造方法同分類的技術司專利資料集

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL03257536.X | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮 | 林家弘 | 許嘉峻 | 陳釧鋒 | 馮文宏 | 陳明祈

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 217875 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮 | 林家弘 | 許嘉峻 | 陳釧鋒 | 馮文宏 | 陳明祈

均光模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: M243671 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍 | 周敏傑

高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 216653 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 姚柏宏 | 潘奕凱 | 鮑友南 | 林建憲

函數曲線型透鏡光柵之光源調制裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207005 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲 | 姚柏宏 | 鮑友南 | 潘奕凱

共軛凸輪取放機構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222595 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢 | 黃國興 | 徐嘉彬 | 洪嘉宏 | 林宏毅 | 李俊明

順應式壓緊裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL03280097.5 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 杜陳忠 | 蔣邦民 | 黃振榮 | 梁沐旺 | 翁義兆

壓印用模仁之製程與結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224078 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡宏營 | 吳志宏 | 程智勇

繞射/折射複合型變焦鏡頭成像系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224691 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林宗信 | 林信義 | 陸懋宏 | 王俊勛

晶圓磨床構造

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224037 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 湯國裕 | 黃榮宏 | 陳來毅

主軸高速散熱裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 210017 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 張燦輝 | 許日榮

龍門型並聯式五軸工具機

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,719,506 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 張燦輝 | 陳冠文 | 康兆安

工具機自動換刀庫之移送定位裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 209968 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 龔宣任 | 張恩生 | 許晉謀

工具機自動換刀庫之移送定位裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,740,839 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 龔宣任 | 張恩生 | 許晉謀

電腦整合生產系統及其所用之串列通訊並聯監控裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,694,201 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 李文猶 | 張少貢 | 劉俊宏 | 周 秦 | 黃建榮

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL03257536.X | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮 | 林家弘 | 許嘉峻 | 陳釧鋒 | 馮文宏 | 陳明祈

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 217875 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮 | 林家弘 | 許嘉峻 | 陳釧鋒 | 馮文宏 | 陳明祈

均光模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: M243671 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍 | 周敏傑

高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 216653 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 姚柏宏 | 潘奕凱 | 鮑友南 | 林建憲

函數曲線型透鏡光柵之光源調制裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207005 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲 | 姚柏宏 | 鮑友南 | 潘奕凱

共軛凸輪取放機構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222595 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢 | 黃國興 | 徐嘉彬 | 洪嘉宏 | 林宏毅 | 李俊明

順應式壓緊裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL03280097.5 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 杜陳忠 | 蔣邦民 | 黃振榮 | 梁沐旺 | 翁義兆

壓印用模仁之製程與結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224078 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡宏營 | 吳志宏 | 程智勇

繞射/折射複合型變焦鏡頭成像系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224691 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林宗信 | 林信義 | 陸懋宏 | 王俊勛

晶圓磨床構造

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224037 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 湯國裕 | 黃榮宏 | 陳來毅

主軸高速散熱裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 210017 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 張燦輝 | 許日榮

龍門型並聯式五軸工具機

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,719,506 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 張燦輝 | 陳冠文 | 康兆安

工具機自動換刀庫之移送定位裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 209968 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 龔宣任 | 張恩生 | 許晉謀

工具機自動換刀庫之移送定位裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,740,839 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 龔宣任 | 張恩生 | 許晉謀

電腦整合生產系統及其所用之串列通訊並聯監控裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,694,201 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 | 專利發明人: 李文猶 | 張少貢 | 劉俊宏 | 周 秦 | 黃建榮

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