具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是223402, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫, 專利發明人是陳維恕, 蘇慧琪, 陳宜孝, 梁兆鈞, 李政鴻, 莊政恩.

序號	792
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法
執行單位	工研院電子所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人	陳維恕 \| 蘇慧琪 \| 陳宜孝 \| 梁兆鈞 \| 李政鴻 \| 莊政恩
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	223402
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明是一具有螺旋形導電層之渦狀微結構及其製造方法，於基材形成立體結構，並於立體結構表面形成所需之光阻微結構模型，電鍍導電層金多於立體結構表面後去除光阻微結構模型，即形成懸浮之具有螺旋形導電層之游渦狀微結構，本發明之具有螺旋形導電層之游渦狀微結構特別是應用在微電子系統之微電感結構。(
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	楊倉錄
電話	03-5914393
傳真	03-5820412
電子信箱	yangtl@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

792

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫

專利發明人

陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

223402

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明是一具有螺旋形導電層之渦狀微結構及其製造方法，於基材形成立體結構，並於立體結構表面形成所需之光阻微結構模型，電鍍導電層金多於立體結構表面後去除光阻微結構模型，即形成懸浮之具有螺旋形導電層之游渦狀微結構，本發明之具有螺旋形導電層之游渦狀微結構特別是應用在微電子系統之微電感結構。(

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

楊倉錄

電話

03-5914393

傳真

03-5820412

電子信箱

yangtl@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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矽V型蝕刻槽斜通金屬化結構、製程及應用

@ 技術司專利資料集

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電化學蝕刻停止技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 懸膜厚度尺寸變化在±1μm。 \| 潛力預估: 有替代技術,應用潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集
鎳鈷及金微電鑄及製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 工件尺寸(max.) – Au : 24 cm (W) x 18(cm D) Ni : 25 cm (W) x 30 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被... \| 潛力預估: 應用潛力高 @ 技術司可移轉技術資料集
微鰭片散熱技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Fin Size < 0.3mm, Fin Height < 10.2mm, Aspect Ratio >35 \| 潛力預估: 應用潛力中 @ 技術司可移轉技術資料集
矽晶片濕蝕刻精密對準製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩（error＜0.2度）。 \| 潛力預估: 體型微加工重要技術,應用潛力高 @ 技術司可移轉技術資料集
室溫熱像儀驅動顯示控制技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: （1）畫面速率 30Hz （2）視訊 NTSC標準 \| 潛力預估: 應用潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集
低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 製程溫度 : 300°C ，薄膜厚度 >2um \| 潛力預估: 須搭配元件技術,應用潛力低 @ 技術司可移轉技術資料集
利用單晶矽之反應性蝕刻與金屬化等製程製作微機電元件	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ‧ 深寬比 > 3 \| 潛力預估: 單一光罩製程,製程簡單,應用潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集
矽晶片蝕穿技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um ‧ 蝕刻率 > 4 um/min ‧ 蝕刻垂直度 > 89度 ‧ 深寬比 > 30 \| 潛力預估: 潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集

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跳舞練習機	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明207024 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王大軍 \| 何文楨 \| 謝禎冏
METHOD OF MULTI-LEVEL FACIAL IMAGE RECOGNITION AND SYSTEM USING THE SAME	核准國家: 美國 \| 證書號碼: US6697504B2 \| 專利期間起: 38041 \| 專利期間訖: 44802 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 蔡坤成
在網際網路快速計算位置信息的送出時機和範圍的方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 第146271號 \| 專利期間起: 38056 \| 專利期間訖: 44164 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭育鎔
萬維網環境下的可選擇漸進式模型下載方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 第153802號 \| 專利期間起: 38112 \| 專利期間訖: 44183 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭育鎔
雙處理器管理機制	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第192904號 \| 專利期間起: 37956 \| 專利期間訖: 44536 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳澤民 \| 胡繼陽
視訊影像小波轉換處理方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第194287號 \| 專利期間起: 37987 \| 專利期間訖: 44529 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 宣志凌
三維動態資料的處理方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第197811號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王學武 \| 劉振鐸
目標模型之驅動方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第195899號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳俊呈 \| 王學武 \| 劉振鐸
彈性化系統模擬架構及其介面	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第197823號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖政順 \| 陳寶文
快速設定手持式裝置模擬器外觀之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第200832號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖政順 \| 陳寶文
字元組區之顯示介面及軟體鍵盤	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第207069號 \| 專利期間起: 38159 \| 專利期間訖: 44836 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃聖傑 \| 田乾昌 \| 陳育群
提供字元頁面以輸出字元之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第I222310號 \| 專利期間起: 38271 \| 專利期間訖: 44898 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 曹昌進 \| 吳進旺
程式最佳化方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第199575號 \| 專利期間起: 38067 \| 專利期間訖: 44898 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 胡岳偉 \| 江鎮城
用於無狀態（stateless）通訊協定的資料鎖定系統及其資料鎖定方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第204430號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張孝賢 \| 洪良仁 \| 洪廷岳
繪製橢圓上之弧與扇形的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第201926號 \| 專利期間起: 38098 \| 專利期間訖: 44876 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 許世和

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