液晶顯示器製造方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文液晶顯示器製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是223113, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是廖奇璋, 林英哲, 翁逸君, 許家榮, 辛隆賓, 劉康弘, 詹景翔, 沙益安, 黃鑫茂.

序號	894
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	液晶顯示器製造方法
執行單位	工研院電子所
產出單位	(空)
計畫名稱	下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人	廖奇璋 \| 林英哲 \| 翁逸君 \| 許家榮 \| 辛隆賓 \| 劉康弘 \| 詹景翔 \| 沙益安 \| 黃鑫茂
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	223113
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明是應用光聚合材料於液晶顯示器製造方法。主要特徵係將包裹液晶之第一層光聚合材料塗佈於具有緩衝層之輔助基板先進行光聚合製程，聚合後之第一層光聚合材料層再進行導電層電極、配向層與突出物等液晶顯示器需要之製程。第二層光聚合材料塗佈於具有複數電極圖案、配向層與突出物等液晶顯示器需要之製程基板後，利用光罩曝光使光聚合材料形成固化聚合壁(polymer wall)，或是利用模製方式(mold)並配合線性紫外光照射，使光聚合材料固化形成聚合壁且兼具配向效果。接著，於聚合壁形成之空穴內，填充液晶與少量光聚合材料形成之混合物，再將輔助基板與基板對準，進行光罩曝光聚合製程，使輔助基板與基板結合，最後將輔助基板剝離而完成單一基板液晶顯示器之製作。變化製程方式更可製造無基板液晶顯示器。應用上述製造方法可以達到提升產出率及增加多樣化液晶顯示器模式之目的。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	謝旺廷
電話	03-5913551
傳真	(空)
電子信箱	wthsieh@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形	(空)

序號

894

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

液晶顯示器製造方法

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

廖奇璋 | 林英哲 | 翁逸君 | 許家榮 | 辛隆賓 | 劉康弘 | 詹景翔 | 沙益安 | 黃鑫茂

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

223113

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明是應用光聚合材料於液晶顯示器製造方法。主要特徵係將包裹液晶之第一層光聚合材料塗佈於具有緩衝層之輔助基板先進行光聚合製程，聚合後之第一層光聚合材料層再進行導電層電極、配向層與突出物等液晶顯示器需要之製程。第二層光聚合材料塗佈於具有複數電極圖案、配向層與突出物等液晶顯示器需要之製程基板後，利用光罩曝光使光聚合材料形成固化聚合壁(polymer wall)，或是利用模製方式(mold)並配合線性紫外光照射，使光聚合材料固化形成聚合壁且兼具配向效果。接著，於聚合壁形成之空穴內，填充液晶與少量光聚合材料形成之混合物，再將輔助基板與基板對準，進行光罩曝光聚合製程，使輔助基板與基板結合，最後將輔助基板剝離而完成單一基板液晶顯示器之製作。變化製程方式更可製造無基板液晶顯示器。應用上述製造方法可以達到提升產出率及增加多樣化液晶顯示器模式之目的。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

謝旺廷

電話

03-5913551

傳真

(空)

電子信箱

wthsieh@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電，95年改為電資通光

特殊情形

(空)

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液晶顯示器製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206664 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 賴志明 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 辛隆賓 | 黃良瑩 | 詹景翔 | 鄭功龍 | 劉仕賢

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液晶顯示器製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6912038 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 林英哲 | 翁逸君 | 許家榮 | 辛隆賓 | 劉康弘 | 詹景翔 | 沙益安 | 黃鑫茂

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液晶顯示器製造方法

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4"10"20" 奈米碳管背光技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_；2.efficiency>5 lm/W \| 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Panel Size : 3.8”；Pixel number：320 x 3 x240；Resolution：QVGA；Pixel pitch：80 um x 240 um；Aperture rati... \| 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、ＰＤＡ市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
20吋奈米碳管場發射顯示技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Size:20”；均勻度 \| 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
CNT-BLU技術商品化規格驗證	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits；81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_；表面溫度 \| 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
CNT-FED/CNT-BLU材料驗證	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole \| 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_；pixel size=500μm X 500μm_x000D_；250 nits；spacer=100 μm _x000D_ \| 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 10” VGA_x000D_；Pixel number：640 x 3 x480_x000D_；Pixel pitch：90 um x 120 um_x000D_；Aperture ratio： 30... \| 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集

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液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 196458 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福 \| 謝玉凌 \| 陳錦泰
液晶顯示器的彩色濾光片	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,703,173 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂春福 \| 謝玉凌 \| 陳錦泰
多波長光源之光學掃描裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206645 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉貞豪
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光傳送模組之封裝	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,661,565 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蕭正達 \| 高旻聖 \| 王炯宏
室溫紫外光增益之氮化物材料的氧化方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 204003 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 何晉國 \| 黃兆年 \| 彭隆翰 \| 徐易千 \| 陳金源
以低電壓製作塊狀鐵電性材料區域反轉之方式	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 186269 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 彭隆瀚 \| 林宜慶 \| 房宜澂
光加取多工器	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,661,944 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林士強 \| 周維仁 \| 江行健 \| 吳俊雄
具有三端口的光學循環器	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01109959.3 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 胡杰 \| 黃承彬 \| 廖浚男
表面層以複合材料CaF2和TiO2所構成且具撥水功能之光學鍍膜元件	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I223009 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡榮源 \| 林浪津 \| 崋沐怡
分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194417 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 余昱辰 \| 郭宗南 \| 潘彥廷
光盤承載裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00129763.5 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 黃偉煜
動態減震系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206772 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊志軒 \| 謝政揚 \| 黃振源 \| 張啟伸
聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00108097.0 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 朱良謙 \| 張志吉
可調整的鏡群裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195758 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 涂銀發 \| 姜皇成 \| 陳志文 \| 張耿智

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專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

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專利期間訖

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