場發射顯示器
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專利名稱-中文場發射顯示器的核准國家是美國, 執行單位是工研院顯示中心, 產出年度是96, 專利性質是發明, 計畫名稱是影像顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是邱正茂 郭鐘亮 張光榮 賴詩文 栗愛綱 賴宏仁 橫山明聰.

序號3752
產出年度96
領域別(空)
專利名稱-中文場發射顯示器
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱影像顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人邱正茂 郭鐘亮 張光榮 賴詩文 栗愛綱 賴宏仁 橫山明聰
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼(空)
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種場發射顯示器，其包括有三個部份:陰極電子發射單元、電子放大單元及面板單元;由陰極電子發射單元發射出來的一次電子，撞擊到電子放大單元中電極表面之電子放大材料而產生二次電子之放大效果，此二次電子會撞擊到面板單元中之發光層而產生螢光，此螢光會經過最上層之透光面板出射出來，而被肉眼所見。_x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

3752

產出年度

96

領域別

(空)

專利名稱-中文

場發射顯示器

執行單位

工研院顯示中心

產出單位

(空)

計畫名稱

影像顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

邱正茂 郭鐘亮 張光榮 賴詩文 栗愛綱 賴宏仁 橫山明聰

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

(空)

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種場發射顯示器，其包括有三個部份:陰極電子發射單元、電子放大單元及面板單元;由陰極電子發射單元發射出來的一次電子，撞擊到電子放大單元中電極表面之電子放大材料而產生二次電子之放大效果，此二次電子會撞擊到面板單元中之發光層而產生螢光，此螢光會經過最上層之透光面板出射出來，而被肉眼所見。_x000D_

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號811
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文具有主動控制之可調式場發射顯示器
執行單位工研院電子所
產出單位(空)
計畫名稱下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人王右武, 李鈞道, 李正中
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼202493
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係一種具有主動控制之可調式場發射型顯示器(active matrix current source controlled gray level tunable FED)，其利用主動元件將電壓控制訊號轉換為電流輸出，並利用電容記錄及維持上述電壓控制信號，以產生低控制電壓主動電流源驅動場發射型顯示器(low control voltage and active current source driving FED)，可達到調整與維持其灰階及亮度(brightness)的目的。經由使用上述主動元件及電容，使亮度維持固定，如此，場發射型顯示器(FED)操作於較低電壓及亮度下，即可得到高瞬間亮度(high transient brightness)以產生高平均亮度(high average brightness)，同時，也可避開高壓時產生的電弧電流(arc current)問題。另外，由於可由電流源控制流過場發射型顯示器的電流，故因真空不良而產生的大電弧電流，會被固定電流源壓制，使電流保持在定值，防止電弧(arc)產生，提升場發射型顯示器的良率。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員謝旺廷
電話03-5913551
傳真(空)
電子信箱wthsieh@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 811
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 具有主動控制之可調式場發射顯示器
執行單位: 工研院電子所
產出單位: (空)
計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 王右武, 李鈞道, 李正中
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 202493
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係一種具有主動控制之可調式場發射型顯示器(active matrix current source controlled gray level tunable FED)，其利用主動元件將電壓控制訊號轉換為電流輸出，並利用電容記錄及維持上述電壓控制信號，以產生低控制電壓主動電流源驅動場發射型顯示器(low control voltage and active current source driving FED)，可達到調整與維持其灰階及亮度(brightness)的目的。經由使用上述主動元件及電容，使亮度維持固定，如此，場發射型顯示器(FED)操作於較低電壓及亮度下，即可得到高瞬間亮度(high transient brightness)以產生高平均亮度(high average brightness)，同時，也可避開高壓時產生的電弧電流(arc current)問題。另外，由於可由電流源控制流過場發射型顯示器的電流，故因真空不良而產生的大電弧電流，會被固定電流源壓制，使電流保持在定值，防止電弧(arc)產生，提升場發射型顯示器的良率。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 謝旺廷
電話: 03-5913551
傳真: (空)
電子信箱: wthsieh@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號2035
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文主動陣列可調灰階奈米碳管場發射顯示器
執行單位工研院電子所
產出單位(空)
計畫名稱下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人王右武、李鈞道、李正中
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6882112
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係一種奈米碳管場發射顯示器，其至少包括: 一奈米碳管場發射顯示單元，具有一陰極，一閘極，和一陽極；其中陰極具有奈米碳管用以發射電子；一主動元件，具有第一電極，第二電極，和一控制電極；其中第二電極耦接到奈米碳管場發射顯示單元的閘極；以及一電容，其耦接於奈米碳管場發射顯示單元的閘極和一固定電壓源之間，其儲存閘極的電壓用以控制奈米碳管場發射顯示單元的亮度和灰階。_x000D_ A nanotube field emission display. The nanotube field emission display
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
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備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 2035
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 主動陣列可調灰階奈米碳管場發射顯示器
執行單位: 工研院電子所
產出單位: (空)
計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 王右武、李鈞道、李正中
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6882112
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係一種奈米碳管場發射顯示器，其至少包括: 一奈米碳管場發射顯示單元，具有一陰極，一閘極，和一陽極；其中陰極具有奈米碳管用以發射電子；一主動元件，具有第一電極，第二電極，和一控制電極；其中第二電極耦接到奈米碳管場發射顯示單元的閘極；以及一電容，其耦接於奈米碳管場發射顯示單元的閘極和一固定電壓源之間，其儲存閘極的電壓用以控制奈米碳管場發射顯示單元的亮度和灰階。_x000D_ A nanotube field emission display. The nanotube field emission display
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號2698
產出年度95
領域別(空)
專利名稱-中文四極場發射顯示器
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱影像顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人林炳南、李正中、張悠揚、林偉義
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I259500
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種四極場發射顯示器，乃藉由邊緣結構來達成低驅動電壓, 並且加入次閘極達成完美的暗狀態顯示，此四極場發射顯示器透過結構邊緣會增加電場強度的電學特性，將陰極板邊緣透過閘極層之開孔露出，而在發射源處造成邊緣結構，以提高位於發射源處之電場，進而大幅降低驅動電壓，因此，可實現在不改變結構的情形下, 藉由電壓調整達成暗狀態顯示。A quadrode field emission display is provided, where a low driving voltage is reached by an edge structure, and display in the dark is achieved by adding a sub-gate electrode. With respect to the electrical characteristics that an edge structure may raise the electric field intensity, the invention exposes an edge of a cathode plate through an opening of a gate layer, thereby forming the edge structure at an emitter to raise the electric field. It also reduces the driving voltage substantially. Therefore, the display in the dark is achieved by adjusting the voltage without changing the structure.
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 2698
產出年度: 95
領域別: (空)
專利名稱-中文: 四極場發射顯示器
執行單位: 工研院顯示中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 林炳南、李正中、張悠揚、林偉義
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I259500
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種四極場發射顯示器，乃藉由邊緣結構來達成低驅動電壓, 並且加入次閘極達成完美的暗狀態顯示，此四極場發射顯示器透過結構邊緣會增加電場強度的電學特性，將陰極板邊緣透過閘極層之開孔露出，而在發射源處造成邊緣結構，以提高位於發射源處之電場，進而大幅降低驅動電壓，因此，可實現在不改變結構的情形下, 藉由電壓調整達成暗狀態顯示。A quadrode field emission display is provided, where a low driving voltage is reached by an edge structure, and display in the dark is achieved by adding a sub-gate electrode. With respect to the electrical characteristics that an edge structure may raise the electric field intensity, the invention exposes an edge of a cathode plate through an opening of a gate layer, thereby forming the edge structure at an emitter to raise the electric field. It also reduces the driving voltage substantially. Therefore, the display in the dark is achieved by adjusting the voltage without changing the structure.
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號6015
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文四極場發射顯示器
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人林炳南, 李正中, 張悠揚, 林偉義
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7,471,039
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種四極場發射顯示器，乃藉由邊緣結構來達成低驅動電壓, 並且加入次閘極達成完美的暗狀態顯示，此四極場發射顯示器透過結構邊緣會增加電場強度的電學特性，將陰極板邊緣透過閘極層之開孔露出，而在發射源處造成邊緣結構，以提高位於發射源處之電場，進而大幅降低驅動電壓，因此，可實現在不改變結構的情形下, 藉由電壓調整達成暗狀態顯示。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註20101281-Joanne
特殊情形(空)
序號: 6015
產出年度: 98
領域別: (空)
專利名稱-中文: 四極場發射顯示器
執行單位: 工研院顯示中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人: 林炳南, 李正中, 張悠揚, 林偉義
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 7,471,039
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種四極場發射顯示器，乃藉由邊緣結構來達成低驅動電壓, 並且加入次閘極達成完美的暗狀態顯示，此四極場發射顯示器透過結構邊緣會增加電場強度的電學特性，將陰極板邊緣透過閘極層之開孔露出，而在發射源處造成邊緣結構，以提高位於發射源處之電場，進而大幅降低驅動電壓，因此，可實現在不改變結構的情形下, 藉由電壓調整達成暗狀態顯示。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 20101281-Joanne
特殊情形: (空)

# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號6057
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文具場發射源系統顯示器及其提高真空度之方法
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人錢玉涵, 彭智平, 傅傳旭, 林偉義, 詹立雄
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7,489,071
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種具場發射源系統及其提高真空度之方法。本發明係在該場發射源系統之吸氣區域加入活化後表面未飽和的奈米碳管材料做為吸氣材料，以吸附該具場發射源系統內部殘留的氣體，進而提高該具場發射源系統內部真空度。本發明提高真空度的方法可整合入場發射顯示器的標準製程，不會增加額外製程步驟，可利於場發射顯示器的大量生產製造。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註20101323-Joanne
特殊情形(空)
序號: 6057
產出年度: 98
領域別: (空)
專利名稱-中文: 具場發射源系統顯示器及其提高真空度之方法
執行單位: 工研院顯示中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人: 錢玉涵, 彭智平, 傅傳旭, 林偉義, 詹立雄
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 7,489,071
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種具場發射源系統及其提高真空度之方法。本發明係在該場發射源系統之吸氣區域加入活化後表面未飽和的奈米碳管材料做為吸氣材料，以吸附該具場發射源系統內部殘留的氣體，進而提高該具場發射源系統內部真空度。本發明提高真空度的方法可整合入場發射顯示器的標準製程，不會增加額外製程步驟，可利於場發射顯示器的大量生產製造。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 20101323-Joanne
特殊情形: (空)

# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號3800
產出年度96
領域別(空)
專利名稱-中文場發射顯示器之陽極面板
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱影像顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人陳盈憲 李正中 黃文奎 林偉義 何家充 張悠揚 蕭名君 蕭雲嬌
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I278887
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係有關於一種場發射顯示器之陽極面板，其包括一基板；一位於基板表面之陽極導電層；至少一位於陽極導電層外圍之間隙式導電接線，其具有複數個間隙，作為該陽極導電層之外部接線，且該陽極導電區與該間隙式導電接線區係相互連接；以及一螢光層，係位於該陽極導電層之表面，作為場發射顯示器之發光層。一利用本發明之陽極面板所製作之場發射顯示器亦一併揭示。_x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 3800
產出年度: 96
領域別: (空)
專利名稱-中文: 場發射顯示器之陽極面板
執行單位: 工研院顯示中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 陳盈憲 李正中 黃文奎 林偉義 何家充 張悠揚 蕭名君 蕭雲嬌
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I278887
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係有關於一種場發射顯示器之陽極面板，其包括一基板；一位於基板表面之陽極導電層；至少一位於陽極導電層外圍之間隙式導電接線，其具有複數個間隙，作為該陽極導電層之外部接線，且該陽極導電區與該間隙式導電接線區係相互連接；以及一螢光層，係位於該陽極導電層之表面，作為場發射顯示器之發光層。一利用本發明之陽極面板所製作之場發射顯示器亦一併揭示。_x000D_
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號4167
產出年度97
領域別(空)
專利名稱-中文場發射顯示器之陽極面板
執行單位工研院顯示中心
產出單位(空)
計畫名稱新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人陳盈憲 李正中 黃文奎 林偉義 何家充 張悠揚 蕭名君 蕭雲嬌
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7,304,424
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係有關於一種場發射顯示器之陽極面板，其包括一基板；一位於基板表面之陽極導電層；至少一位於陽極導電層外圍之間隙式導電接線，其具有複數個間隙，作為該陽極導電層之外部接線，且該陽極導電區與該間隙式導電接線區係相互連接；以及一螢光層，係位於該陽極導電層之表面，作為場發射顯示器之發光層。一利用本發明之陽極面板所製作之場發射顯示器亦一併揭示。 An anode plate for a field emission display (FED) is disclosed, which has a substrate; an anode conductive layer formed on the substrate; at least one interspacing conductive band having a plurality of internal gaps for connecting the anode conductive layer and external cable lines, wherein the interspacing conductive band covers a part of the anode conductive layer; and a fluorescent layer located on the anode conductive layer, to serve as a source of luminescence for a field emission display. The field emission display includes the anode plate aforesaid is also disclosed.
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註0
特殊情形(空)
序號: 4167
產出年度: 97
領域別: (空)
專利名稱-中文: 場發射顯示器之陽極面板
執行單位: 工研院顯示中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人: 陳盈憲 李正中 黃文奎 林偉義 何家充 張悠揚 蕭名君 蕭雲嬌
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 7,304,424
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係有關於一種場發射顯示器之陽極面板，其包括一基板；一位於基板表面之陽極導電層；至少一位於陽極導電層外圍之間隙式導電接線，其具有複數個間隙，作為該陽極導電層之外部接線，且該陽極導電區與該間隙式導電接線區係相互連接；以及一螢光層，係位於該陽極導電層之表面，作為場發射顯示器之發光層。一利用本發明之陽極面板所製作之場發射顯示器亦一併揭示。 An anode plate for a field emission display (FED) is disclosed, which has a substrate; an anode conductive layer formed on the substrate; at least one interspacing conductive band having a plurality of internal gaps for connecting the anode conductive layer and external cable lines, wherein the interspacing conductive band covers a part of the anode conductive layer; and a fluorescent layer located on the anode conductive layer, to serve as a source of luminescence for a field emission display. The field emission display includes the anode plate aforesaid is also disclosed.
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 0
特殊情形: (空)

# 場發射顯示器 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號783
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程
執行單位工研院電子所
產出單位(空)
計畫名稱下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人鄭華琦, 李正中, 廖貞慧, 張悠揚, 許志榮, 何家充
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6811457
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種奈米碳管場發射顯示器之陰極板的製程，利用感光性導電漿料與可蝕刻之介電材料，結合光微影製程與蝕刻製 程來製作，包含底電極的製作、介電層的製作、閘極層的製作和奈米碳管場發射層的製作。此陰極板結構再與陽極板封裝組合即完成一奈米碳管場發射顯示器陣列。相較於傳統網印法印製的陰極圖案，本發明大大提高解析，使顯示器的品質得到改善。且結構中介電層的解析可在閘電極製作時一併決定，減少了煩複的對位，不僅製程簡單，並且膜厚均勻性佳，印製圖案可任意配列也不會失真，更無電場強度分佈不均的缺點。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員謝旺廷
電話03-5913551
傳真(空)
電子信箱wthsieh@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 783
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程
執行單位: 工研院電子所
產出單位: (空)
計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 鄭華琦, 李正中, 廖貞慧, 張悠揚, 許志榮, 何家充
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6811457
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種奈米碳管場發射顯示器之陰極板的製程，利用感光性導電漿料與可蝕刻之介電材料，結合光微影製程與蝕刻製 程來製作，包含底電極的製作、介電層的製作、閘極層的製作和奈米碳管場發射層的製作。此陰極板結構再與陽極板封裝組合即完成一奈米碳管場發射顯示器陣列。相較於傳統網印法印製的陰極圖案，本發明大大提高解析，使顯示器的品質得到改善。且結構中介電層的解析可在閘電極製作時一併決定，減少了煩複的對位，不僅製程簡單，並且膜厚均勻性佳，印製圖案可任意配列也不會失真，更無電場強度分佈不均的缺點。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 謝旺廷
電話: 03-5913551
傳真: (空)
電子信箱: wthsieh@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)
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根據姓名 邱正茂 郭鐘亮 張光榮 賴詩文 栗愛綱 賴宏仁 橫山明聰 找到的相關資料

場發射顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱正茂, 郭鐘亮, 張光榮, 賴詩文, 栗愛綱, 賴宏仁, 橫山明聰 | 證書號碼: TW I224352

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

場發射顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱正茂, 郭鐘亮, 張光榮, 賴詩文, 栗愛綱, 賴宏仁, 橫山明聰 | 證書號碼: TW I224352

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# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號1066
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文一種高速假撚方法
執行單位工研院化工所
產出單位(空)
計畫名稱高科技纖維與產品技術開發四年計畫
專利發明人陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼207547
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種新穎的紡絲油劑組成物，應用在合成纖維部份延伸絲(POY)的摩擦假撚加工上，可避免因灰分累積於加熱絲導所產生的種種不良影響。本發明之紡絲油劑組成物包括：(A)環氧乙烷/環氧化丙烯共聚物；(B)多氧乙烯基烷基苯基醚；以及(C)銨基磺酸鹽抗靜電劑。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 1066
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 一種高速假撚方法
執行單位: 工研院化工所
產出單位: (空)
計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫
專利發明人: 陳哲陽、簡淑華、黃麗娟、黃泳彬
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 207547
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種新穎的紡絲油劑組成物，應用在合成纖維部份延伸絲(POY)的摩擦假撚加工上，可避免因灰分累積於加熱絲導所產生的種種不良影響。本發明之紡絲油劑組成物包括：(A)環氧乙烷/環氧化丙烯共聚物；(B)多氧乙烯基烷基苯基醚；以及(C)銨基磺酸鹽抗靜電劑。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)

# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號1067
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝
執行單位工研院材料所
產出單位(空)
計畫名稱電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫
專利發明人王興昇、李榮賢、陳棓煌
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼207522
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明包含有一基板，晶月，信號傳遞裝置以做為晶月與基板之間之電性連結，導體球陣列(BGA)做為對外訊號之傳遞，晶片、基板與一散熱元件間則以絕緣封裝體加以覆蓋，散熱元件，具有支撐器位於角落凸出於金屬板之"下表面以利於與基板連接，基板包含一島位用以置放上述之晶月，一電源環形成於島住之周圍用以輸入電源，一接地環則環繞於電源環，上述之接地環具有複數個接地墊以銜接散熱元件之支_x000D_撐器。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 1067
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝
執行單位: 工研院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫
專利發明人: 王興昇、李榮賢、陳棓煌
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 207522
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明包含有一基板，晶月，信號傳遞裝置以做為晶月與基板之間之電性連結，導體球陣列(BGA)做為對外訊號之傳遞，晶片、基板與一散熱元件間則以絕緣封裝體加以覆蓋，散熱元件，具有支撐器位於角落凸出於金屬板之"下表面以利於與基板連接，基板包含一島位用以置放上述之晶月，一電源環形成於島住之周圍用以輸入電源，一接地環則環繞於電源環，上述之接地環具有複數個接地墊以銜接散熱元件之支_x000D_撐器。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)

# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號1073
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文熱管均熱板
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人張長生、楊書榮
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼226177
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文本創作揭露一種熱管均熱板，主要用於將散熱面積小的熱源，如電子元件，透過本 創作之熱管均熱板的均熱傳遞作用，迅速且均勻地導引至較大的散熱面來做更有效 的散熱，解決散熱面積小的熱源無法有效散熱，以及無法有效利用較大面積來幫助 散熱的問題。本創作係為兩片金屬板片包夾毛細結構形成一密閉的板型熱管結構， 其中一板片內部更具有凸出結構，利用熱管原理配合本創作所設計的毛細結構及內 部間隔空間，當均熱板局部位置接觸較小面積之發熱源時，能迅速吸熱並且傳遞至 另一面的整個板片，再透過較大面積之板片表面或其表面所附加之散熱片散
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為生技醫藥，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 1073
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 熱管均熱板
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 張長生、楊書榮
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 226177
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 本創作揭露一種熱管均熱板，主要用於將散熱面積小的熱源，如電子元件，透過本 創作之熱管均熱板的均熱傳遞作用，迅速且均勻地導引至較大的散熱面來做更有效 的散熱，解決散熱面積小的熱源無法有效散熱，以及無法有效利用較大面積來幫助 散熱的問題。本創作係為兩片金屬板片包夾毛細結構形成一密閉的板型熱管結構， 其中一板片內部更具有凸出結構，利用熱管原理配合本創作所設計的毛細結構及內 部間隔空間，當均熱板局部位置接觸較小面積之發熱源時，能迅速吸熱並且傳遞至 另一面的整個板片，再透過較大面積之板片表面或其表面所附加之散熱片散
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為生技醫藥，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)

# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號1075
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文一種資料通訊的方法
執行單位工研院電通所
產出單位(空)
計畫名稱無線通訊技術發展五年計畫
專利發明人吳炯憲、馬金溝
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6496481
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種資料通訊之方法。首先，發送瑞根據第一控制窗所允許傳送之資料封包個 數，連續送出多數個資料封包至接收端，且接收端檢查所收到之資料封包是否含有 錯誤資料封包。在接收端收到一資料封包群之後，便將各個資料封包之傳送錯誤狀 態記載於一回應封包(ACK)內，並將回應封包傳回至發送端，而發送端於收到回應 封包後立即將錯誤的資料封包重送至接收端，然後緊接著傳送下一資料封包群，每 一資料封包群包含多數個料封包，其個數由第二控制窗決定，因此，第二控制窗的 決定了錯誤狀態被回應的間隔時間與一資料封包群之所含該資料封包的佪數，並且 ，藉由限制錯誤資料封包被更正的次數，可將有效的傳輸延遲限定在一定時間內， 而達到即時的要求。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1075
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 一種資料通訊的方法
執行單位: 工研院電通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫
專利發明人: 吳炯憲、馬金溝
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6496481
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種資料通訊之方法。首先，發送瑞根據第一控制窗所允許傳送之資料封包個 數，連續送出多數個資料封包至接收端，且接收端檢查所收到之資料封包是否含有 錯誤資料封包。在接收端收到一資料封包群之後，便將各個資料封包之傳送錯誤狀 態記載於一回應封包(ACK)內，並將回應封包傳回至發送端，而發送端於收到回應 封包後立即將錯誤的資料封包重送至接收端，然後緊接著傳送下一資料封包群，每 一資料封包群包含多數個料封包，其個數由第二控制窗決定，因此，第二控制窗的 決定了錯誤狀態被回應的間隔時間與一資料封包群之所含該資料封包的佪數，並且 ，藉由限制錯誤資料封包被更正的次數，可將有效的傳輸延遲限定在一定時間內， 而達到即時的要求。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號1079
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文Optical Disk Control Mechanism
執行單位工研院光電所
產出單位(空)
計畫名稱前瞻光資訊系統技術發展計畫
專利發明人藍永松、張啟伸
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6665253
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種光碟機控制機構，至少包括：一馬達。一傳動構件，藉由馬達可以使傳動構件轉動，而傳動構件至少具有一第一時序元件、一第二時序元件。一極限開關，具有一第一電極頭、一第二電極頭，在傳動構件轉動的過程中，第一時序元件會碰觸到第一電極頭，而使第一電極頭與第二電極頭相互碰觸。一滑片，具有一端緣，在傳動構件轉動的過程中，第二時序元件會碰觸到滑片的端緣，使滑片滑動。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1079
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: Optical Disk Control Mechanism
執行單位: 工研院光電所
產出單位: (空)
計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫
專利發明人: 藍永松、張啟伸
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6665253
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種光碟機控制機構，至少包括：一馬達。一傳動構件，藉由馬達可以使傳動構件轉動，而傳動構件至少具有一第一時序元件、一第二時序元件。一極限開關，具有一第一電極頭、一第二電極頭，在傳動構件轉動的過程中，第一時序元件會碰觸到第一電極頭，而使第一電極頭與第二電極頭相互碰觸。一滑片，具有一端緣，在傳動構件轉動的過程中，第二時序元件會碰觸到滑片的端緣，使滑片滑動。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號1080
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文時序還原之方法與系統
執行單位工研院晶片中心
產出單位(空)
計畫名稱晶片系統關鍵技術發展四年計畫
專利發明人林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文
核准國家德國
獲證日期(空)
證書號碼573696
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文在一數位通信系統的接收器,一傳送來的類比信號由 一本地時鐘取樣,為校正本地接收器時鐘與遠端發送器 時鐘的不同步時序,由本地時鐘得到的取樣值由一時序 校正器一步處理,時序校正器更正由本地時鐘得到的取 樣值的方法為在一特定時間計算由本地時鐘得到的一 組取樣和一上升餘弦函數的迴旋,特定時間的決定是用 一窄頻寬帶通濾波器濾波時序校正器的輸出取樣後而 定,一時差檢測器用來計算前述濾波器的特定取樣輸出 後適當地調整時序校正器計算迴旋時的時間._x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1080
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 時序還原之方法與系統
執行單位: 工研院晶片中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文
核准國家: 德國
獲證日期: (空)
證書號碼: 573696
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 在一數位通信系統的接收器,一傳送來的類比信號由 一本地時鐘取樣,為校正本地接收器時鐘與遠端發送器 時鐘的不同步時序,由本地時鐘得到的取樣值由一時序 校正器一步處理,時序校正器更正由本地時鐘得到的取 樣值的方法為在一特定時間計算由本地時鐘得到的一 組取樣和一上升餘弦函數的迴旋,特定時間的決定是用 一窄頻寬帶通濾波器濾波時序校正器的輸出取樣後而 定,一時差檢測器用來計算前述濾波器的特定取樣輸出 後適當地調整時序校正器計算迴旋時的時間._x000D_
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號1081
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文時序還原之方法與系統
執行單位工研院晶片中心
產出單位(空)
計畫名稱晶片系統關鍵技術發展四年計畫
專利發明人林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文
核准國家英國
獲證日期(空)
證書號碼573696
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文在一數位通信系統的接收器,一傳送來的類比信號由 一本地時鐘取樣,為校正本地接收器時鐘與遠端發送器 時鐘的不同步時序,由本地時鐘得到的取樣值由一時序 校正器一步處理,時序校正器更正由本地時鐘得到的取 樣值的方法為在一特定時間計算由本地時鐘得到的一 組取樣和一上升餘弦函數的迴旋,特定時間的決定是用 一窄頻寬帶通濾波器濾波時序校正器的輸出取樣後而 定,一時差檢測器用來計算前述濾波器的特定取樣輸出 後適當地調整時序校正器計算迴旋時的時間._x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1081
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 時序還原之方法與系統
執行單位: 工研院晶片中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 林清祥、余基祥、林妍君、薛勝文
核准國家: 英國
獲證日期: (空)
證書號碼: 573696
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 在一數位通信系統的接收器,一傳送來的類比信號由 一本地時鐘取樣,為校正本地接收器時鐘與遠端發送器 時鐘的不同步時序,由本地時鐘得到的取樣值由一時序 校正器一步處理,時序校正器更正由本地時鐘得到的取 樣值的方法為在一特定時間計算由本地時鐘得到的一 組取樣和一上升餘弦函數的迴旋,特定時間的決定是用 一窄頻寬帶通濾波器濾波時序校正器的輸出取樣後而 定,一時差檢測器用來計算前述濾波器的特定取樣輸出 後適當地調整時序校正器計算迴旋時的時間._x000D_
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 03-5916037 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號1082
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法
執行單位工研院生醫中心
產出單位(空)
計畫名稱抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫
專利發明人潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼157850
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種萃取中草藥中醣甘類化合物之雙水相系統，包括：水萃液；約5wt%-30wt% 的鹽類；約5wt%-30wt%的多醇；及選擇性地約5wt%～-30wt%的醇類。鹽類可以是磷 酸二氫鹽類、磷酸氫二鹽類、磷酸鹽類、或其任二者或三者之混合物、硫酸鹽類、 氯化鹽類、草酸鹽類或醋酸鹽類。另外，揭露一種利用上述雙水相系統之方法，包 括：水萃、濃縮乾燥、利用上述雙水相系統分相、取水層並濃縮乾燥、加溶劑清洗 、超音波震盪、離心取濾液、低溫下靜置沈澱、固液分離、濃縮乾燥。_x000D_ An aqueous two-phase sy
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為生技醫藥，95年改為生醫材化
特殊情形(空)
序號: 1082
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法
執行單位: 工研院生醫中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫
專利發明人: 潘一紅、李連滋、邱惜禾、劉惠儒、姚心然
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 157850
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種萃取中草藥中醣甘類化合物之雙水相系統，包括：水萃液；約5wt%-30wt% 的鹽類；約5wt%-30wt%的多醇；及選擇性地約5wt%～-30wt%的醇類。鹽類可以是磷 酸二氫鹽類、磷酸氫二鹽類、磷酸鹽類、或其任二者或三者之混合物、硫酸鹽類、 氯化鹽類、草酸鹽類或醋酸鹽類。另外，揭露一種利用上述雙水相系統之方法，包 括：水萃、濃縮乾燥、利用上述雙水相系統分相、取水層並濃縮乾燥、加溶劑清洗 、超音波震盪、離心取濾液、低溫下靜置沈澱、固液分離、濃縮乾燥。_x000D_ An aqueous two-phase sy
技術摘要-英文: (空)
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備註: 原領域別為生技醫藥，95年改為生醫材化
特殊情形: (空)
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與場發射顯示器同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

改善非晶矽薄膜基板之製程方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林宏彝, 吳東權, 李三保 | 證書號碼: 194454

晶圓電鍍裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 杜陳忠, 蔣邦民, 王致誠, 黃振榮 | 證書號碼: 195797

晶片取放翻轉機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 林宏毅, 曾柏蒼 | 證書號碼: 215880

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 210192

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 6782883

臥式線型馬達工具機封閉型框架結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 張恩生, 林清源, 許晉謀, 龔宣任 | 證書號碼: 209952

光準直器中透鏡之夾持機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱顯森, 黃相宇, 劉松河 | 證書號碼: 214550

光準直器自動組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 黃相宇, 劉松河, 邱顯森 | 證書號碼: 210229

光纖準直器自動化組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉松河, 黃相宇, 邱顯森 | 證書號碼: 219577

用于納米轉印的平行度調整裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: ZL03257537.8

用於奈米轉印之平行度調整裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: 217025

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: ZL03257536.X

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: 217875

均光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑 | 證書號碼: M243671

高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲 | 證書號碼: 216653

改善非晶矽薄膜基板之製程方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林宏彝, 吳東權, 李三保 | 證書號碼: 194454

晶圓電鍍裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 杜陳忠, 蔣邦民, 王致誠, 黃振榮 | 證書號碼: 195797

晶片取放翻轉機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 林宏毅, 曾柏蒼 | 證書號碼: 215880

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 210192

分離脆性材料的切割刀頭機構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳貴榮, 陳孟群, 賴志一 | 證書號碼: 6782883

臥式線型馬達工具機封閉型框架結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 張恩生, 林清源, 許晉謀, 龔宣任 | 證書號碼: 209952

光準直器中透鏡之夾持機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱顯森, 黃相宇, 劉松河 | 證書號碼: 214550

光準直器自動組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 黃相宇, 劉松河, 邱顯森 | 證書號碼: 210229

光纖準直器自動化組裝系統改良結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 劉松河, 黃相宇, 邱顯森 | 證書號碼: 219577

用于納米轉印的平行度調整裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: ZL03257537.8

用於奈米轉印之平行度調整裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 | 證書號碼: 217025

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: ZL03257536.X

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: 217875

均光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑 | 證書號碼: M243671

高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲 | 證書號碼: 216653

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