二氧化碳供應系統
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文二氧化碳供應系統的核准國家是中華民國, 證書號碼是I335971, 專利期間起是100/01/11, 專利期間訖是116/11/01, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是100, 計畫名稱是軟性電子設備及模組技術開發三年計畫, 專利發明人是鄭宇舜.洪俊宏.李國正.楊勝仲.

序號9048
產出年度100
領域別機械運輸
專利名稱-中文二氧化碳供應系統
執行單位金屬中心
產出單位金屬中心
計畫名稱軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人鄭宇舜.洪俊宏.李國正.楊勝仲
核准國家中華民國
獲證日期100/01/11
證書號碼I335971
專利期間起100/01/11
專利期間訖116/11/01
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係一超低溫室效應之鎂合金保護系統裝置,其係利用二氧化碳雪花噴灑裝置,將二氧化碳雪花噴灑於鎂合金熔爐內,作為鎂合金熔液之保護氣體,隔絕鎂和空氣接觸,防止鎂合金熔液燃燒,達到保護效果;同時大幅降低鎂合金鑄造過程中所產生的溫室效應,使其更符合"綠色金屬"的本質。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李國正
電話07-3513121-2638
傳真07-3539411
電子信箱batch@mail.mirdc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
備註(空)
特殊情形(空)

序號

9048

產出年度

100

領域別

機械運輸

專利名稱-中文

二氧化碳供應系統

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

軟性電子設備及模組技術開發三年計畫

專利發明人

鄭宇舜.洪俊宏.李國正.楊勝仲

核准國家

中華民國

獲證日期

100/01/11

證書號碼

I335971

專利期間起

100/01/11

專利期間訖

116/11/01

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係一超低溫室效應之鎂合金保護系統裝置,其係利用二氧化碳雪花噴灑裝置,將二氧化碳雪花噴灑於鎂合金熔爐內,作為鎂合金熔液之保護氣體,隔絕鎂和空氣接觸,防止鎂合金熔液燃燒,達到保護效果;同時大幅降低鎂合金鑄造過程中所產生的溫室效應,使其更符合"綠色金屬"的本質。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李國正

電話

07-3513121-2638

傳真

07-3539411

電子信箱

batch@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw/

備註

(空)

特殊情形

(空)

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二氧化碳供應系統

核准國家: 日本 | 證書號碼: 4756025 | 專利期間起: 101/06/03 | 專利期間訖: 116/12/19 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 李國正.鄭宇舜.洪俊宏.楊勝仲

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二氧化碳供應系統

核准國家: 日本 | 證書號碼: 4756025 | 專利期間起: 101/06/03 | 專利期間訖: 116/12/19 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 李國正.鄭宇舜.洪俊宏.楊勝仲

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冷卻裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I425555 | 專利期間起: 117/10/01 | 專利期間訖: 一種冷卻裝置,其包含一供給器、一噴嘴及一成形腔體。該供給器係供給工作介質,該噴嘴之一端結合該供給器;該成形腔體具有一送入口及一送出口,該送入口係結合該噴嘴之另一端,該送出口係噴發大顆粒固態工作介質。 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 鄭宇舜 | 洪俊宏 | 楊勝仲 | 李國正

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二氧化碳源供應系統

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200710195206.4 | 專利期間起: 116/12/03 | 專利期間訖: 本發明係一超低溫室效應之鎂合金保護系統裝置,其係利用二氧化碳雪花噴灑裝置,將二氧化碳雪花噴灑於鎂合金熔爐內,作為鎂合金熔液之保護氣體,隔絕鎂和空氣接觸,防止鎂合金熔液燃燒,達到保護效果;同時大幅降低鎂... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 鄭宇舜.楊勝仲.李國正.洪俊宏

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冷卻裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I425555 | 專利期間起: 117/10/01 | 專利期間訖: 一種冷卻裝置,其包含一供給器、一噴嘴及一成形腔體。該供給器係供給工作介質,該噴嘴之一端結合該供給器;該成形腔體具有一送入口及一送出口,該送入口係結合該噴嘴之另一端,該送出口係噴發大顆粒固態工作介質。 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 鄭宇舜 | 洪俊宏 | 楊勝仲 | 李國正

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二氧化碳源供應系統

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200710195206.4 | 專利期間起: 116/12/03 | 專利期間訖: 本發明係一超低溫室效應之鎂合金保護系統裝置,其係利用二氧化碳雪花噴灑裝置,將二氧化碳雪花噴灑於鎂合金熔爐內,作為鎂合金熔液之保護氣體,隔絕鎂和空氣接觸,防止鎂合金熔液燃燒,達到保護效果;同時大幅降低鎂... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 鄭宇舜.楊勝仲.李國正.洪俊宏

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無縫膠囊製備系統技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 1.爆漿果汁球製造,粒徑6-8㎜ 2.果汁球殼材:褐藻膠 | 潛力預估: 1.無縫膠囊包覆系統技術轉移給食品業者,可以開發爆漿果汁球或者有料包覆珍珠,具市場性和話題性,值得推廣開發 2.學界有類似的研究,用以製成清潔衛生用品,投入適當研究可以延伸許多不同的應用

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素食殼材包覆無縫膠囊製程技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 1.室溫下包覆 2.膠囊粒徑3-7mm | 潛力預估: 可包覆高單價植物油如月見草油(omega-3)、微藻油(DHA),或水溶性活性成分如乳酸菌、多醣體等。預估產值1億/年以上。

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滴丸成形設備技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 粒徑約3~4mm | 潛力預估: 滴丸劑是新興的熱門劑型,特別是保健產品市場,極具市場開發潛力

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超臨界流體微脂體粉末成形技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 100~500nm微脂體粒徑 | 潛力預估: 水溶性或油溶性微脂體傳輸系統產品20億元/?年

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非線形切割方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I426058 | 專利期間起: 118/01/05 | 專利期間訖: 本發明提供一種非線形切割方法,首先將待切割工件固定在一切割平台上,接著於該待切割工件的一切割路徑上噴覆冷卻媒介,以形成一蓋覆該切割路徑上之預定作用區的披覆膜,再將輻射光聚焦於該待切割工件對應於切割路徑... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 林國偉 | 李國正 | 莊仁和 | 陳民勳 | 楊勝仲

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非線形切割機構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I439431 | 專利期間起: 118/11/05 | 專利期間訖: 本發明提供一種非線形切割方法,首先將待切割工件固定在一切割平台上,接著於該待切割工件的一切割路徑上噴覆冷卻媒介,以形成一蓋覆該切割路徑上之預定作用區的披覆膜,再將輻射光聚焦於該待切割工件對應於切割路徑... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 林國偉 | 李國正 | 莊仁和 | 陳民勳 | 楊勝仲

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無縫膠囊製備系統技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 1.爆漿果汁球製造,粒徑6-8㎜ 2.果汁球殼材:褐藻膠 | 潛力預估: 1.無縫膠囊包覆系統技術轉移給食品業者,可以開發爆漿果汁球或者有料包覆珍珠,具市場性和話題性,值得推廣開發 2.學界有類似的研究,用以製成清潔衛生用品,投入適當研究可以延伸許多不同的應用

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素食殼材包覆無縫膠囊製程技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 1.室溫下包覆 2.膠囊粒徑3-7mm | 潛力預估: 可包覆高單價植物油如月見草油(omega-3)、微藻油(DHA),或水溶性活性成分如乳酸菌、多醣體等。預估產值1億/年以上。

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滴丸成形設備技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 粒徑約3~4mm | 潛力預估: 滴丸劑是新興的熱門劑型,特別是保健產品市場,極具市場開發潛力

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超臨界流體微脂體粉末成形技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值化食品機械與中間工廠推動計畫 | 領域: | 技術規格: 100~500nm微脂體粒徑 | 潛力預估: 水溶性或油溶性微脂體傳輸系統產品20億元/?年

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非線形切割方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I426058 | 專利期間起: 118/01/05 | 專利期間訖: 本發明提供一種非線形切割方法,首先將待切割工件固定在一切割平台上,接著於該待切割工件的一切割路徑上噴覆冷卻媒介,以形成一蓋覆該切割路徑上之預定作用區的披覆膜,再將輻射光聚焦於該待切割工件對應於切割路徑... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 林國偉 | 李國正 | 莊仁和 | 陳民勳 | 楊勝仲

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非線形切割機構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I439431 | 專利期間起: 118/11/05 | 專利期間訖: 本發明提供一種非線形切割方法,首先將待切割工件固定在一切割平台上,接著於該待切割工件的一切割路徑上噴覆冷卻媒介,以形成一蓋覆該切割路徑上之預定作用區的披覆膜,再將輻射光聚焦於該待切割工件對應於切割路徑... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 智慧手持裝置核心技術攻堅計畫 | 專利發明人: 林國偉 | 李國正 | 莊仁和 | 陳民勳 | 楊勝仲

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與二氧化碳供應系統同分類的技術司專利資料集

靜電式驅動之微繼電器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198718 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 王欽宏 | 陳振頤 | 房佩怡

形成頂閘極型薄膜電晶體元件的方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198717 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強 | 莊景桑 | 張鈞傑

自組裝奈米導電凸塊及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200159 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 汪若蕙 | 陳裕華

貼合材料層於透明基板上的方法以及形成單晶矽層於透明基板的方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200277 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥 | 李啟聖 | 黃順發 | 張榮芳 | 許財源 | 胡文智 | 王亮棠

動態影像灰階檢測方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200272 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊

微針頭陣列製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206641 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 郭仕奇 | 陳相甫

液晶顯示器畫素電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 197257 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林展瑞 | 王博文 | 陳尚立

移動式微流體切換裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195345 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 龐紹華 | 王美雅 | 楊宏仁

奈米碳管電子源場發射電流增益製程

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223308 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 | 何家充 | 張悠揚

液晶顯示器製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206664 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 賴志明 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 辛隆賓 | 黃良瑩 | 詹景翔 | 鄭功龍 | 劉仕賢

電泳顯示器之製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206722 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 陳明道 | 劉康弘 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 賴志明 | 許家榮 | 范揚宜

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223259 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6791887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥

具有支撐柱結構閘極板之場發射顯示器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220263 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 蕭名君 | 林偉義 | 張悠揚 | 王右武

陣列式電感

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 240666 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達 | 李明林

靜電式驅動之微繼電器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198718 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 王欽宏 | 陳振頤 | 房佩怡

形成頂閘極型薄膜電晶體元件的方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198717 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強 | 莊景桑 | 張鈞傑

自組裝奈米導電凸塊及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200159 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 汪若蕙 | 陳裕華

貼合材料層於透明基板上的方法以及形成單晶矽層於透明基板的方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200277 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥 | 李啟聖 | 黃順發 | 張榮芳 | 許財源 | 胡文智 | 王亮棠

動態影像灰階檢測方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200272 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊

微針頭陣列製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206641 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 郭仕奇 | 陳相甫

液晶顯示器畫素電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 197257 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林展瑞 | 王博文 | 陳尚立

移動式微流體切換裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195345 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 龐紹華 | 王美雅 | 楊宏仁

奈米碳管電子源場發射電流增益製程

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223308 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 | 何家充 | 張悠揚

液晶顯示器製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206664 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 賴志明 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 辛隆賓 | 黃良瑩 | 詹景翔 | 鄭功龍 | 劉仕賢

電泳顯示器之製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206722 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 陳明道 | 劉康弘 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 賴志明 | 許家榮 | 范揚宜

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223259 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6791887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥

具有支撐柱結構閘極板之場發射顯示器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220263 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 蕭名君 | 林偉義 | 張悠揚 | 王右武

陣列式電感

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 240666 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達 | 李明林

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