具有電源閘控功能之繪圖處理系統及電源閘控方法，及其電腦程式產品
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文具有電源閘控功能之繪圖處理系統及電源閘控方法，及其電腦程式產品的核准國家是美國, 證書號碼是US8,570,332B2, 專利期間起是41576, 專利期間訖是48302, 專利性質是發明, 執行單位是資策會, 產出年度是103, 計畫名稱是資策會創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是鄭育鎔.

序號	14627
產出年度	103
領域別	智慧科技
專利名稱-中文	具有電源閘控功能之繪圖處理系統及電源閘控方法，及其電腦程式產品
執行單位	資策會
產出單位	資策會
計畫名稱	資策會創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	鄭育鎔
核准國家	美國
獲證日期	41576
證書號碼	US8,570,332B2
專利期間起	41576
專利期間訖	48302
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種電源閘控方法，適用於一繪圖處理單元，其中，該繪圖處理單元具有一統合著色器單元，且該統合著色器單元包括複數之著色器。
技術摘要-英文	The invention relates to a power-gating control method for a graphics processing unit having a unified shader unit, which includes a plurality of shaders. The method includes the steps of: rendering a plurality of previous frames; calculating a first number of active shaders for rendering each previous frame, and a corresponding frame rate of each previous frame; determining a second number of active shaders for rendering a next frame immediately following the previous frame according to the first number of active shaders and the corresponding frame rate of each previous frame; and activating corresponding shaders through one or more power-gating control elements according to the second number of active shaders.
聯絡人員	鄭育鎔
電話	(02)6607-3688
傳真	(02)6607-3511
電子信箱	appleman@iii.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

14627

產出年度

103

領域別

智慧科技

專利名稱-中文

具有電源閘控功能之繪圖處理系統及電源閘控方法，及其電腦程式產品

執行單位

資策會

產出單位

資策會

計畫名稱

資策會創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

鄭育鎔

核准國家

美國

獲證日期

41576

證書號碼

US8,570,332B2

專利期間起

41576

專利期間訖

48302

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種電源閘控方法，適用於一繪圖處理單元，其中，該繪圖處理單元具有一統合著色器單元，且該統合著色器單元包括複數之著色器。

技術摘要-英文

The invention relates to a power-gating control method for a graphics processing unit having a unified shader unit, which includes a plurality of shaders. The method includes the steps of: rendering a plurality of previous frames; calculating a first number of active shaders for rendering each previous frame, and a corresponding frame rate of each previous frame; determining a second number of active shaders for rendering a next frame immediately following the previous frame according to the first number of active shaders and the corresponding frame rate of each previous frame; and activating corresponding shaders through one or more power-gating control elements according to the second number of active shaders.

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鄭育鎔

電話

(02)6607-3688

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appleman@iii.org.tw

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具有電源閘控功能之繪圖處理系統及電源閘控方法，及其電腦程式產品(中華民國)‧GRAPHICS PROCESSING SYSTEM WITH POWER-GATING FUNCTION, POWER-G...

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Rich Media Engine軟硬體整合技術

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具有電源閘控功能之繪圖處理系統及電源閘控方法，及其電腦程式產品(中華民國)‧GRAPHICS PROCESSING SYSTEM WITH POWER-GATING FUNCTION, POWER-G...

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Rich Media Engine軟硬體整合技術

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動態影像之動作轉移方法與系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明I356355 \| 專利期間起: 40919 \| 專利期間訖: 46723 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林奕成、彭任右、趙瑞祥、鄭育鎔 @ 技術司專利資料集
具電源閘控功能的繪圖處理系統及方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 第1020722號 \| 專利期間起: 41129 \| 專利期間訖: 47274 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 楊佳玲、王柏翰、鄭育鎔 @ 技術司專利資料集
可預先儲存產生3D影像自我遮蔽陰影所需的資訊之裝置、方法、應用程式及電腦可讀取記錄媒體	核准國家: 韓國 \| 證書號碼: 10-0888528 \| 專利期間起: 39877 \| 專利期間訖: 46488 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 98 \| 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄭育鎔、劉育碩、莊榮宏 @ 技術司專利資料集
可預先儲存產生3D影像自我遮蔽陰影所需的資訊之裝置、方法、應用程式及電腦可讀取記錄媒體(中華民國)	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明I322392 \| 專利期間起: 40258 \| 專利期間訖: 46369 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 劉育碩、莊榮宏、鄭育鎔 @ 技術司專利資料集
可預存產生3D影像自我遮蔽陰影所需信息之裝置及方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: 第622869號 \| 專利期間起: 40317 \| 專利期間訖: 46380 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 嵌入式軟體核心平台技術計畫 \| 專利發明人: 劉育碩、莊榮宏、鄭育鎔 @ 技術司專利資料集
可預先儲存產生3D影像自我遮蔽陰影所需的資訊之裝置、方法、應用程式及電腦可讀取記錄媒體(日本)	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 特許第4658993號 \| 專利期間起: 40550 \| 專利期間訖: 46494 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 劉育碩、莊榮宏、鄭育鎔 @ 技術司專利資料集
APPARATUS, METHOD, AND COMPUTER READABLE MEDIUM THEREOF CAPABLE OF PRE-STORING DATA FOR GENERATING S...	核准國家: 美國 \| 證書號碼: US7,936,351B2 \| 專利期間起: 40666 \| 專利期間訖: 47282 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 嵌入式系統軟體平台技術開發計畫 \| 專利發明人: 劉育碩、莊榮宏、鄭育鎔 @ 技術司專利資料集

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先進shader人機介面與開發工具	執行單位: 資策會 \| 產出年度: 100 \| 產出單位: 資策會 \| 計畫名稱: 嵌入式系統軟體平台技術開發計畫 \| 領域: 電資通光 \| 技術規格: 1). support JSR297 functions and Java interface。 2).可編輯material effect與post-processing effect的Conten... \| 潛力預估: 1).目前我國廠商多未投入shader-based 3D的技術; HTC則開始積極投入。 2).目前國際上的UI engine解決方案在shader部分的支援都屬簡易的層次。 3). Android ... @ 技術司可移轉技術資料集
Web App平臺繪圖加速引擎	執行單位: 資策會 \| 產出年度: 101 \| 產出單位: 資策會 \| 計畫名稱: 智慧終端軟體暨聯網電視發展平台研發計畫 \| 領域: 其他 \| 技術規格: 1.應用GPU加速Canvas繪製 2.應用GPU加速Composition處理 3.支援WebGL \| 潛力預估: HTML5 Web App將成為edutainment主要的應用程式格式 @ 技術司可移轉技術資料集
多層次模擬動畫布面的系統、方法與記錄媒體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明I355619 \| 專利期間起: 40909 \| 專利期間訖: 46724 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 紀佳吟、祝琪、施仁忠、林維德 @ 技術司專利資料集
多層次模擬動畫布面的系統、方法與記錄媒體	核准國家: 美國 \| 證書號碼: US8,115,771B2 \| 專利期間起: 40953 \| 專利期間訖: 47830 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 資策會 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 資策會創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 紀佳吟、祝琪、施仁忠、林維德 @ 技術司專利資料集

先進shader人機介面與開發工具

執行單位: 資策會 | 產出年度: 100 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 嵌入式系統軟體平台技術開發計畫 | 領域: 電資通光 | 技術規格: 1). support JSR297 functions and Java interface。 2).可編輯material effect與post-processing effect的Conten... | 潛力預估: 1).目前我國廠商多未投入shader-based 3D的技術; HTC則開始積極投入。 2).目前國際上的UI engine解決方案在shader部分的支援都屬簡易的層次。 3). Android ...

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Web App平臺繪圖加速引擎

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多層次模擬動畫布面的系統、方法與記錄媒體

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多層次模擬動畫布面的系統、方法與記錄媒體

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姓名鄭育鎔找到的公司登記或商業登記

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公司地址	負責人	統一編號	狀態
智境互動整合顧問有限公司宜蘭縣員山鄉大湖路19號	鄭育鎔	94156027	核准設立

智境互動整合顧問有限公司

登記地址: 宜蘭縣員山鄉大湖路19號 | 負責人: 鄭育鎔 | 統編: 94156027 | 核准設立

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觸變成型原材料的製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207120 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 范元昌, 陳俊沐, 蘇健忠, 楊智超
產生偏極化光源之導光模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201788 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡明郎, 溫俊祥, 郭惠隆, 黃國棟, 吳耀庭, 胡應強, 李世光, 余良彬, 陳品誠, 劉安順
具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I223103 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 丘至和, 郭惠隆, 劉怡君, 陳品誠
多孔性材料在陶瓷基板上平坦化	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,667,072 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 廖聖茹, 張懷祿, 洪松慰, 黃瑞呈
自組成奈米介面結構在電子元件的應用	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194413 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 廖聖茹, 盧榮宏, 張懷祿, 陳炯雄, 黃依蘋, 周裕福, 潘浩然
場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I221624 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 周有偉, 葉國光, 戴椿河, 張志銘
微米針頭陣列製造方法及其結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194421 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩
薄膜之低溫成長方法與設備	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200889 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 彭成鑑, 陳豐彥
薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198451 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東
具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224079 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳一誠, 曾永寬, 林澤勝
平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224891 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 戴建雄, 邢泰剛, 田慶成, 李耀東
積體化薄膜被動元件之製造方法及其結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195323 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張宏宜, 鄭世裕, 許清淵
製造含有多數個被動元件之單一積體化元件的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,737,282 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄭世裕, 陳雲田
一種具有多階反射率的可覆寫相變化型光記錄媒體結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220521 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 方敦盈, 曾美榕, 鄧明人, 蔡松雨
超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220522 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 曾美榕, 徐偉智, 蔡松雨, 鄧明人

具有電源閘控功能之繪圖處理系統及電源閘控方法，及其電腦程式產品 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

序號

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專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

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