滾珠軸承噪音診斷技術
- 技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文滾珠軸承噪音診斷技術的執行單位是車輛中心, 產出年度是96, 計畫名稱是車輛驗證與技術整合應用三年計畫, 技術規格是1.單通道滾珠軸承振動訊號輸入_x000D_2.低頻 0~300Hz_x000D_3.中頻 300~600Hz_x000D_4.高頻 600~1800Hz_x000D_5.具備故障滾珠/內環/外環/保持器等元件之缺陷判定功能, 潛力預估是軸承製造廠商適用.

序號2280
產出年度96
技術名稱-中文滾珠軸承噪音診斷技術
執行單位車輛中心
產出單位(空)
計畫名稱車輛驗證與技術整合應用三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文目前國內軸承生產之精度缺乏分級檢驗能量,本技術針對滾珠軸承生產過程之品質檢驗,以頻譜分析訊號判別軸承品質良宥,作為軸承品質分級之客觀判定工具。本技術搭配軸承振動試驗機及量測分析軟體,將運轉過程所量測之振動訊號,依低頻、中頻、高頻分別建立品質分級指標,並針對軸承內環、外環、滾珠、保持器等部件若有缺陷所對應之特徵頻率,建立缺陷判斷指標,可準確呈現軸承組裝品質與振動噪音特性。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1.單通道滾珠軸承振動訊號輸入_x000D_2.低頻 0~300Hz_x000D_3.中頻 300~600Hz_x000D_4.高頻 600~1800Hz_x000D_5.具備故障滾珠/內環/外環/保持器等元件之缺陷判定功能
技術成熟度雛型
可應用範圍本技術應用於軸承生產線之快速品檢與精度篩選,亦可協助軸承開發過程之振動噪音特性驗證,以及軸承安裝至實際機械運轉之故障監控。
潛力預估軸承製造廠商適用
聯絡人員潘國良
電話04-7811222#7316
傳真04-7811666
電子信箱jove@artc.org.tw
參考網址http://www.artc.org.tw
所須軟硬體設備軸承動態試驗機台_x000D_電腦含音效卡,作業系統 Windows XP
需具備之專業人才聲學、結構振動相關背景

序號

2280

產出年度

96

技術名稱-中文

滾珠軸承噪音診斷技術

執行單位

車輛中心

產出單位

(空)

計畫名稱

車輛驗證與技術整合應用三年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

目前國內軸承生產之精度缺乏分級檢驗能量,本技術針對滾珠軸承生產過程之品質檢驗,以頻譜分析訊號判別軸承品質良宥,作為軸承品質分級之客觀判定工具。本技術搭配軸承振動試驗機及量測分析軟體,將運轉過程所量測之振動訊號,依低頻、中頻、高頻分別建立品質分級指標,並針對軸承內環、外環、滾珠、保持器等部件若有缺陷所對應之特徵頻率,建立缺陷判斷指標,可準確呈現軸承組裝品質與振動噪音特性。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

1.單通道滾珠軸承振動訊號輸入_x000D_2.低頻 0~300Hz_x000D_3.中頻 300~600Hz_x000D_4.高頻 600~1800Hz_x000D_5.具備故障滾珠/內環/外環/保持器等元件之缺陷判定功能

技術成熟度

雛型

可應用範圍

本技術應用於軸承生產線之快速品檢與精度篩選,亦可協助軸承開發過程之振動噪音特性驗證,以及軸承安裝至實際機械運轉之故障監控。

潛力預估

軸承製造廠商適用

聯絡人員

潘國良

電話

04-7811222#7316

傳真

04-7811666

電子信箱

jove@artc.org.tw

參考網址

http://www.artc.org.tw

所須軟硬體設備

軸承動態試驗機台_x000D_電腦含音效卡,作業系統 Windows XP

需具備之專業人才

聲學、結構振動相關背景

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機車引擎動態噪音改善

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛研測關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 適用引擎最大馬力 < 100kW, 最高轉速 < 8000rpm;STSF 噪音源診斷頻率 300-3000Hz;引擎操作條件: 急加速/定速;結構模態測試: Free-Free, validatio... | 潛力預估: 04-7811222*7316

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小型車振動噪音性能指標測試技術

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛驗證與技術整合應用三年計畫 | 領域: | 技術規格: 車速範圍 0~140km/hr引擎轉速 0~8000 rpm最大通道數≦48頻率範圍≦20KHz車用電源:14VDC作業平台: Windows XP Professional | 潛力預估: 汽、機車整車開發均可應用

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結構模態測試與分析技術(實驗與有限元素分析)

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛驗證與技術整合應用三年計畫 | 領域: | 技術規格: 最高4個同步獨立激振源入力_x000D_三軸向加速規10顆以上_x000D_有限元模型100萬自由度以內 | 潛力預估: 汽、機車或機械領域相關產品開發均可應用

@ 技術司可移轉技術資料集

輪胎噪音檢測技術(含輛胎單體與實車滑行噪音測試)

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛驗證與技術整合應用三年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.輪胎單體測試_x000D_最高負載 | 潛力預估: 輪胎廠/整車廠/道路工程廠商

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衝擊音堅實度音質參數之建立方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 205185 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 車輛研測關鍵技術發展三年計畫 | 專利發明人: 潘國良 | 林峰仰 | 鄭志鈞 | 吳豐泰 | 楊國偉

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汽車關門音發聲機構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220943 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 車輛研測關鍵技術發展三年計畫 | 專利發明人: 林峰仰 | 潘國良

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機車引擎動態噪音改善

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛研測關鍵技術發展三年計畫 | 領域: | 技術規格: 適用引擎最大馬力 < 100kW, 最高轉速 < 8000rpm;STSF 噪音源診斷頻率 300-3000Hz;引擎操作條件: 急加速/定速;結構模態測試: Free-Free, validatio... | 潛力預估: 04-7811222*7316

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小型車振動噪音性能指標測試技術

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛驗證與技術整合應用三年計畫 | 領域: | 技術規格: 車速範圍 0~140km/hr引擎轉速 0~8000 rpm最大通道數≦48頻率範圍≦20KHz車用電源:14VDC作業平台: Windows XP Professional | 潛力預估: 汽、機車整車開發均可應用

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結構模態測試與分析技術(實驗與有限元素分析)

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛驗證與技術整合應用三年計畫 | 領域: | 技術規格: 最高4個同步獨立激振源入力_x000D_三軸向加速規10顆以上_x000D_有限元模型100萬自由度以內 | 潛力預估: 汽、機車或機械領域相關產品開發均可應用

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輪胎噪音檢測技術(含輛胎單體與實車滑行噪音測試)

執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 96 | 產出單位: | 計畫名稱: 車輛驗證與技術整合應用三年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.輪胎單體測試_x000D_最高負載 | 潛力預估: 輪胎廠/整車廠/道路工程廠商

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衝擊音堅實度音質參數之建立方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 205185 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 車輛研測關鍵技術發展三年計畫 | 專利發明人: 潘國良 | 林峰仰 | 鄭志鈞 | 吳豐泰 | 楊國偉

@ 技術司專利資料集

汽車關門音發聲機構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220943 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 車輛研測關鍵技術發展三年計畫 | 專利發明人: 林峰仰 | 潘國良

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微機電共用晶片

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 3 poly-silicon 1 Metal | 潛力預估: 微機電面型微加工標準製程

無線生理訊號感測模組設計技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 類比訊號處理所需之電路設計技術_x000D_(3) | 潛力預估: (1) 無線訊號傳輸平台:Antenna Factor: 10dB、Reader: USB/RS-232/LCD Interface、RFID Frequency: 433 MHz / 915MHz、...

厚膜光阻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 正光阻 : 光阻厚度 ~ 60um, 深寬比~3;負光阻 : 光阻厚度~ 800um, 深寬比~30 | 潛力預估: 成本低、製程簡單之高深寬比結構。

利用單晶矽之反應性蝕刻與金屬化等製程製作微機電元件

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ;深寬比 > 3 | 潛力預估: 製程簡單、成本低、一道光罩,CMOS製程相容。

低應力薄膜製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: SIN Film Stress | 潛力預估: 穩定可量產

矽晶片濕蝕刻精密對準製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩(error<0.2度)。 | 潛力預估: 本製程可提升產品良率,降低生產成本

微氣體感測器

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 規格Specification:Chip Material 、Silicon、Thick Film Material 、TinOxide、Driving Voltage 、 | 潛力預估: 應用微機電製程製作氣體感測器

矽晶片蝕穿技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um_x000D_; 蝕刻率 > 4 um/min_x000D_;蝕刻垂直度 > 89度;深寬比 > 30 | 潛力預估: 最小蝕穿噴孔20um(比雷射加工50 um要小很多);深寬比可達20。

矽晶深蝕刻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Etching depth: 10~300um_x000D_;Etching rate: 1~3um/min | 潛力預估: 微機電系統與元件應用上常需要數百um深或高深寬比結構,本製程技術為其解決方法。

低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ;薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 製程簡單、與電路整合性高等優勢成本低。

無鉛製程技術資訊平台建立

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 對於無鉛驗證標準工作之努力可從產業服務、無鉛技術輔導及可靠度驗證說明:無鉛定義(未刻意添加下,材料、鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%,鹵素含量小於900ppm)、產品定點含鉛量檢測(取樣標準與定點定義... | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用有鉛銲錫之電子類產品,諸如伺服器與工作站、桌上型電腦,筆記型電腦、主機板、消...

基板內藏元件整合設計與模型庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作頻段:2.4GHz;新材料(εr≧38 | 潛力預估: 基板材料業、電路板製造業、電子構裝業、系統組裝業和通訊系統業...等

射頻內藏被動元件之模型程式庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Specification of Embedded inductor and Embedded capacitor (Frequency 6GHz) _x000D_ITEM Specificati... | 潛力預估: 基板內藏被動元件,可以取代傳統SMD元件,市場上具有龐大的商業潛力,依據市場知名市調公司PRISMARK預估,西元2006年內藏被動元件需求約佔整體被動元件10%以上,商機需求逐年擴增;且係通訊產品高...

3D基板式堆疊構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Through-Si方式達成晶片與晶片間之訊號傳遞_x000D_;一步成型式導通孔技術 | 潛力預估: 藉著3D堆疊構裝的發展,除了能將記憶體在電路板上所佔的面積大幅縮小, 提升電子產品縮小化的效率外,更能將原本功能不同的晶片整合在同一構裝模組中,而以最有效益的方式,達到System in Packa...

迴路型熱管散熱技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 蒸發端區域與冷凝端區域:45×45×3 mm (依據散_x000D_熱需求增大或縮小);傳輸距離30 cm | 潛力預估: 以真空硬銲方式接合,外觀與強度符合所需,蒸發端與冷凝端均為平面構造,易與熱源及散熱裝置接合_x000D_與Thermacore產品/Therma-Loop技術同步

微機電共用晶片

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 3 poly-silicon 1 Metal | 潛力預估: 微機電面型微加工標準製程

無線生理訊號感測模組設計技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 類比訊號處理所需之電路設計技術_x000D_(3) | 潛力預估: (1) 無線訊號傳輸平台:Antenna Factor: 10dB、Reader: USB/RS-232/LCD Interface、RFID Frequency: 433 MHz / 915MHz、...

厚膜光阻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 正光阻 : 光阻厚度 ~ 60um, 深寬比~3;負光阻 : 光阻厚度~ 800um, 深寬比~30 | 潛力預估: 成本低、製程簡單之高深寬比結構。

利用單晶矽之反應性蝕刻與金屬化等製程製作微機電元件

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ;深寬比 > 3 | 潛力預估: 製程簡單、成本低、一道光罩,CMOS製程相容。

低應力薄膜製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: SIN Film Stress | 潛力預估: 穩定可量產

矽晶片濕蝕刻精密對準製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩(error<0.2度)。 | 潛力預估: 本製程可提升產品良率,降低生產成本

微氣體感測器

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 規格Specification:Chip Material 、Silicon、Thick Film Material 、TinOxide、Driving Voltage 、 | 潛力預估: 應用微機電製程製作氣體感測器

矽晶片蝕穿技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um_x000D_; 蝕刻率 > 4 um/min_x000D_;蝕刻垂直度 > 89度;深寬比 > 30 | 潛力預估: 最小蝕穿噴孔20um(比雷射加工50 um要小很多);深寬比可達20。

矽晶深蝕刻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Etching depth: 10~300um_x000D_;Etching rate: 1~3um/min | 潛力預估: 微機電系統與元件應用上常需要數百um深或高深寬比結構,本製程技術為其解決方法。

低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ;薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 製程簡單、與電路整合性高等優勢成本低。

無鉛製程技術資訊平台建立

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 對於無鉛驗證標準工作之努力可從產業服務、無鉛技術輔導及可靠度驗證說明:無鉛定義(未刻意添加下,材料、鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%,鹵素含量小於900ppm)、產品定點含鉛量檢測(取樣標準與定點定義... | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用有鉛銲錫之電子類產品,諸如伺服器與工作站、桌上型電腦,筆記型電腦、主機板、消...

基板內藏元件整合設計與模型庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 工作頻段:2.4GHz;新材料(εr≧38 | 潛力預估: 基板材料業、電路板製造業、電子構裝業、系統組裝業和通訊系統業...等

射頻內藏被動元件之模型程式庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Specification of Embedded inductor and Embedded capacitor (Frequency 6GHz) _x000D_ITEM Specificati... | 潛力預估: 基板內藏被動元件,可以取代傳統SMD元件,市場上具有龐大的商業潛力,依據市場知名市調公司PRISMARK預估,西元2006年內藏被動元件需求約佔整體被動元件10%以上,商機需求逐年擴增;且係通訊產品高...

3D基板式堆疊構裝技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Through-Si方式達成晶片與晶片間之訊號傳遞_x000D_;一步成型式導通孔技術 | 潛力預估: 藉著3D堆疊構裝的發展,除了能將記憶體在電路板上所佔的面積大幅縮小, 提升電子產品縮小化的效率外,更能將原本功能不同的晶片整合在同一構裝模組中,而以最有效益的方式,達到System in Packa...

迴路型熱管散熱技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 蒸發端區域與冷凝端區域:45×45×3 mm (依據散_x000D_熱需求增大或縮小);傳輸距離30 cm | 潛力預估: 以真空硬銲方式接合,外觀與強度符合所需,蒸發端與冷凝端均為平面構造,易與熱源及散熱裝置接合_x000D_與Thermacore產品/Therma-Loop技術同步

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