用于納米轉印的平行度調整裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文用于納米轉印的平行度調整裝置的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL03257537.8, 專利性質是新型, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫, 專利發明人是陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮.

序號	968
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	用于納米轉印的平行度調整裝置
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人	陳明祈 \| 馮文宏 \| 陳釧鋒 \| 許嘉峻 \| 林家弘 \| 鍾永鎮
核准國家	中國大陸
獲證日期	(空)
證書號碼	ZL03257537.8
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	新型
技術摘要-中文	一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	賴麗惠
電話	03-5915788
傳真	(空)
電子信箱	LHL@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

968

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

用于納米轉印的平行度調整裝置

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫

專利發明人

陳明祈 | 馮文宏 | 陳釧鋒 | 許嘉峻 | 林家弘 | 鍾永鎮

核准國家

中國大陸

獲證日期

(空)

證書號碼

ZL03257537.8

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

新型

技術摘要-中文

一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

賴麗惠

電話

03-5915788

傳真

(空)

電子信箱

LHL@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

根據識別碼 ZL03257537.8 找到的相關資料

無其他 ZL03257537.8 資料。

[ 搜尋所有 ZL03257537.8 ... ]

根據名稱用于納米轉印的平行度調整裝置找到的相關資料

無其他用于納米轉印的平行度調整裝置資料。

[ 搜尋所有 用于納米轉印的平行度調整裝置 ... ]

根據姓名陳明祈馮文宏陳釧鋒許嘉峻林家弘鍾永鎮找到的相關資料

(以下顯示 5 筆) (或要:直接搜尋所有 陳明祈馮文宏陳釧鋒許嘉峻林家弘鍾永鎮 ...)

用於奈米轉印之平行度調整裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 96 \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳明祈馮文宏陳釧鋒許嘉峻林家弘鍾永鎮 @ 技術司專利資料集
用於奈米轉印之平行度調整裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 217025 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳明祈 \| 馮文宏 \| 陳釧鋒 \| 許嘉峻 \| 林家弘 \| 鍾永鎮 @ 技術司專利資料集
用於奈米轉印之均勻施壓裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 95 \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鍾永鎮 \| 林家弘 \| 許嘉峻 \| 陳釧鋒 \| 馮文宏 \| 陳明祈 @ 技術司專利資料集
用于納米轉印的均勻施壓裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL03257536.X \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鍾永鎮 \| 林家弘 \| 許嘉峻 \| 陳釧鋒 \| 馮文宏 \| 陳明祈 @ 技術司專利資料集
用於奈米轉印之均勻施壓裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 217875 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鍾永鎮 \| 林家弘 \| 許嘉峻 \| 陳釧鋒 \| 馮文宏 \| 陳明祈 @ 技術司專利資料集

根據電話 03-5915788 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5915788 ...)

無間隙3-D微結構陣列模仁之製程	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201594 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林坤龍 \| 周敏傑 \| 潘正堂 @ 技術司專利資料集
無間隙3-D微結構陣列模仁之製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,746,823 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林坤龍 \| 周敏傑 \| 潘正堂 @ 技術司專利資料集
降低鎳基合金鍍層內應力之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6699379 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 柯世宗 \| 李仁智 \| 葛明德 \| 王樂民 \| 宋鈺 \| 楊詔中 \| 黃雅如 @ 技術司專利資料集
球形工件加工裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 211484 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林衛助 \| 蔡坤龍 @ 技術司專利資料集
物件與膠膜分離之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194407 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉俊賢 \| 黃國興 \| 徐嘉彬 \| 洪嘉宏 @ 技術司專利資料集
可三維即時修正之尋光方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188264 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 周甘霖 \| 李閔凱 @ 技術司專利資料集
隔膜閥	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 218453 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林春宏 \| 蔡陳德 \| 吳錦清 \| 何榮振 \| 王漢聰 @ 技術司專利資料集
二片式繞射/折射複合型成像系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220699 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 傅春能 \| 林宗信 \| 林信義 \| 陸懋宏 \| 徐得銘 @ 技術司專利資料集

無間隙3-D微結構陣列模仁之製程

@ 技術司專利資料集

無間隙3-D微結構陣列模仁之製程

@ 技術司專利資料集

降低鎳基合金鍍層內應力之方法

@ 技術司專利資料集

球形工件加工裝置

@ 技術司專利資料集

物件與膠膜分離之方法

@ 技術司專利資料集

可三維即時修正之尋光方法

@ 技術司專利資料集

隔膜閥

@ 技術司專利資料集

二片式繞射/折射複合型成像系統

@ 技術司專利資料集

[ 搜尋所有 03-5915788 ... ]

在『技術司專利資料集』資料集內搜尋:

與用于納米轉印的平行度調整裝置同分類的技術司專利資料集

具凸起結構之多域配向液晶顯示器	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6747727 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達
正向修補型之薄膜電晶體液晶顯示裝置以及正向修補方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6714269 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃庭輝
低漏光及低訊號線阻值之IPS-TFT 陣列設計	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185400 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張世昌 \| 陳志宏 \| 劉秉德
配備平坦電極的平面螢光燈及其組裝方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6639351 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡光隆 \| 樊雨心 \| 林介清 \| 許量魁
一種整合影像感測器及液晶顯示器的主動矩陣陣列及其半導體裝置結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185401 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 吳逸蔚
用在真空顯示面板之吸氣劑總成	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195740 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李正中 \| 簡瑞峰
多域分割垂直配向液晶顯示器的結構及其凸塊結構的製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185419 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 劉鴻達
微型生物培養裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188117 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 \| 專利發明人: 姚南光 \| 翁國曜
微流體導引裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6743636 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂 \| 張為傑 \| 蕭价伶 \| 翁國曜
矩陣式生物晶片檢測系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201949 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪隆裕
微流體致動器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201207 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 \| 專利發明人: 韋雅各
具錯誤偵測暨更正功能之液晶顯示器掃描線驅動電路	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193977 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王博文 \| 陳尚立
一種磊晶基極的雙極性電晶體製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6589849 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 李傳英
一種清洗晶背的方法	核准國家: 奧地利 \| 證書號碼: 412043 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 周維揚 \| 馬慶輝
步階式充放電之低功率液晶顯示器的驅動電路及其驅動方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195737 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳尚立 \| 易建宇

用于納米轉印的平行度調整裝置 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

序號

產出年度

領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

獲證日期

證書號碼

專利期間起

專利期間訖

專利性質

技術摘要-中文

技術摘要-英文

聯絡人員

電話

傳真

電子信箱

參考網址

備註

特殊情形

在『技術司專利資料集』資料集內搜尋:

與用于納米轉印的平行度調整裝置同分類的技術司專利資料集

用于納米轉印的平行度調整裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部