非揮發性記憶體結構及其製造方法
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專利名稱-中文非揮發性記憶體結構及其製造方法的核准國家是美國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是103, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是FREDERICK T. CHEN, 證書號碼是8624218.

序號	13374
產出年度	103
領域別	服務創新
專利名稱-中文	非揮發性記憶體結構及其製造方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院電光所
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	FREDERICK T. CHEN
核准國家	美國
獲證日期	103/01/07
證書號碼	8624218
專利期間起	121/01/09
專利期間訖	本發明提供一種非揮發性記憶體結構及其製造方法。上述非揮發性記憶體結構包括一第一接觸，連接至一第一電晶體；一第二接觸，連接至一第二電晶體；一可變電阻記憶體材料，覆蓋且接觸上述第二接觸而非上述第一接觸；一頂電極，接觸上述可變電阻記憶體材料和上述第一接觸兩者，其中上述可變電阻記憶體材料的面積大體上大於其與上述第二接觸的一界面的面積。
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明提供一種非揮發性記憶體結構及其製造方法。上述非揮發性記憶體結構包括一第一接觸，連接至一第一電晶體；一第二接觸，連接至一第二電晶體；一可變電阻記憶體材料，覆蓋且接觸上述第二接觸而非上述第一接觸；一頂電極，接觸上述可變電阻記憶體材料和上述第一接觸兩者，其中上述可變電阻記憶體材料的面積大體上大於其與上述第二接觸的一界面的面積。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5918064
傳真	03-5917683
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

13374

產出年度

103

領域別

服務創新

專利名稱-中文

非揮發性記憶體結構及其製造方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院電光所

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

FREDERICK T. CHEN

核准國家

美國

獲證日期

103/01/07

證書號碼

8624218

專利期間起

121/01/09

專利期間訖

本發明提供一種非揮發性記憶體結構及其製造方法。上述非揮發性記憶體結構包括一第一接觸，連接至一第一電晶體；一第二接觸，連接至一第二電晶體；一可變電阻記憶體材料，覆蓋且接觸上述第二接觸而非上述第一接觸；一頂電極，接觸上述可變電阻記憶體材料和上述第一接觸兩者，其中上述可變電阻記憶體材料的面積大體上大於其與上述第二接觸的一界面的面積。

專利性質

發明

技術摘要-中文

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5918064

傳真

03-5917683

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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電阻切換式記憶體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 3D積體電路關鍵技術及應用發展計畫 \| 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,蔡銘進 ,陳維恕 ,李亨元 \| 證書號碼: I405331 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
電阻式隨機存取記憶胞以及電阻式隨機存取記憶模組	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,李亨元 ,陳佑昇 \| 證書號碼: 8711601 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
記憶體單元	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: FREDERICK T. CHEN ,李亨元 ,陳佑昇 \| 證書號碼: 8642985 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
記憶體單元之讀取方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: FREDERICK T. CHEN \| 證書號碼: I433153 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
用於多圖案化的減光型相位移光罩	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: FREDERICK T. CHEN \| 證書號碼: 8691478 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
控制方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: 陳佑昇 ,李亨元 ,許雁雅 ,陳邦旭 ,許?之 ,FREDERICK T. CHEN \| 證書號碼: 8817521 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
電阻式記憶胞及其操作方法，以及電阻式記憶體及其操作方法與製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高階手持裝置三維整合應用技術計畫 \| 專利發明人: FREDERICK T. CHEN \| 證書號碼: I453896 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

毫微型基地台中具有應用層閘道支援網路位址轉換的區域網際網路通訊協定存取系統與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 葛達 ,楊人順 ,王瑞堂 ,Shubhranshu Singh ,黃貴笠 \| 證書號碼: I431995 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
微波等離子體激發裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張志振 ,黃昆平 ,謝宇澤 \| 證書號碼: ZL201110065895.3 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
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非接觸式擾動感測裝置	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 趙哲寬 ,吳秉勳 \| 證書號碼: 8665098 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
組播廣播服務區域裡可靠同步裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 郭維翰 ,劉家隆 ,王瑞堂 ,楊人順 \| 證書號碼: I432062 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
認證方法、金鑰分配方法及認證與金鑰分配方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王瑞堂 ,黃貴笠 ,Shubhranshu Singh ,葛達 ,楊人順 \| 證書號碼: I432040 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
注入鎖定除頻器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 103 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張鴻埜 ,葉彥良 ,張家宏 ,陳俊仁 \| 證書號碼: I431943 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

微米針頭陣列製造方法及其結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩 \| 證書號碼: 194421
薄膜之低溫成長方法與設備	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 彭成鑑, 陳豐彥 \| 證書號碼: 200889
薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東 \| 證書號碼: 198451
具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳一誠, 曾永寬, 林澤勝 \| 證書號碼: I224079
平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 戴建雄, 邢泰剛, 田慶成, 李耀東 \| 證書號碼: I224891
積體化薄膜被動元件之製造方法及其結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張宏宜, 鄭世裕, 許清淵 \| 證書號碼: 195323
製造含有多數個被動元件之單一積體化元件的方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄭世裕, 陳雲田 \| 證書號碼: 6,737,282
一種具有多階反射率的可覆寫相變化型光記錄媒體結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 方敦盈, 曾美榕, 鄧明人, 蔡松雨 \| 證書號碼: 220521
超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 曾美榕, 徐偉智, 蔡松雨, 鄧明人 \| 證書號碼: 220522
有機電激發光裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 曾美榕, 劉仲明, 王俊凱, 林顯光 \| 證書號碼: 207098
積層質子交換膜、其製造方法以及包含該積層質子交換膜的直接甲醇進料型燃料電池	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳中屏, 陳振鑾, 施志哲, 陳致源 \| 證書號碼: 195331
氣體感測器及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 魏碧玉, 賴宏仁, 蘇平貴, 吳仁彰, 林鴻明, 孫益陸 \| 證書號碼: 202724
薄膜氣體擴散電極及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李文錦, 周淑金, 葉信宏, 陳冠良, 謝坤龍, 陳銘倫 \| 證書號碼: 190616
增加電荷耦合裝置影像動態範圍之新技術	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 貢振邦, 林子平, 尤智仕 \| 證書號碼: 6,707,499
偵測訊號頻率的類比裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院晶片中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭丁元 \| 證書號碼: 192948

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領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

獲證日期

證書號碼

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