雙軸旋轉件之不平衡量測法
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技術名稱-中文雙軸旋轉件之不平衡量測法的執行單位是中科院軍民通用中心, 產出年度是96, 計畫名稱是機械與運輸領域軍品釋商第二期計畫, 技術規格是待測工件重量:小於20 Kg;雙軸電馬達(伺服或非伺服)驅動;配重結果:10 g-cm以內。, 潛力預估是1.油壓伺服機構、多自由度伺服機構(如機械手臂)、大型雷達基座之平衡配重。_x000D_2.平衡量測系統開發。.

序號2222
產出年度96
技術名稱-中文雙軸旋轉件之不平衡量測法
執行單位中科院軍民通用中心
產出單位(空)
計畫名稱機械與運輸領域軍品釋商第二期計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術係將待測機構置於一量測平台上,以驅動器讓機構旋轉,使量測平台感測待測件重心移動之軌跡,找出機構重心位置。其特點能在不拆裝機構的情形下,分別對兩軸進行重心位置(不平衡量)量測。同時利用電腦以演算法則運算挑選出最佳配重組合,大幅縮短配重平衡人員的作業時間並提升平衡等級。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格待測工件重量:小於20 Kg;雙軸電馬達(伺服或非伺服)驅動;配重結果:10 g-cm以內。
技術成熟度試量產
可應用範圍伺服環架、雙自由度穩定平台、雙自由度雷達基座之平衡配重。
潛力預估1.油壓伺服機構、多自由度伺服機構(如機械手臂)、大型雷達基座之平衡配重。_x000D_2.平衡量測系統開發。
聯絡人員林崇賢
電話03-4712201#352189
傳真03-4713318
電子信箱cyw45450@yahoo.com
參考網址(空)
所須軟硬體設備量測平台機構(外購或自行開發)、電腦、VB軟體、驅動器
需具備之專業人才機械或電子相關背景
同步更新日期2023-07-22

序號

2222

產出年度

96

技術名稱-中文

雙軸旋轉件之不平衡量測法

執行單位

中科院軍民通用中心

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與運輸領域軍品釋商第二期計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本技術係將待測機構置於一量測平台上,以驅動器讓機構旋轉,使量測平台感測待測件重心移動之軌跡,找出機構重心位置。其特點能在不拆裝機構的情形下,分別對兩軸進行重心位置(不平衡量)量測。同時利用電腦以演算法則運算挑選出最佳配重組合,大幅縮短配重平衡人員的作業時間並提升平衡等級。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

待測工件重量:小於20 Kg;雙軸電馬達(伺服或非伺服)驅動;配重結果:10 g-cm以內。

技術成熟度

試量產

可應用範圍

伺服環架、雙自由度穩定平台、雙自由度雷達基座之平衡配重。

潛力預估

1.油壓伺服機構、多自由度伺服機構(如機械手臂)、大型雷達基座之平衡配重。_x000D_2.平衡量測系統開發。

聯絡人員

林崇賢

電話

03-4712201#352189

傳真

03-4713318

電子信箱

cyw45450@yahoo.com

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

量測平台機構(外購或自行開發)、電腦、VB軟體、驅動器

需具備之專業人才

機械或電子相關背景

同步更新日期

2023-07-22

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# 雙軸旋轉件之不平衡量測法 於 經濟部產業技術司–專利資料集

序號3050
產出年度95
領域別(空)
專利名稱-中文雙軸旋轉件之不平衡量測法
執行單位中科院飛彈所
產出單位(空)
計畫名稱光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
專利發明人石世雄、曾文豪、賴俊佑、古佳弘
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I272372
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文(空)
技術摘要-英文(空)
聯絡人員曾世昌
電話03-4712201*352547
傳真03-47111605
電子信箱(空)
參考網址(空)
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 3050
產出年度: 95
領域別: (空)
專利名稱-中文: 雙軸旋轉件之不平衡量測法
執行單位: 中科院飛彈所
產出單位: (空)
計畫名稱: 光電與精密機電系統關鍵技術研究發展三年計畫
專利發明人: 石世雄、曾文豪、賴俊佑、古佳弘
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I272372
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: (空)
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 曾世昌
電話: 03-4712201*352547
傳真: 03-47111605
電子信箱: (空)
參考網址: (空)
備註: 原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
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序號6513
產出年度102
技術名稱-中文具有履帶固定擋板之多功能無人載具
執行單位中科院軍民通用中心
產出單位(空)
計畫名稱機械與運輸領域-軍品科技創新應用與釋商計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本項技術主要在無人陸用載具上,加裝前後兩對輔助輪爪與相關機構,並分別操控,可使無人陸用載具進行跨溝、爬梯與越障功能。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格固定擋板置於傳動履帶外側藉以限制該傳動履帶的滑動方向,因不同地面環境,可分別操控。雛型運動性能:跨溝 70cm以上 ,越障 20cm以上 ,爬梯 15cm以上。並可客製化依據不同需求進行設計。
技術成熟度量產
可應用範圍野機器人、伺服機械等產業
潛力預估進行危險物品夾持,相關技術亦可應用於無人搬運、危險地區偵測、廠區巡防、特殊照護輔具等。
聯絡人員林崇賢
電話03-4712201轉352189
傳真03-4711605
電子信箱cslin@mrsrd.csi.mil.tw
參考網址http://www.csistdup.org.tw/
所須軟硬體設備機械設計套裝軟體、電子電路設計軟體、電子儀具、機械加工機具、表面處理製程能力及控制程式發展軟硬體
需具備之專業人才電子、機械、資訊及控制相關背景
序號: 6513
產出年度: 102
技術名稱-中文: 具有履帶固定擋板之多功能無人載具
執行單位: 中科院軍民通用中心
產出單位: (空)
計畫名稱: 機械與運輸領域-軍品科技創新應用與釋商計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 本項技術主要在無人陸用載具上,加裝前後兩對輔助輪爪與相關機構,並分別操控,可使無人陸用載具進行跨溝、爬梯與越障功能。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 固定擋板置於傳動履帶外側藉以限制該傳動履帶的滑動方向,因不同地面環境,可分別操控。雛型運動性能:跨溝 70cm以上 ,越障 20cm以上 ,爬梯 15cm以上。並可客製化依據不同需求進行設計。
技術成熟度: 量產
可應用範圍: 野機器人、伺服機械等產業
潛力預估: 進行危險物品夾持,相關技術亦可應用於無人搬運、危險地區偵測、廠區巡防、特殊照護輔具等。
聯絡人員: 林崇賢
電話: 03-4712201轉352189
傳真: 03-4711605
電子信箱: cslin@mrsrd.csi.mil.tw
參考網址: http://www.csistdup.org.tw/
所須軟硬體設備: 機械設計套裝軟體、電子電路設計軟體、電子儀具、機械加工機具、表面處理製程能力及控制程式發展軟硬體
需具備之專業人才: 電子、機械、資訊及控制相關背景
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類LIGA電鑄模技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 材質:矽晶格方位 (100) P型(硼參雜) 阻值 1-20 Ωcm 規 格:3.5 mm × 1.7 mm (俯視圖) 接 觸 式懸浮臂長400 ± 10 μm 懸浮臂寬30 ± 5 μm 懸浮臂厚... | 潛力預估: 可應用於背光模組及LED之微透鏡及生物晶片製作,應用潛力高

光纖陣列晶片之V- groove精確蝕刻技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 4、8、16、32、48- channels fiber arrays ‧ fiber to fiber spacing : 250+-1um | 潛力預估: 取決於光通訊市場,未來潛力高

低應力電鑄金屬膜製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸(max.) – Ni - W : 8 cm (W) x 8 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被鍍表面電阻值(max.) : 600Ω | 潛力預估: 可應用於LCD背光膜組之元件製作,潛力高

微氣體感測器

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Item Specification Chip Material Silicon Process Bulk Machining Electrode Material Pt Driving Voltag... | 潛力預估: 潛力中等

原子力顯微探針

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Item Specification Chip Material Silicon Cantilever beam:width 50μm Cantilever beam:length 450μm Can... | 潛力預估: 奈米技術應用,潛力高

平面光波導製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Thickness U% | 潛力預估: 各種光通訊元件及生醫工程之微流道,1*N splitter AWG module,未來發展潛力高

微機電共用晶片

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 3 poly-silicon 1 Metal | 潛力預估: MEMS製程規格不易統一,潛力低

毛細管電泳晶片技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 光學面熱壓模:模具側壁粗糙度,37nm(peak-to-vally),8nm(root meas aquare) 玻璃晶片:濕蝕刻管道寬度,20-50um,深度20um 塑膠晶片:熱壓成型管道寬度,... | 潛力預估: 毛細管電泳晶片最初應用在四色DNA之定序,在人類基因體計劃中證明了此技術的成功應用。此後,微生物晶片之發展便在世界各地展開。以醫療檢驗用晶片為例,2003年之整體銷售額將超越研究用晶片達到2.2億美元...

單石微陣列噴墨晶片技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 將高分子流道與噴孔片直接在具微陣列噴墨加熱器之晶片完成製作 2. 環型加熱器和第二氣泡設計,可提升噴液頻率 | 潛力預估: 針對噴墨頭產業,此製程可提升國內廠商之產品競爭力以提高市場佔有率增進廠商獲利

散熱模組熱阻快速量測系統

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 量測時間在3~5分鐘左右。 2. 量測誤差小2~4%。 3. 一次可同時量測12組 | 潛力預估: 目前市場並無標準之散熱模組熱性能檢測方法,本技術是現今唯一可於3~5分鐘內,精確量測出散熱模組熱性能之方法,並已申請專利。

無線生理訊號感測模組設計技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 無線訊號傳輸平台 Antenna Factor: 10dB Reader: USB/RS-232/LCD Interface RFID Frequency: 433 MHz / 915MHz ... | 潛力預估: 據經濟部工業局研究報告指出,估計1992到2002年全球醫療器材複合年成長率為14.83%,台灣醫療保健產業產值成長率更達18.5%,若我們依美國市場推估,則台灣地區居"家"照護市場規模每年約20~3...

光收發模組構裝技術(1× 2.5G, 4× 2.5G)

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 2.5Gbps SFF Transceiver .850 nm 波長垂直共振腔面射雷射(VCSEL) .2.5Gbps資料傳輸能力.100公尺傳輸距離(62.5/125um多模光纖) .150... | 潛力預估: 對於來勢凶凶的光纖到家(FTTH)市場運用,2.5G SFE Transceiver模組技術正是其所要依賴的技術,也是市場的主流。據IEK的資料顯示,預計2004年全球在FTTH的市場約在520佰萬...

超臨界點抗黏著乾燥技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 元件尺寸:1. maximum. Length | 潛力預估: 面型微加工關鍵技術,但成本高,應用潛力中等

低應力薄膜製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: SIN Film Stress | 潛力預估: 面型微加工重要技術,應用潛力高

矽晶深蝕刻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Etching depth: 10~300um . Etching rate: 1~3um/mi | 潛力預估: 微加工技術重要技術,但成本高,應用潛力中等

類LIGA電鑄模技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 材質:矽晶格方位 (100) P型(硼參雜) 阻值 1-20 Ωcm 規 格:3.5 mm × 1.7 mm (俯視圖) 接 觸 式懸浮臂長400 ± 10 μm 懸浮臂寬30 ± 5 μm 懸浮臂厚... | 潛力預估: 可應用於背光模組及LED之微透鏡及生物晶片製作,應用潛力高

光纖陣列晶片之V- groove精確蝕刻技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 4、8、16、32、48- channels fiber arrays ‧ fiber to fiber spacing : 250+-1um | 潛力預估: 取決於光通訊市場,未來潛力高

低應力電鑄金屬膜製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸(max.) – Ni - W : 8 cm (W) x 8 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被鍍表面電阻值(max.) : 600Ω | 潛力預估: 可應用於LCD背光膜組之元件製作,潛力高

微氣體感測器

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Item Specification Chip Material Silicon Process Bulk Machining Electrode Material Pt Driving Voltag... | 潛力預估: 潛力中等

原子力顯微探針

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Item Specification Chip Material Silicon Cantilever beam:width 50μm Cantilever beam:length 450μm Can... | 潛力預估: 奈米技術應用,潛力高

平面光波導製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Thickness U% | 潛力預估: 各種光通訊元件及生醫工程之微流道,1*N splitter AWG module,未來發展潛力高

微機電共用晶片

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 3 poly-silicon 1 Metal | 潛力預估: MEMS製程規格不易統一,潛力低

毛細管電泳晶片技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 光學面熱壓模:模具側壁粗糙度,37nm(peak-to-vally),8nm(root meas aquare) 玻璃晶片:濕蝕刻管道寬度,20-50um,深度20um 塑膠晶片:熱壓成型管道寬度,... | 潛力預估: 毛細管電泳晶片最初應用在四色DNA之定序,在人類基因體計劃中證明了此技術的成功應用。此後,微生物晶片之發展便在世界各地展開。以醫療檢驗用晶片為例,2003年之整體銷售額將超越研究用晶片達到2.2億美元...

單石微陣列噴墨晶片技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 將高分子流道與噴孔片直接在具微陣列噴墨加熱器之晶片完成製作 2. 環型加熱器和第二氣泡設計,可提升噴液頻率 | 潛力預估: 針對噴墨頭產業,此製程可提升國內廠商之產品競爭力以提高市場佔有率增進廠商獲利

散熱模組熱阻快速量測系統

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 量測時間在3~5分鐘左右。 2. 量測誤差小2~4%。 3. 一次可同時量測12組 | 潛力預估: 目前市場並無標準之散熱模組熱性能檢測方法,本技術是現今唯一可於3~5分鐘內,精確量測出散熱模組熱性能之方法,並已申請專利。

無線生理訊號感測模組設計技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 無線訊號傳輸平台 Antenna Factor: 10dB Reader: USB/RS-232/LCD Interface RFID Frequency: 433 MHz / 915MHz ... | 潛力預估: 據經濟部工業局研究報告指出,估計1992到2002年全球醫療器材複合年成長率為14.83%,台灣醫療保健產業產值成長率更達18.5%,若我們依美國市場推估,則台灣地區居"家"照護市場規模每年約20~3...

光收發模組構裝技術(1× 2.5G, 4× 2.5G)

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 2.5Gbps SFF Transceiver .850 nm 波長垂直共振腔面射雷射(VCSEL) .2.5Gbps資料傳輸能力.100公尺傳輸距離(62.5/125um多模光纖) .150... | 潛力預估: 對於來勢凶凶的光纖到家(FTTH)市場運用,2.5G SFE Transceiver模組技術正是其所要依賴的技術,也是市場的主流。據IEK的資料顯示,預計2004年全球在FTTH的市場約在520佰萬...

超臨界點抗黏著乾燥技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 元件尺寸:1. maximum. Length | 潛力預估: 面型微加工關鍵技術,但成本高,應用潛力中等

低應力薄膜製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: SIN Film Stress | 潛力預估: 面型微加工重要技術,應用潛力高

矽晶深蝕刻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Etching depth: 10~300um . Etching rate: 1~3um/mi | 潛力預估: 微加工技術重要技術,但成本高,應用潛力中等

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