場發射式平面燈源及其陰極板
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文場發射式平面燈源及其陰極板的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是98, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是傅傳旭 ,林炳南 ,林偉義 ,林明宏 ,, 證書號碼是I314334.

序號5411
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文場發射式平面燈源及其陰極板
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人傅傳旭 ,林炳南 ,林偉義 ,林明宏 ,
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I314334
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種陰極板，包括一基板、多個陰極結構、多個閘極結構以及一發射層。陰極結構與閘極結構配置於基板上且為條狀結構。閘極結構與陰極結構彼此平行交錯排列。各陰極結構具有至少一凹槽，而發射層配置於凹槽內。場發射式平面燈源包括前述陰極板、一陽極板以及一密封件。密封件配置於陽極板與陰極板之間，並密封陽極板與陰極板。因為陰極結構上具有凹槽，所以發射層可被準確定位，以提升場發射式平面燈源的發光均勻性。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註20100675-Joanne
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

5411

產出年度

98

領域別

(空)

專利名稱-中文

場發射式平面燈源及其陰極板

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

傅傳旭 ,林炳南 ,林偉義 ,林明宏 ,

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I314334

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種陰極板，包括一基板、多個陰極結構、多個閘極結構以及一發射層。陰極結構與閘極結構配置於基板上且為條狀結構。閘極結構與陰極結構彼此平行交錯排列。各陰極結構具有至少一凹槽，而發射層配置於凹槽內。場發射式平面燈源包括前述陰極板、一陽極板以及一密封件。密封件配置於陽極板與陰極板之間，並密封陽極板與陰極板。因為陰極結構上具有凹槽，所以發射層可被準確定位，以提升場發射式平面燈源的發光均勻性。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

20100675-Joanne

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 場發射式平面燈源及其陰極板 於 經濟部產業技術司–專利資料集

序號5412
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文場發射式平面燈源及其陰極板
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人傅傳旭 ,林炳南 ,林偉義 ,林明宏 ,
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7,602,114
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種陰極板，包括一基板、多個陰極結構、多個閘極結構以及一發射層。陰極結構與閘極結構配置於基板上且為條狀結構。閘極結構與陰極結構彼此平行交錯排列。各陰極結構具有至少一凹槽，而發射層配置於凹槽內。場發射式平面燈源包括前述陰極板、一陽極板以及一密封件。密封件配置於陽極板與陰極板之間，並密封陽極板與陰極板。因為陰極結構上具有凹槽，所以發射層可被準確定位，以提升場發射式平面燈源的發光均勻性。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註20100676-Joanne
特殊情形(空)
序號: 5412
產出年度: 98
領域別: (空)
專利名稱-中文: 場發射式平面燈源及其陰極板
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 傅傳旭 ,林炳南 ,林偉義 ,林明宏 ,
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 7,602,114
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種陰極板，包括一基板、多個陰極結構、多個閘極結構以及一發射層。陰極結構與閘極結構配置於基板上且為條狀結構。閘極結構與陰極結構彼此平行交錯排列。各陰極結構具有至少一凹槽，而發射層配置於凹槽內。場發射式平面燈源包括前述陰極板、一陽極板以及一密封件。密封件配置於陽極板與陰極板之間，並密封陽極板與陰極板。因為陰極結構上具有凹槽，所以發射層可被準確定位，以提升場發射式平面燈源的發光均勻性。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
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備註: 20100676-Joanne
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場發射式平面燈源及其製造方法與陰極板及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 傅傳旭、林炳南、林偉義、林明宏 | 證書號碼: I263239

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場發射式平面燈源及其制造方法與陰極板及其制造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 傅傳旭 ,林炳南 ,林偉義 ,林明宏 , | 證書號碼: ZL200610007874.5

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

場發射式平面燈源及其製造方法與陰極板及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 傅傳旭、林炳南、林偉義、林明宏 | 證書號碼: I263239

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

場發射式平面燈源及其制造方法與陰極板及其制造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 傅傳旭 ,林炳南 ,林偉義 ,林明宏 , | 證書號碼: ZL200610007874.5

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# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號7116
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人吳旭智, 李青憲
核准國家中華民國
獲證日期99/03/05
證書號碼I321313
專利期間起99/03/01
專利期間訖116/03/02
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭露一種透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法。此裝置包含一規則組儲存單元、一演化式規則產生模組、和一規則觸發器。本發明先透過一大量平行之演化式計算方法，分析對話歷史記錄，訓練出一規則組，此規則組描述對話回合間的內文關係。根據此規則組，作
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7116
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人: 吳旭智, 李青憲
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/05
證書號碼: I321313
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 116/03/02
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭露一種透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法。此裝置包含一規則組儲存單元、一演化式規則產生模組、和一規則觸發器。本發明先透過一大量平行之演化式計算方法，分析對話歷史記錄，訓練出一規則組，此規則組描述對話回合間的內文關係。根據此規則組，作
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號7387
產出年度99
領域別機械運輸
專利名稱-中文植入奈米碳管之製程方法
執行單位工研院南分院
產出單位(空)
計畫名稱軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人廖仕傑 ,陳輝達 ,
核准國家中華民國
獲證日期99/03/03
證書號碼I321123
專利期間起99/03/01
專利期間訖115/09/18
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種植入奈米碳管之製程方法，其係針對奈米碳管場發射顯示器中之奈米碳管植入提出新的製作方法，該製程方法主要包括下列步驟：首先，以電磁波局部轉移介質材料而形成一介質層以提供黏著與導電之功能；然後，再將奈米碳管材料接受電磁波照射，透過電磁波光子撞擊所產生之光壓，使得奈米碳管植入於閘極孔中。利用本發明之方法，可以解決其他植入奈米碳管方法所造成之碳管密度不足、基板黏附性低以及高溫操作之缺點。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7387
產出年度: 99
領域別: 機械運輸
專利名稱-中文: 植入奈米碳管之製程方法
執行單位: 工研院南分院
產出單位: (空)
計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 ,
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/03
證書號碼: I321123
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 115/09/18
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種植入奈米碳管之製程方法，其係針對奈米碳管場發射顯示器中之奈米碳管植入提出新的製作方法，該製程方法主要包括下列步驟：首先，以電磁波局部轉移介質材料而形成一介質層以提供黏著與導電之功能；然後，再將奈米碳管材料接受電磁波照射，透過電磁波光子撞擊所產生之光壓，使得奈米碳管植入於閘極孔中。利用本發明之方法，可以解決其他植入奈米碳管方法所造成之碳管密度不足、基板黏附性低以及高溫操作之缺點。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號8374
產出年度100
領域別電資通光
專利名稱-中文多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統
執行單位工研院資通所
產出單位工研院資通所
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲
核准國家美國
獲證日期100/03/30
證書號碼7,904,736
專利期間起100/03/08
專利期間訖119/01/03
專利性質發明
技術摘要-中文本發明乃有關於多執行緒程式之電源閘控方法以及實行該方法之系統，將令不需要使用的元件進入休眠狀態，以降低元件漏電流所造成的能量耗損。本發明以編譯器技術於一多執緒程式的一可能並行發生區域之各執行緒中佈置條件式電源啟動、關閉指令。上述條件式電源啟動指令將先判斷所對應之元件是否早已被啟動，並且僅在該元件尚未被啟動時啟動該元件。上述條件式電源關閉指令將先判斷所對應之元件於該可能並行發生區域中是否仍需使用，並且在判定不需使用時關閉該元件。本發明將避免元件被不必要地重複啟動；亦可避免元件被錯誤地提早關閉。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 8374
產出年度: 100
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統
執行單位: 工研院資通所
產出單位: 工研院資通所
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲
核准國家: 美國
獲證日期: 100/03/30
證書號碼: 7,904,736
專利期間起: 100/03/08
專利期間訖: 119/01/03
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明乃有關於多執行緒程式之電源閘控方法以及實行該方法之系統，將令不需要使用的元件進入休眠狀態，以降低元件漏電流所造成的能量耗損。本發明以編譯器技術於一多執緒程式的一可能並行發生區域之各執行緒中佈置條件式電源啟動、關閉指令。上述條件式電源啟動指令將先判斷所對應之元件是否早已被啟動，並且僅在該元件尚未被啟動時啟動該元件。上述條件式電源關閉指令將先判斷所對應之元件於該可能並行發生區域中是否仍需使用，並且在判定不需使用時關閉該元件。本發明將避免元件被不必要地重複啟動；亦可避免元件被錯誤地提早關閉。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號8383
產出年度100
領域別電資通光
專利名稱-中文互動式顯示系統
執行單位工研院資訊中心
產出單位工研院資訊中心
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智
核准國家美國
獲證日期100/03/29
證書號碼7,916,129
專利期間起100/03/29
專利期間訖118/03/20
專利性質發明
技術摘要-中文"本發明係關於一種互動式顯示系統，包含反射鏡和顯示單元，並且顯示單元內建在反射鏡中，用於提供位於互動式顯示系統前方之使用者影像的輔助展示。當使用者朝互動式顯示系統移動或遠離互動式顯示系統時，使用者的影像將自動放大或縮小且顯示在顯示單元上。"
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 8383
產出年度: 100
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 互動式顯示系統
執行單位: 工研院資訊中心
產出單位: 工研院資訊中心
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智
核准國家: 美國
獲證日期: 100/03/29
證書號碼: 7,916,129
專利期間起: 100/03/29
專利期間訖: 118/03/20
專利性質: 發明
技術摘要-中文: "本發明係關於一種互動式顯示系統，包含反射鏡和顯示單元，並且顯示單元內建在反射鏡中，用於提供位於互動式顯示系統前方之使用者影像的輔助展示。當使用者朝互動式顯示系統移動或遠離互動式顯示系統時，使用者的影像將自動放大或縮小且顯示在顯示單元上。"
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號7052
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文無線環境下定位系統的新取樣點決定方法
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人徐銘駿, 崔文, 陳昭男
核准國家中華民國
獲證日期99/03/17
證書號碼I321928
專利期間起99/03/11
專利期間訖115/12/27
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭露一種無線系統中一目標裝置定位的可靠度指標給定方法。在追蹤定位時，當獲知目標裝置之無線訊號的位置觀察值後，本發明結合目標裝置之位置的後機率密度函數與目標裝置之移動模型來算出位置不確度，以得到此位置估計的可靠度指標。本發明先決定出此後機率密度函數，
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7052
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 無線環境下定位系統的新取樣點決定方法
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫
專利發明人: 徐銘駿, 崔文, 陳昭男
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/17
證書號碼: I321928
專利期間起: 99/03/11
專利期間訖: 115/12/27
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭露一種無線系統中一目標裝置定位的可靠度指標給定方法。在追蹤定位時，當獲知目標裝置之無線訊號的位置觀察值後，本發明結合目標裝置之位置的後機率密度函數與目標裝置之移動模型來算出位置不確度，以得到此位置估計的可靠度指標。本發明先決定出此後機率密度函數，
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號7080
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文通訊網路下之行動管理方法及裝置
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱新世代行動通訊技術發展計畫
專利發明人江為國, 何哲勳, 許建昌
核准國家中華民國
獲證日期99/03/19
證書號碼I321411
專利期間起99/03/01
專利期間訖115/09/28
專利性質發明
技術摘要-中文一種用於行動通訊中之通訊網路可包括至少一行動設備，所述行動設備經組態以經由通訊網路與相應主機通訊。通訊網路亦可包括封包資料閘道器，所述封包資料閘道器經組態以偵測漫遊至由封包資料閘道器所控制之無線區域網路中之行動設備的附著。此外，通訊網路可包括耦接至封包資
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7080
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 通訊網路下之行動管理方法及裝置
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫
專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/19
證書號碼: I321411
專利期間起: 99/03/01
專利期間訖: 115/09/28
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種用於行動通訊中之通訊網路可包括至少一行動設備，所述行動設備經組態以經由通訊網路與相應主機通訊。通訊網路亦可包括封包資料閘道器，所述封包資料閘道器經組態以偵測漫遊至由封包資料閘道器所控制之無線區域網路中之行動設備的附著。此外，通訊網路可包括耦接至封包資
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號7129
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文靜電放電防護電路
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人陳世宏, 柯明道
核准國家美國
獲證日期99/09/29
證書號碼7,692,907
專利期間起99/04/06
專利期間訖117/03/03
專利性質發明
技術摘要-中文本發明揭示一種能夠提供靜電放電 (Electrostatic Discharge；ESD) 防護的電路，該電路包括：一第一組電源軌，其包括一第一高電源軌與一第一低電源軌；於該第一組電源軌之間的一第一介面電路，該第一介面電路具有至少一閘極電極；一第一 ESD 裝置，其包括一耦合至該第一介面電
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7129
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 靜電放電防護電路
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫
專利發明人: 陳世宏, 柯明道
核准國家: 美國
獲證日期: 99/09/29
證書號碼: 7,692,907
專利期間起: 99/04/06
專利期間訖: 117/03/03
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明揭示一種能夠提供靜電放電 (Electrostatic Discharge；ESD) 防護的電路，該電路包括：一第一組電源軌，其包括一第一高電源軌與一第一低電源軌；於該第一組電源軌之間的一第一介面電路，該第一介面電路具有至少一閘極電極；一第一 ESD 裝置，其包括一耦合至該第一介面電
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-59117812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號7148
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文直流偏移消除電路
執行單位工研院資通所
產出單位(空)
計畫名稱WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫
專利發明人高小文
核准國家中華民國
獲證日期99/03/03
證書號碼I320993
專利期間起99/02/21
專利期間訖115/12/25
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種在信號路徑中消除直流(DC)偏移的DC偏移消除電路。信號路徑包含輸入和輸出。DC偏移消除電路包含主動式積分器，耦合在輸入與輸出之間，用以提供負回授給信號路徑。主動式積分器包含：運算放大器（op-amp）、具有電容C的電容性元件和具有電阻R的電阻性元件，且電
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7148
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 直流偏移消除電路
執行單位: 工研院資通所
產出單位: (空)
計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫
專利發明人: 高小文
核准國家: 中華民國
獲證日期: 99/03/03
證書號碼: I320993
專利期間起: 99/02/21
專利期間訖: 115/12/25
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種在信號路徑中消除直流(DC)偏移的DC偏移消除電路。信號路徑包含輸入和輸出。DC偏移消除電路包含主動式積分器，耦合在輸入與輸出之間，用以提供負回授給信號路徑。主動式積分器包含：運算放大器（op-amp）、具有電容C的電容性元件和具有電阻R的電阻性元件，且電
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
傳真: 03-5917431
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與場發射式平面燈源及其陰極板同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

用做電路基板的複合材料板

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎, 陳永志, 王先毅, 鄭龍正, 陳俊昇 | 證書號碼: ZL01116048.96

觸變成型原材料的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 范元昌, 陳俊沐, 蘇健忠, 楊智超 | 證書號碼: 207120

產生偏極化光源之導光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡明郎, 溫俊祥, 郭惠隆, 黃國棟, 吳耀庭, 胡應強, 李世光, 余良彬, 陳品誠, 劉安順 | 證書號碼: 201788

具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 丘至和, 郭惠隆, 劉怡君, 陳品誠 | 證書號碼: I223103

多孔性材料在陶瓷基板上平坦化

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 廖聖茹, 張懷祿, 洪松慰, 黃瑞呈 | 證書號碼: 6,667,072

自組成奈米介面結構在電子元件的應用

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 廖聖茹, 盧榮宏, 張懷祿, 陳炯雄, 黃依蘋, 周裕福, 潘浩然 | 證書號碼: 194413

場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 周有偉, 葉國光, 戴椿河, 張志銘 | 證書號碼: I221624

微米針頭陣列製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩 | 證書號碼: 194421

薄膜之低溫成長方法與設備

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 彭成鑑, 陳豐彥 | 證書號碼: 200889

薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東 | 證書號碼: 198451

具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳一誠, 曾永寬, 林澤勝 | 證書號碼: I224079

平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 戴建雄, 邢泰剛, 田慶成, 李耀東 | 證書號碼: I224891

積體化薄膜被動元件之製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張宏宜, 鄭世裕, 許清淵 | 證書號碼: 195323

製造含有多數個被動元件之單一積體化元件的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 鄭世裕, 陳雲田 | 證書號碼: 6,737,282

一種具有多階反射率的可覆寫相變化型光記錄媒體結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 方敦盈, 曾美榕, 鄧明人, 蔡松雨 | 證書號碼: 220521

用做電路基板的複合材料板

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎, 陳永志, 王先毅, 鄭龍正, 陳俊昇 | 證書號碼: ZL01116048.96

觸變成型原材料的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 范元昌, 陳俊沐, 蘇健忠, 楊智超 | 證書號碼: 207120

產生偏極化光源之導光模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡明郎, 溫俊祥, 郭惠隆, 黃國棟, 吳耀庭, 胡應強, 李世光, 余良彬, 陳品誠, 劉安順 | 證書號碼: 201788

具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 丘至和, 郭惠隆, 劉怡君, 陳品誠 | 證書號碼: I223103

多孔性材料在陶瓷基板上平坦化

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 廖聖茹, 張懷祿, 洪松慰, 黃瑞呈 | 證書號碼: 6,667,072

自組成奈米介面結構在電子元件的應用

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 廖聖茹, 盧榮宏, 張懷祿, 陳炯雄, 黃依蘋, 周裕福, 潘浩然 | 證書號碼: 194413

場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 周有偉, 葉國光, 戴椿河, 張志銘 | 證書號碼: I221624

微米針頭陣列製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩 | 證書號碼: 194421

薄膜之低溫成長方法與設備

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 彭成鑑, 陳豐彥 | 證書號碼: 200889

薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東 | 證書號碼: 198451

具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳一誠, 曾永寬, 林澤勝 | 證書號碼: I224079

平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 戴建雄, 邢泰剛, 田慶成, 李耀東 | 證書號碼: I224891

積體化薄膜被動元件之製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張宏宜, 鄭世裕, 許清淵 | 證書號碼: 195323

製造含有多數個被動元件之單一積體化元件的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 鄭世裕, 陳雲田 | 證書號碼: 6,737,282

一種具有多階反射率的可覆寫相變化型光記錄媒體結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 方敦盈, 曾美榕, 鄧明人, 蔡松雨 | 證書號碼: 220521

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