整合影像顯示之體溫計
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文整合影像顯示之體溫計的核准國家是中華民國, 證書號碼是200916, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是微奈米系統應用技術四年計畫, 專利發明人是李宗昇, 陳龍德, 曾國華, 吳家興.

序號	880
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	整合影像顯示之體溫計
執行單位	工研院電子所
產出單位	(空)
計畫名稱	微奈米系統應用技術四年計畫
專利發明人	李宗昇 \| 陳龍德 \| 曾國華 \| 吳家興
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	200916
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種整合影像顯示之體溫計。同時具有紅外線感測裝置與可見光感測裝置，因此可以同時偵測到紅外線訊號所代表的體溫，又可以藉由可見光得到偵測區域的圖像。藉此，除了可以得到體溫外，還可以透過圖像來判斷是否有偵測到正確位置的溫度，以及透過圖像來協助判斷偵測區域的狀況。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	楊倉錄
電話	03-5914393
傳真	03-5820444
電子信箱	yangtl@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

880

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

整合影像顯示之體溫計

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

微奈米系統應用技術四年計畫

專利發明人

李宗昇 | 陳龍德 | 曾國華 | 吳家興

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

200916

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種整合影像顯示之體溫計。同時具有紅外線感測裝置與可見光感測裝置，因此可以同時偵測到紅外線訊號所代表的體溫，又可以藉由可見光得到偵測區域的圖像。藉此，除了可以得到體溫外，還可以透過圖像來判斷是否有偵測到正確位置的溫度，以及透過圖像來協助判斷偵測區域的狀況。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

楊倉錄

電話

03-5914393

傳真

03-5820444

電子信箱

yangtl@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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王耀寬(吉興農場)	電話: 0918209022 \| 驗證狀態: 通過 \| 產品品項: 果菜、瓜菜、豆菜、大漿果、小漿果、核果、包葉菜、短期葉菜、根莖菜、花菜、梨果 \| 證書效期: 2025/02/10 \| 彰化縣線西鄉下犁村5鄰下犁路38號 @ 臺灣有機農業資訊
基隆仁二路郵局第 ○○號信箱	局名: 基隆仁二路郵局 \| 信箱樣式: 穿牆式 \| 信箱英文名稱: P.O.BOX ○○ Keelung Ren 2nd Road Keelung City 20099Taiwan ( R.O.C.) \| 電腦局名: 基隆16支 \| 郵遞區號: 20099 \| 六碼郵遞區號: 200916 @ 郵局專用信箱一覽表

王耀寬(吉興農場)

電話: 0918209022 | 驗證狀態: 通過 | 產品品項: 果菜、瓜菜、豆菜、大漿果、小漿果、核果、包葉菜、短期葉菜、根莖菜、花菜、梨果 | 證書效期: 2025/02/10 | 彰化縣線西鄉下犁村5鄰下犁路38號

@ 臺灣有機農業資訊

基隆仁二路郵局第 ○○號信箱

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電化學蝕刻停止技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 懸膜厚度尺寸變化在±1μm。 \| 潛力預估: 有替代技術,應用潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集
鎳鈷及金微電鑄及製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 工件尺寸(max.) – Au : 24 cm (W) x 18(cm D) Ni : 25 cm (W) x 30 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被... \| 潛力預估: 應用潛力高 @ 技術司可移轉技術資料集
微鰭片散熱技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Fin Size < 0.3mm, Fin Height < 10.2mm, Aspect Ratio >35 \| 潛力預估: 應用潛力中 @ 技術司可移轉技術資料集
矽晶片濕蝕刻精密對準製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩（error＜0.2度）。 \| 潛力預估: 體型微加工重要技術,應用潛力高 @ 技術司可移轉技術資料集
室溫熱像儀驅動顯示控制技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: （1）畫面速率 30Hz （2）視訊 NTSC標準 \| 潛力預估: 應用潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集
低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 製程溫度 : 300°C ，薄膜厚度 >2um \| 潛力預估: 須搭配元件技術,應用潛力低 @ 技術司可移轉技術資料集
利用單晶矽之反應性蝕刻與金屬化等製程製作微機電元件	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ‧ 深寬比 > 3 \| 潛力預估: 單一光罩製程,製程簡單,應用潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集
矽晶片蝕穿技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um ‧ 蝕刻率 > 4 um/min ‧ 蝕刻垂直度 > 89度 ‧ 深寬比 > 30 \| 潛力預估: 潛力中等 @ 技術司可移轉技術資料集

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與整合影像顯示之體溫計同分類的技術司專利資料集

產生偏極化光源之導光模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201788 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡明郎, 溫俊祥, 郭惠隆, 黃國棟, 吳耀庭, 胡應強, 李世光, 余良彬, 陳品誠, 劉安順
具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I223103 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 丘至和, 郭惠隆, 劉怡君, 陳品誠
多孔性材料在陶瓷基板上平坦化	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,667,072 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 廖聖茹, 張懷祿, 洪松慰, 黃瑞呈
自組成奈米介面結構在電子元件的應用	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194413 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 廖聖茹, 盧榮宏, 張懷祿, 陳炯雄, 黃依蘋, 周裕福, 潘浩然
場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I221624 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 徐文泰, 盧榮宏, 周有偉, 葉國光, 戴椿河, 張志銘
微米針頭陣列製造方法及其結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194421 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳玄芳, 周淑金, 葉信宏, 楊昀良, 顏佳瑩
薄膜之低溫成長方法與設備	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200889 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 彭成鑑, 陳豐彥
薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198451 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 邢泰剛, 戴建雄, 田慶成, 李耀東
具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224079 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳一誠, 曾永寬, 林澤勝
平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224891 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 戴建雄, 邢泰剛, 田慶成, 李耀東
積體化薄膜被動元件之製造方法及其結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195323 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張宏宜, 鄭世裕, 許清淵
製造含有多數個被動元件之單一積體化元件的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,737,282 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄭世裕, 陳雲田
一種具有多階反射率的可覆寫相變化型光記錄媒體結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220521 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 方敦盈, 曾美榕, 鄧明人, 蔡松雨
超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220522 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 曾美榕, 徐偉智, 蔡松雨, 鄧明人
有機電激發光裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207098 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 曾美榕, 劉仲明, 王俊凱, 林顯光

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