一種金屬內外表面電解拋光裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文一種金屬內外表面電解拋光裝置的核准國家是美國, 證書號碼是6776884, 專利性質是發明, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫, 專利發明人是林春宏, 吳錦清, 鍾允昇, 涂運泉, 吳清吉, 彭永振.

序號945
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文一種金屬內外表面電解拋光裝置
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人林春宏 | 吳錦清 | 鍾允昇 | 涂運泉 | 吳清吉 | 彭永振
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6776884
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本創作係有關於一種金屬內外表面電解拋光裝置,尤指一種一可將金屬內外表面需 要具有高潔淨度與鈍化度的部分進行電解拋光的裝置。本創作係包括:一電極裝置 ,係具有一正電極導引、一負電極導引、一正電極盤、一負電極盤及一工作負電極 ;一夾持裝置,係具有至少一不導電螺絲及至少一組上下絕緣片組;一絕緣結構, 係具有一上絕緣蓋及一下絕緣蓋。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員董月嬌
電話03-5915914
傳真03-5826534
電子信箱joycedong@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)

序號

945

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

一種金屬內外表面電解拋光裝置

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫

專利發明人

林春宏 | 吳錦清 | 鍾允昇 | 涂運泉 | 吳清吉 | 彭永振

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6776884

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本創作係有關於一種金屬內外表面電解拋光裝置,尤指一種一可將金屬內外表面需 要具有高潔淨度與鈍化度的部分進行電解拋光的裝置。本創作係包括:一電極裝置 ,係具有一正電極導引、一負電極導引、一正電極盤、一負電極盤及一工作負電極 ;一夾持裝置,係具有至少一不導電螺絲及至少一組上下絕緣片組;一絕緣結構, 係具有一上絕緣蓋及一下絕緣蓋。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

董月嬌

電話

03-5915914

傳真

03-5826534

電子信箱

joycedong@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

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刀具狀態檢測裝置及方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200610169985.6 | 專利期間起: 100/12/14 | 專利期間訖: 115/12/25 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 工研院中分院區域研發計畫-新世代智能工廠控制系統發展計畫 | 專利發明人: 張漢傑

@ 技術司專利資料集

半固態金屬射出成形之方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189315 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 彭暄 | 蔡浪富 | 梁沐旺 | 徐文敏 | 賴根賢 | 胡立德

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電腦視窗界面的快速多工控制系統

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL98125165.X | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 許文通 | 郭文章 | 王國光 | 葉昭蘭

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雙螺旋轉子總成

核准國家: 英國 | 證書號碼: GB2352777 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 方宏聲 | 馮展華 | 王漢聰 | 蔡政展 | 陳俊宏 | 陳明豐

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無電鍍形成雙層以上金屬凸塊的製備方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01118735.2 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 梁沐旺 | 曾乙修 | 蔣邦民

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無電鍍形成雙層以上金屬凸塊之製程

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6653235 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 梁沐旺 | 曾乙修 | 蔣邦民

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微工件之選料裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6817465 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 潘正堂 | 吳東權

@ 技術司專利資料集

潔淨容器之氣孔裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6732877 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 吳宗明 | 蔡昇富 | 蘇戊成

@ 技術司專利資料集

刀具狀態檢測裝置及方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200610169985.6 | 專利期間起: 100/12/14 | 專利期間訖: 115/12/25 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 工研院中分院區域研發計畫-新世代智能工廠控制系統發展計畫 | 專利發明人: 張漢傑

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半固態金屬射出成形之方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189315 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 彭暄 | 蔡浪富 | 梁沐旺 | 徐文敏 | 賴根賢 | 胡立德

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電腦視窗界面的快速多工控制系統

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL98125165.X | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 許文通 | 郭文章 | 王國光 | 葉昭蘭

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雙螺旋轉子總成

核准國家: 英國 | 證書號碼: GB2352777 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 方宏聲 | 馮展華 | 王漢聰 | 蔡政展 | 陳俊宏 | 陳明豐

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無電鍍形成雙層以上金屬凸塊的製備方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL01118735.2 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 梁沐旺 | 曾乙修 | 蔣邦民

@ 技術司專利資料集

無電鍍形成雙層以上金屬凸塊之製程

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6653235 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 梁沐旺 | 曾乙修 | 蔣邦民

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微工件之選料裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6817465 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 潘正堂 | 吳東權

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潔淨容器之氣孔裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6732877 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 吳宗明 | 蔡昇富 | 蘇戊成

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場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I221624 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰 | 盧榮宏 | 周有偉 | 葉國光 | 戴椿河 | 張志銘

微米針頭陣列製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 194421 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳玄芳 | 周淑金 | 葉信宏 | 楊昀良 | 顏佳瑩

薄膜之低溫成長方法與設備

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200889 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 彭成鑑 | 陳豐彥

薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198451 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 邢泰剛 | 戴建雄 | 田慶成 | 李耀東

具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224079 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳一誠 | 曾永寬 | 林澤勝

平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224891 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 戴建雄 | 邢泰剛 | 田慶成 | 李耀東

積體化薄膜被動元件之製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195323 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張宏宜 | 鄭世裕 | 許清淵

製造含有多數個被動元件之單一積體化元件的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,737,282 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 鄭世裕 | 陳雲田

一種具有多階反射率的可覆寫相變化型光記錄媒體結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220521 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 方敦盈 | 曾美榕 | 鄧明人 | 蔡松雨

超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220522 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾美榕 | 徐偉智 | 蔡松雨 | 鄧明人

有機電激發光裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207098 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾美榕 | 劉仲明 | 王俊凱 | 林顯光

積層質子交換膜、其製造方法以及包含該積層質子交換膜的直接甲醇進料型燃料電池

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195331 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳中屏 | 陳振鑾 | 施志哲 | 陳致源

氣體感測器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 202724 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 魏碧玉 | 賴宏仁 | 蘇平貴 | 吳仁彰 | 林鴻明 | 孫益陸

薄膜氣體擴散電極及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190616 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李文錦 | 周淑金 | 葉信宏 | 陳冠良 | 謝坤龍 | 陳銘倫

增加電荷耦合裝置影像動態範圍之新技術

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,707,499 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 貢振邦 | 林子平 | 尤智仕

場發射源元件的金屬性奈米絲或奈米管的植入方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I221624 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 徐文泰 | 盧榮宏 | 周有偉 | 葉國光 | 戴椿河 | 張志銘

微米針頭陣列製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 194421 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳玄芳 | 周淑金 | 葉信宏 | 楊昀良 | 顏佳瑩

薄膜之低溫成長方法與設備

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200889 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 彭成鑑 | 陳豐彥

薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198451 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 邢泰剛 | 戴建雄 | 田慶成 | 李耀東

具有表面奈米機能結構之材料及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224079 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳一誠 | 曾永寬 | 林澤勝

平衡式架構之薄膜體聲波共振子濾波裝置及使用該裝置之雙工器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224891 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 戴建雄 | 邢泰剛 | 田慶成 | 李耀東

積體化薄膜被動元件之製造方法及其結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195323 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張宏宜 | 鄭世裕 | 許清淵

製造含有多數個被動元件之單一積體化元件的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,737,282 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 鄭世裕 | 陳雲田

一種具有多階反射率的可覆寫相變化型光記錄媒體結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220521 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 方敦盈 | 曾美榕 | 鄧明人 | 蔡松雨

超高密度可錄式光資訊記錄媒體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220522 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾美榕 | 徐偉智 | 蔡松雨 | 鄧明人

有機電激發光裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207098 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 曾美榕 | 劉仲明 | 王俊凱 | 林顯光

積層質子交換膜、其製造方法以及包含該積層質子交換膜的直接甲醇進料型燃料電池

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195331 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳中屏 | 陳振鑾 | 施志哲 | 陳致源

氣體感測器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 202724 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 魏碧玉 | 賴宏仁 | 蘇平貴 | 吳仁彰 | 林鴻明 | 孫益陸

薄膜氣體擴散電極及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190616 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 李文錦 | 周淑金 | 葉信宏 | 陳冠良 | 謝坤龍 | 陳銘倫

增加電荷耦合裝置影像動態範圍之新技術

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,707,499 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 貢振邦 | 林子平 | 尤智仕

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